制造氮化镓基半导体发光器件的方法

    公开(公告)号:CN103426984A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310170557.5

    申请日:2013-05-10

    CPC classification number: H01L33/0075 H01L33/32

    Abstract: 本发明提供了一种制造氮化镓(GaN)基半导体发光器件的方法。在衬底上形成发光结构,并且该发光结构包括n型半导体层、有源层以及由包含镓(Ga)的氮化物半导体形成的p型半导体层。在p型半导体层上沉积金属层,并进行热处理,以形成镓-金属化合物。去除在p型半导体层上形成的镓-金属化合物。在已去除了镓-金属化合物的p型半导体层的上表面上沉积电极。镓-金属化合物的形成包括在p型半导体层的表面中形成镓空位。

    半导体发光器件和具有半导体发光器件的半导体发光设备

    公开(公告)号:CN105633257A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201510696224.5

    申请日:2015-10-23

    CPC classification number: H01L33/46 H01L33/38 H01L33/62 H01L2224/16245

    Abstract: 本发明提供了半导体发光器件和具有半导体发光器件的半导体发光设备。该半导体发光器件可包括:发光结构,其包括具有被划分为第一区和第二区的上表面的第一导电类型的半导体层、按顺序设置在第一导电类型的半导体层的第二区上的有源层和第二导电类型的半导体层;第一接触电极,其设置在第一导电类型的半导体层的第一区上;第二接触电极,其设置在第二导电类型的半导体层上;第一电极焊盘,其电连接至第一接触电极,并且具有设置在第二接触电极上的至少一部分;第二电极焊盘,其电连接至第二接触电极;以及多层反射结构,其介于第一电极焊盘与第二接触电极之间,并且包括具有不同的折射率并且交替地堆叠的多个介电层。

    半导体发光器件和具有半导体发光器件的半导体发光设备

    公开(公告)号:CN105633257B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201510696224.5

    申请日:2015-10-23

    CPC classification number: H01L33/46 H01L33/38 H01L33/62 H01L2224/16245

    Abstract: 本发明提供了半导体发光器件和具有半导体发光器件的半导体发光设备。该半导体发光器件可包括:发光结构,其包括具有被划分为第一区和第二区的上表面的第一导电类型的半导体层、按顺序设置在第一导电类型的半导体层的第二区上的有源层和第二导电类型的半导体层;第一接触电极,其设置在第一导电类型的半导体层的第一区上;第二接触电极,其设置在第二导电类型的半导体层上;第一电极焊盘,其电连接至第一接触电极,并且具有设置在第二接触电极上的至少一部分;第二电极焊盘,其电连接至第二接触电极;以及多层反射结构,其介于第一电极焊盘与第二接触电极之间,并且包括具有不同的折射率并且交替地堆叠的多个介电层。

    发光器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102569574B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201110350679.3

    申请日:2011-11-01

    Abstract: 本发明提供了一种发光器件及其制造方法。所述发光器件包括:化合物半导体结构,包括第一化合物半导体层、活性层和第二化合物半导体层;第一电极层和第二电极层,设置在所述第二化合物半导体层的顶表面上并分别电连接到所述第一化合物半导体层和所述第二化合物半导体层;绝缘层,涂覆在除了所述第一电极层和所述第二电极层所位于的部分之外的部分上;导电粘附层,形成在非导电基底的顶表面上并将所述非导电基底连接到所述第一电极层和所述绝缘层;第一电极连接层,形成在所述非导电基底和所述导电粘附层的一个侧表面上并连接到所述导电粘附层;第二电极连接层,形成在所述非导电基底和所述导电粘附层的另一侧表面上,并连接到所述第二电极层。

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