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公开(公告)号：CN1923531A
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200610142214.8
申请日：2006-08-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种激光感应热成像装置和使用该装置制造有机发光二极管的方法，它能在真空状态下进行激光感应热成像时减少或防止受主衬底和施主膜之间杂质或孔隙的出现。一种激光感应热成像装置，包括：包含用于接收成像层的受主衬底的衬底台，该成像层在受主衬底上形成；电磁体；具有永磁体的、设置和层叠在衬底台上的施主膜，且电磁体与施主膜的永磁体形成磁力；用于将激光发射到施主膜的激光振荡器；以及至少在其中设有衬底台的室。
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公开(公告)号：CN1845326A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200610073278.7
申请日：2006-04-07
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L27/00 , H01L23/544 , H01L21/82 , H01L21/66
CPC classification number: H01L51/0013 , H01L27/3244 , H01L51/56
Abstract: 在平板显示器及其制造方法中，该平板显示器包括具有像素区和对准标记区的基板。将对准标记区设置在像素区的相对侧且沿着像素区。在像素区上以矩阵的方式设置单位像素阵列。对准标记区具有至少一对在其上以相对的方式设置的对准标记。与单位像素阵列的各个列一致设置对准标记对。
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公开(公告)号：CN1753587A
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN200510103792.6
申请日：2005-09-23
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L51/5012 , B23K26/066 , H01L51/0013
Abstract: 本发明公开了一种有机电致发光装置的制造方法，包括利用配备有衍射光学元件的激光辐射设备将激光束辐射到所述施主基板的预定的区域，从而在所述基板上形成有机层图案。根据本发明的有机电致发光装置的制造方法具有的优点为：当通过LITI形成有机层图案时通过利用衍射光学元件改进了激光束的能量效率；和当形成具有各种形状的激光束来制造有机电致发光装置时，通过仅替换掩模来简化有机电致发光装置的制造工艺和减少有机电致发光装置的制造成本。
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公开(公告)号：CN1266659C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200410032888.3
申请日：2004-04-13
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G09F9/30 , H01L29/786 , G09G3/20 , H05B33/00
CPC classification number: H01L27/1222 , H01L27/12 , H01L27/1214 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3262 , H01L29/78624
Abstract: 公开了一种具有改进的白平衡的平板显示器，通过使每个像素的R、G和B单位像素中驱动晶体管的漏极偏置区的掺杂浓度或偏置区的形状和尺寸有差异而能够增强白平衡。一种平板显示器包括多个像素，每个像素包括R、G和B单位像素以分别体现红(R)、绿(G)和蓝(B)色。每个单位像素包括一个具有源极/漏极区的晶体管。R、G和B单位像素的至少两个单位像素的晶体管具有不同几何结构的漏极区。在每个单位像素中，晶体管中用来驱动具有最高发光效率的发光器件的晶体管的漏极区的电阻值高于用来驱动具有较低发光效率的发光器件的晶体管的漏极区的电阻值。
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公开(公告)号：CN1769066A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510113840.X
申请日：2005-10-19
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: B41M5/46 , B41M5/265 , C23C14/048 , H01L51/0013 , H01L51/56 , Y10S430/146
Abstract: 一种用在有机发光显示器中的供体基板包括基底基板和设置在基底基板上的转印层。插置在基底基板与转印层之间的选择性发热结构。选择性发热结构具有通过光热转换发热的发热区和接触发热区的非发热区。由于使用供体基板，因此不需精确地控制激光束的宽度便可能形成微小的具有高精度的转印层图案。有机发光显示器的制造方法包括在受体基板上提供供体基板，将激光束照射到供体基板上，以及在受体基板的像素电极上形成转印层图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1538361A
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN200410032888.3
申请日：2004-04-13
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G09F9/30 , H01L29/786 , G09G3/20 , H05B33/00
CPC classification number: H01L27/1222 , H01L27/12 , H01L27/1214 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L27/3262 , H01L29/78624
Abstract: 公开了一种具有改进的白平衡的平板显示器，通过使每个像素的R、G和B单位像素中驱动晶体管的漏极偏置区的掺杂浓度或偏置区的形状和尺寸有差异而能够增强白平衡。一种平板显示器包括多个像素，每个像素包括R、G和B单位像素以分别体现红(R)、绿(G)和蓝(B)色。每个单位像素包括一个具有源极/漏极区的晶体管。R、G和B单位像素的至少两个单位像素的晶体管具有不同几何结构的漏极区。在每个单位像素中，晶体管中用来驱动具有最高发光效率的发光器件的晶体管的漏极区的电阻值高于用来驱动具有较低发光效率的发光器件的晶体管的漏极区的电阻值。
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公开(公告)号：CN100388422C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200510129143.3
申请日：2005-10-08
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L51/0013 , B41M5/38207 , B41M5/42 , B41M5/46 , B41M2205/12 , B41M2205/36 , H01L51/56 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10S430/136
Abstract: 本发明涉及施主衬底及有机发光显示器的制造方法。制造施主衬底的方法包括：准备包含至少一个转移区和至少一个非转移区的基衬，在基衬上形成光热转换层，使用遮蔽掩模在基衬的至少一个转移区中的光热转换层上选择性地沉积转移层，其中形成在该转移区中的该转移层比受主衬底上的对应显示区宽。然后为了制造有机发光显示器，使用激光诱导热成像来将图案化的转移层从施主衬底转移至受主衬底上的显示区。
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公开(公告)号：CN1923529A
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200610121986.3
申请日：2006-08-30
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: B41M5/24 , B44B7/00 , H01L21/00 , H01L21/683 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)设备和使用该设备制造电子装置的方法。该LITI设备包括室腔、基底支撑件、接触框和激光源或振荡器。所述LITI设备将可转移层从膜供体装置转移到半成品电子装置的表面上。所述LITI设备利用磁力提供在可转移层和半成品电子装置的表面之间的紧密接触。通过在LITI设备的隔开的两个组件中形成的磁性材料产生磁力，可转移层和半成品电子装置的所述表面介于所述两个组件之间。磁体或磁性材料形成在LITI系统的两个以下组件中：1)半成品装置和膜供体装置；2)半成品装置和接触框；3)基底支撑件和膜供体装置；或者4)基底支撑件和接触框。
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公开(公告)号：CN1955841A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200610137142.8
申请日：2006-08-14
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: B41M5/265 , B41M3/003 , H01L51/0013
Abstract: 一种激光诱导热成像(LITI)掩模以及利用该掩模的有机电致发光器件制造方法，提供一种LITI掩模，其中拐角区域被加固以便在受主基板的像素部分的拐角处增大受主基板和转移层之间的粘合力，以及利用这种LITI掩模的有机电致发光器件制造方法。所述LITI掩模包括：第一图案部分；和置于包括所述第一图案部分的至少一侧上顶点的部分上的第二图案部分；其中所述第二图案部分的面积范围为8至8500μm2。
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公开(公告)号：CN1944070A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610163937.6
申请日：2006-08-30
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: B41J2/325 , H01L51/0013 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种激光诱发热成像设备及激光诱发热成像方法。激光诱发热成像设备具有处于附着框架和基底台内的电磁体，以便使供体膜紧紧附着于基底上。该激光诱发热成像设备包括处理腔室，该腔室包括供体膜和基底并用来实施将供体膜沉积到基底上的工序；具有第一电磁体的基底台，该基底台位于工序腔室内用来支撑基底；具有第二电磁体的附着框架，该附着框架位于基底台上方，供体膜和基底被设置于处理腔室内的基底台和附着框架之间；以及用于将激光输出提供给供体膜的激光振荡器。
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