公开(公告)号：CN117233910A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202311289058.8

申请日：2023-10-07

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 罗先刚 ,  赵承伟 ,  任传鑫 ,  龚天诚 ,  张煜 ,  张逸云 ,  唐燕 ,  王彦钦 ,  王长涛

IPC: G02B7/00

Abstract: 本公开提供了一种横向形变调控系统，可以应用于微纳技术领域。该系统包括：探测器采集待调控的光学元件的指定区域的横向形变数据，控制系统根据横向形变数据，利用调控算法向控制器发送驱动电压控制指令，控制器执行驱动电压控制指令，调控调控单元的驱动电压，调控单元包括依次设置的安装板、至少一个驱动模块和吸盘，吸盘包括两个相对的吸面，一个吸面上设置至少一个驱动模块，另一个吸面上贴附待调控的光学元件，驱动模块在驱动电压的作用下自身产生纵向形变，并使贴附在吸盘上的待调控的光学元件发生横向形变。改变横向调节横向形变的传统思维，从吸盘另一吸面也即背面入手，通过纵向形变调控横向形变，自动化的实现掩模横向形变调控。

公开(公告)号：CN115712228A

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN202211442774.0

申请日：2022-11-17

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 赵承伟 ,  张煜 ,  龚天诚 ,  王彦钦

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开提供一种图案形成装置的调节与保护系统及方法，该系统包括：安装板(1)；吸盘(2)，固定于所述安装板(1)的下方，用于吸附和释放图案形成装置(3)；调节机构(5)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，用于调节所述图案形成装置(3)在平面上的移动和旋转，以使所述图案形成装置(3)到达目标位置；保护机构(6)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，并与所述调节机构(5)错开设置，用于承托保护所述图案形成装置(3)避免其在工作过程中掉落。本公开的系统可实现图案形成装置目标位置的高精度调节，并提供常开保护。

公开(公告)号：CN116007515A

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN202211742364.8

申请日：2022-12-30

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 褚燕武 ,  龚天诚 ,  王彦钦 ,  赵承伟 ,  张煜 ,  贾桂园

IPC: G01B11/14 ,  G06F18/10 ,  G06F18/2131 ,  G06F18/24

Abstract: 本公开提供了一种白光干涉检焦系统和解调方法，该系统包括：白光光源；模板，其上制备有图形；基板，放置于承片台上；光谱仪，用于透过图形采集模板与基板之间的白光干涉信号；控制系统，用于根据干涉信号采用傅里叶变换解调方法、互相关计算解调方法或模型传递解调方法计算模板与基板之间的间隙值。本公开利用该检焦系统，在较大的距离测量范围内，根据反射光谱的不同形状，采取不同的解调方法，该间隙解调方法消除了图形化表面对检焦光谱的影响，突破了因检焦窗口导致的对模板图形布局的限制。