公开(公告)号：CN102492938A

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201110453183.9

申请日：2011-12-30

Applicant: 东莞市中镓半导体科技有限公司

Inventor： 赵红军 ,  刘鹏 ,  毕绿燕 ,  袁志鹏 ,  张俊业 ,  王姣 ,  张国义 ,  童玉珍 ,  孙永健

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/34 ,  C30B29/38 ,  C30B25/12

Abstract: 本发明提供一种单接触式自转公转基舟，解决气相沉积生长法在材料生长过程中的厚度不均匀问题。本发明包含有基舟基座，基舟基座上的小圆凹槽内设有衬底基座，基舟基座的镂空孔内设有转动轮，转动轮顶端设有C齿轮，C齿轮与衬底基座的半圈齿轮接触，转动轮底端设有B齿轮，基舟基座下面设有一个可以改变转向的马达，马达连接A齿轮，A齿轮与B齿轮啮合。本发明可实现衬底的自转与公转，提高设备性能，在一定程度上降低工艺调试难度。

公开(公告)号：CN102492938B

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201110453183.9

申请日：2011-12-30

Applicant: 东莞市中镓半导体科技有限公司

Inventor： 赵红军 ,  刘鹏 ,  毕绿燕 ,  袁志鹏 ,  张俊业 ,  王姣 ,  张国义 ,  童玉珍 ,  孙永健

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/34 ,  C30B29/38 ,  C30B25/12

Abstract: 本发明提供一种单接触式自转公转基舟，解决气相沉积生长法在材料生长过程中的厚度不均匀问题。本发明包含有基舟基座，基舟基座上的小圆凹槽内设有衬底基座，基舟基座的镂空孔内设有转动轮，转动轮顶端设有C齿轮，C齿轮与衬底基座的半圈齿轮接触，转动轮底端设有B齿轮，基舟基座下面设有一个可以改变转向的马达，马达连接A齿轮，A齿轮与B齿轮啮合。本发明可实现衬底的自转与公转，提高设备性能，在一定程度上降低工艺调试难度。