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公开(公告)号：CN119432511A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411054043.8
申请日：2024-08-02
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种用于从含金属的抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、一种含金属的抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用其形成图案的方法。根据一个或多个实施例的组合物包含：经至少一个氟取代的C1至C10羧酸化合物；以及有机溶剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119024654A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410424324.1
申请日：2024-04-10
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/32
Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括在衬底上涂覆含金属抗蚀剂组合物；进行干燥并加热以在衬底上形成含金属抗蚀剂膜；使用经图案化掩模对含金属抗蚀剂膜进行曝光；以及涂覆显影剂组合物以移除未曝光区，进而形成抗蚀剂图案。与显影前抗蚀剂膜的厚度相比，显影后抗蚀剂膜的厚度增加了约5％到约100％，且基于原子总数计，显影后的抗蚀剂膜的表面可包含约5at％到约20at％的选自磷元素及硫元素中的至少一者。
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公开(公告)号：CN119024641A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410640016.2
申请日：2024-05-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠和/或作为含金属抗蚀剂的显影剂组合物的组合物是无水的，并且包含有机溶剂和选自氨基酸类化合物、含硫的酸化合物和含硫的胺类化合物中的至少一种添加剂。一种组合物、使用所述组合物形成图案的方法及形成图案的系统，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布本实施例的被配置用于从含金属抗蚀剂移除边珠的所述组合物；进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂膜；对含金属的抗蚀剂膜进行曝光；以及利用含金属抗蚀剂的显影剂组合物对含金属的抗蚀剂膜进行显影。
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公开(公告)号：CN119828412A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411350373.1
申请日：2024-09-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种选自用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物及含金属抗蚀剂的显影剂组合物的组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法，所述组合物包括：包含至少两个酮基的化合物；以及包含选自乙酸酯类溶剂及醇类溶剂中的至少一者的有机溶剂，其中以组合物的总重量计，以约10重量％至约70重量％的量包括包含至少两个酮基的化合物，且以组合物的总重量计，以约30重量％至约90重量％的量包括有机溶剂。
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公开(公告)号：CN119024655A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202410573611.9
申请日：2024-05-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种含金属的光刻胶显影剂组合物包括有机溶剂和磺酰亚胺类化合物。一种利用显影剂组合物形成图案的方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物；沿着衬底的边缘涂布用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物；对所得物进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂层；对含金属的抗蚀剂层进行曝光；以及涂布含金属的光刻胶显影剂组合物，并对所述含金属的光刻胶显影剂组合物进行显影。
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公开(公告)号：CN118963076A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410593379.5
申请日：2024-05-14
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括：添加剂，包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者；羧酸类化合物；以及有机溶剂，其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。
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