一种超声外场作用下的TSV电镀方法及系统

    公开(公告)号:CN106011962A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610548373.1

    申请日:2016-07-13

    Applicant: 中南大学

    CPC classification number: C25D5/20 C25D7/12 C25D21/12

    Abstract: 本发明公开了一种超声外场作用下的TSV电镀方法及系统,电镀方法包括以下步骤:步骤1:将带TSV微盲孔的硅片放放置在密闭容器内,容器内填充有含有添加剂的电镀液,对该容器进行抽真空预处理,使得电镀液浸润到TSV微盲孔中;然后放置10~60分钟,等添加剂在TSV微盲孔内表面达到初步吸附平衡;步骤2:将硅片与电镀电源的负极连接在一起,放入电镀槽中,作为电镀阴极;步骤3:开启电镀电源,进行阴极铜离子沉积反应;同时开启超声电源,对TSV微盲孔内施加超声激励,利用超声的空化效应,实现TSV微盲孔孔口电镀的抑制、孔底电镀的加速,形成自底向上的完全填充。本发明能有效利用超声作为外加能场增强TSV镀铜填充。

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