用于激光诱导热成像的膜供体装置及制造电子装置的方法

    公开(公告)号:CN100460214C

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200610121985.9

    申请日:2006-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种用于激光诱导热成像(LITI)设备的膜供体装置和利用其制造电子装置的方法。LITI设备包括腔室、基底支撑件、接触框架以及激光源或者振荡器。LITI设备将可转移层从膜供体装置转移到半成电子装置的表面上。LITI设备使用磁力提供可转移层和半成品装置的表面之间的紧密接触。在实施例中,磁性材料形成在LITI系统的隔开的两个部件中,可转移层和在其上可转移层被转移的表面介于上述两个部件之间,即,一个部件位于可转移层之上,另一部件位于所述表面之下。磁体或者磁性材料形成在LITI设备的下面两个部件中:半成品装置和膜供体装置;半成品装置和接触框架;基底支撑件和膜供体装置或者基底支撑件和接触框架。

    带有具浓度梯度的光热转换层的热量转移元件

    公开(公告)号:CN1622710A

    公开(公告)日:2005-06-01

    申请号:CN200410089751.1

    申请日:2004-11-05

    CPC classification number: B41M5/46 B41M5/38214

    Abstract: 本发明提供一种带有具浓度梯度的光热转换层的热量转移元件,含在光热转换层中的辐射吸收物质具有浓度梯度,和激光转移有机薄膜层。所述热量转移元件包括:其是支撑衬底的基衬底;形成在所述基衬底上的光热转换层,其将入射光转换为热能并包含辐射吸收物质;以及用于图像形成的转移层,其中光热转换层的辐射吸收物质具有辐射吸收物质的浓度随辐射吸收物质接近转移层而降低的浓度分布。光热转换层的辐射吸收物质具有这样一种浓度分布,即浓度随辐射吸收物质远离基衬底并接近转移层而逐渐或阶梯式减少。

    激光诱发热成像设备及激光诱发热成像方法

    公开(公告)号:CN1944070A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:CN200610163937.6

    申请日:2006-08-30

    CPC classification number: B41J2/325 H01L51/0013 H01L51/56

    Abstract: 本发明公开了一种激光诱发热成像设备及激光诱发热成像方法。激光诱发热成像设备具有处于附着框架和基底台内的电磁体,以便使供体膜紧紧附着于基底上。该激光诱发热成像设备包括处理腔室,该腔室包括供体膜和基底并用来实施将供体膜沉积到基底上的工序;具有第一电磁体的基底台,该基底台位于工序腔室内用来支撑基底;具有第二电磁体的附着框架,该附着框架位于基底台上方,供体膜和基底被设置于处理腔室内的基底台和附着框架之间;以及用于将激光输出提供给供体膜的激光振荡器。

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