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公开(公告)号：CN110911320B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN201911251679.0
申请日：2019-12-09
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种冷却装置及其控制方法、半导体加工设备。冷却装置用于对托盘进行冷却，其包括腔室以及设置于腔室内的驱动单元、冷却单元及加热单元；所述驱动单元用于驱动所述托盘移动，以带动所述托盘选择性位于第一位置或第二位置；所述冷却单元用于对所述托盘进行冷却，当所述托盘位于第一位置时以第一速率对所述托盘降温，当所述托盘位于第二位置时以第二速率对所述托盘降温，且所述第二速率大于所述第一速率；所述加热单元用于选择性对所述托盘进行加热，以调整所述冷却单元对所述托盘冷却的速率。本申请实施例实现了稳定托盘的冷却速度，从而可以有效提高冷却效率，进而使得托盘的冷却不再成为影响产能的瓶颈。
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公开(公告)号：CN111128845B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201911292324.6
申请日：2019-12-16
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 马迎功 , 董博宇 , 郭冰亮 , 武学伟 , 武树波 , 赵晨光 , 翟洪涛 , 杨依龙 , 杨健 , 甄梓杨 , 宋玲彦 , 孙鲁阳 , 李新颖 , 刘玉杰 , 许文学 , 张璐 , 崔亚欣
IPC: H01L21/687 , C23C14/06 , C23C14/35 , C23C14/50
Abstract: 一种应用于薄膜沉积装置的托盘，包括：第一盘体、第二盘体以及连接组件。第一盘体包括用于承载晶圆的多个通孔，且第一盘体下表面设置有多个第一槽位。第二盘体的尺寸与第一盘体的尺寸相对应，且第二盘体上表面设置有多个第二槽位。第二槽位的形状及位置与第一槽位的形状及位置相对应。连接组件位于一一对应的第一槽位及第二槽位之间，用于实现第一盘体和第二盘体的固定连接。第一盘体采用第一材质制备，第二盘体采用第二材质制备,且第一材质的热膨胀系数与待沉积薄膜的热膨胀系数的相对偏差值小于20％，以减少对所述晶圆沉积薄膜时的应力影响；第一材质的体积电阻率大于第二材质的体积电阻率，以使在对晶圆沉积薄膜时第一盘体形成绝缘体。
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公开(公告)号：CN111501004B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202010387661.X
申请日：2020-05-09
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种温度控制方法和系统、半导体设备，该方法包括以下步骤：S1，使用加热装置对被加工工件进行加热，且在加热过程中根据预设的功率调节规则调节加热装置的输出功率，直至被加工工件的温度达到预设的第一目标值，其中，第一功率调节规则用于控制加热装置的输出功率随被加工工件的温度升高而增大；S2，使用加热装置继续对被加工工件进行加热，且在加热过程中实时检测被加工工件的温度值，并根据该温度值调节加热装置的输出功率，以使被加工工件的温度达到预设目标值。本发明提供的温度控制方法和系统的技术方案，可以在保证加热速率的基础上，减小加热功率的波动，有效减少碎盘的发生。
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公开(公告)号：CN112063979A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201910503297.6
申请日：2019-06-11
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 武学伟
Abstract: 一种半导体加工装置，所述半导体加工装置包括腔室、置于所述腔室内的多根支柱以及用于支撑所述多根支柱的基座，所述多根支柱用于承载工作件，所述半导体加工装置包括检测装置，所述检测装置耦接至所述多根支柱中的至少两根支柱，通过对所述至少两根支柱中任意两根支柱进行侦测，来判断所述工作件的状态。以及一种相关磁控溅射装置。解决了现有技术不能实时检测工作件(如托盘)的状态所产生的问题。
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公开(公告)号：CN111128845A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911292324.6
申请日：2019-12-16
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 马迎功 , 董博宇 , 郭冰亮 , 武学伟 , 武树波 , 赵晨光 , 翟洪涛 , 杨依龙 , 杨健 , 甄梓杨 , 宋玲彦 , 孙鲁阳 , 李新颖 , 刘玉杰 , 许文学 , 张璐 , 崔亚欣
IPC: H01L21/687 , C23C14/06 , C23C14/35 , C23C14/50
Abstract: 一种应用于薄膜沉积装置的托盘，包括：第一盘体、第二盘体以及连接组件。第一盘体包括用于承载晶圆的多个通孔，且第一盘体下表面设置有多个第一槽位。第二盘体的尺寸与第一盘体的尺寸相对应，且第二盘体上表面设置有多个第二槽位。第二槽位的形状及位置与第一槽位的形状及位置相对应。连接组件位于一一对应的第一槽位及第二槽位之间，用于实现第一盘体和第二盘体的固定连接。第一盘体采用第一材质制备，第二盘体采用第二材质制备,且第一材质的热膨胀系数与待沉积薄膜的热膨胀系数的相对偏差值小于20％，以减少对所述晶圆沉积薄膜时的应力影响；第一材质的体积电阻率大于第二材质的体积电阻率，以使在对晶圆沉积薄膜时第一盘体形成绝缘体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108728791B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201710277996.4
申请日：2017-04-25
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种进气机构及其进气方法和半导体处理设备。该进气机构环绕设置在腔室内的基台周围，基台周围沿基台径向由内向外依次环绕设置有压环、上屏蔽结构和下屏蔽结构，基台、压环、上屏蔽结构和下屏蔽结构在腔室内围成工艺区域，进气机构包括调节结构，调节结构位于上屏蔽结构和下屏蔽结构之间，且能沿基台的轴向上下移动，以分别在工艺区域内形成不同路径的进气通道，分别满足不同的工艺要求。该进气机构通过不同路径的进气通道能够调节经其进入工艺区域的反应气体的流量不同，从而能够使不同工艺阶段沉积形成的膜层部分均能满足相应阶段的成膜工艺要求。
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公开(公告)号：CN110544645A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201810522206.9
申请日：2018-05-28
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67 , C23C16/30 , C23C16/455 , C23C16/50
Abstract: 本发明公开了一种工艺腔室用匀流件、工艺腔室和半导体处理设备。包括相连通的匀流主体管和插接管，其中，所述插接管的一端与所述匀流主体管连通，另一端用于与所述工艺腔室的进气口连通；所述匀流主体管呈环状结构，所述环状结构的周向上间隔设置有多个匀流出气口，以对经所述进气口进入所述匀流主体管内的工艺气体进行匀流。通过所设置的多个匀流出气口对工艺气体进行匀流后再扩散至工艺腔室内，从而可以使得工艺气体在工艺腔室内均匀分布，进而可以产生密度均匀的等离子体，提高所沉积膜层的厚度的均匀性，降低产品的制作成本。
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公开(公告)号：CN107543487B
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201610480403.X
申请日：2016-06-27
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种原位膜厚监测方法及装置，该方法用于监测沉积在工艺腔室内的基片上的金属薄膜的厚度，其特征在于，工艺时，实时获取所述金属薄膜的电阻R，通过计算来获得所述金属薄膜的实时厚度t。本发明提供了一种新的原位膜厚监测方法，该方法基于方块电阻测试的思想，通过获取金属薄膜的电阻来计算获得金属薄膜的厚度，可实时监测金属薄膜的沉积过程，相对于现有技术中的通过电子束照射镀膜分析衍射图样的方法，本发明中的监测方法检测速度快、步骤简单、易于实施。
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公开(公告)号：CN108020323A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201610973541.1
申请日：2016-11-04
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: G01J5/06
CPC classification number: G01J5/061 , G01J5/06 , G01J2005/065
Abstract: 本发明提供了一种测温装置，测温装置包括红外测温传感器和遮光筒，遮光筒包括筒状本体，还包括降温部件和/或隔离部件；降温部件设置在筒状本体上，用于将筒状本体降至设定的温度范围，并保持在所述温度范围；隔离部件设置在筒状本体和热源之间，用于将筒状本体与热源隔离。本发明还提供了一种工艺腔室，包括本发明提供的测温装置。本发明提供的测温装置提高了红外测温传感器测量的精确性；根据本发明的工艺腔室，在采用热电偶对托盘进行PID温度控制，红外测温传感器进行监控的情况下，可以使红外测温传感器测量的温度与热电偶测量的温度相差不大，甚至相同。
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公开(公告)号：CN104752260B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201310749675.1
申请日：2013-12-31
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 武学伟
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , B08B7/0071 , H01L21/67126 , H01L21/6719
Abstract: 本发明提供一种隔离窗固定结构，用于将所述隔离窗固定设置在腔室上方，所述隔离窗固定结构包括固定件，所述固定件包括第一固定部和设置在所述第一固定部外沿的第二固定部，所述第二固定部用于固定设置在所述腔室的侧壁上，所述第一固定部用于设置在所述隔离窗上方并与所述隔离窗固定连接。相应地，本发明还提供一种腔室。本发明避免了现有技术中隔离窗可能在竖直方向移动发生碰撞导致破裂的问题。同时，本发明中隔离窗固定设置在第一固定部的下方，避免了隔离窗受到压力后过度挤压其下方的部件。此外，本发明还能促进隔离窗的散热，能够进一步保护隔离窗。
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