一种采用单孔扫描方式的面阵探测器简便定焦方法

    公开(公告)号:CN119556461A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411683837.0

    申请日:2024-11-22

    Abstract: 一种采用单孔扫描方式的面阵探测器简便定焦方法,属于探测器像面定焦领域。本发明实现方法为:在物镜前放置带小孔的黑屏,入射光通过小孔后经过物镜形成光斑,探测器采集光斑图像,通过质心计算算法得到光斑质心位置;竖直方向移动黑屏,采集小孔不同位置的光斑图像,分别计算得到各个光斑图像的光斑质心位置,与初始形成的光斑质心的位置比较,判断出探测器此时是处于焦前还是焦后;根据离焦量公式得到离焦量;若是各个质心的位置之间存在偏差,调整安装位置;若移动前后对应光斑的质心处于探测器的同一位置,此时探测器恰好处于物镜的焦平面上,说明探测器已经安装到位,即实现面阵探测器简便定焦。本发明定位精度能够达到百分之一像素。

    基于双脉冲源的溅射沉积光学薄膜方法及装置

    公开(公告)号:CN119265509A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411245832.X

    申请日:2024-09-06

    Abstract: 本发明公开的一种基于双脉冲源的溅射沉积光学薄膜方法及装置,属于光学制造中的光学薄膜制造技术领域。本发明针对不同基底和靶材,调节相应的沉积参数,实现多种光学薄膜的沉积制备;双脉冲源分为主源和辅源,主脉冲源产生的高能量荷能粒子轰击靶材表面,在靶材表面的几个原子层内发生级联碰撞,粒子与靶材发生能量交换,当靶材原子获得足够的能量克服自身的原子势垒后,离开靶材表面,沉积在基底表面形成薄膜,辅脉冲源产生的高能粒子轰击正在生长的薄膜表面,膜料分子与高能粒子发生能量和动量转移而获得较大动能,使得薄膜附着性增强,表面排布更加致密。本发明能够实现多中光学薄膜制备,同时还能提高光学薄膜的填充密度和使用性能。

    一种原位生长钙钛矿量子点薄膜及其制备方法和在荧光无损检测中的应用

    公开(公告)号:CN118222274A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410285002.3

    申请日:2024-03-13

    Abstract: 一种原位生长钙钛矿量子点薄膜及其制备方法和在荧光无损检测中的应用。本发明属于钙钛矿量子点薄膜领域。本发明的目的是为了解决现有钙钛矿量子点薄膜稳定性差、均匀性低和灵敏度不高的技术问题。本发明的钙钛矿量子点薄膜由CsPbBr3、2‑巯基乙胺盐酸盐和PMMA组成的前驱体溶液直接涂覆后依次经低温加热和退火而成。本发明的钙钛矿量子点薄膜能够在低温下原位生长到元件表面,相比于直接在元器件表面涂敷量子点,可以更好的与微纳损伤耦合。此外,具有较高的空气和水稳定性以及均匀性,可应用于光学元件亚表面缺陷荧光无损检测中,紫外LED激发元器件表面量子点薄膜,光学显微镜辅助观察。精度高,效率高。

    用于绝对距离测量的二维色散条纹分析方法

    公开(公告)号:CN101221042A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200810000577.7

    申请日:2008-01-23

    Abstract: 一种用于毫米量级的绝对距离测量方法,属光电技术领域。本发明采用色散瑞利干涉仪光路,通过CCD摄像机采集干涉条纹,并利用色散方向的条纹信息进行绝对距离粗测,利用基线方向的干涉条纹信息进行精确计算,最终实现绝对光程差的高精度测量。该方法测量迅速,原理简明,鲁棒性好,量程大,精度高,可用于高精度块规的标定、大型分块式望远镜的共相位检测等方面。

    一种离轴抛物面镜离轴量的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN111272083B

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN202010211633.2

    申请日:2020-03-24

    Abstract: 本发明涉及一种离轴抛物面镜离轴量的测量装置及测量方法,属于光学元器件测量技术领域。本发明针对背面垂直于光轴的离轴抛物面镜,基于激光干涉仪和激光器,利用光的直线传播原理,分别定位离轴抛物面镜机械中心和抛物面镜光轴的位置,通过对两个位置距离的测量,实现对离轴抛物面离轴量的测量。本发明能够实现在一般光学实验室中即可方便有效、高效快速的完成离轴量测量,同时,降低了测量装置的复杂性。

    一种离轴照明的线视场色散样板干涉仪

    公开(公告)号:CN106931901B

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201710026407.5

    申请日:2017-01-13

    Inventor: 王姗姗 朱秋东

    Abstract: 本发明涉及一种离轴照明的线视场色散样板干涉仪,属于光电检测技术领域。本发明的干涉仪,每次可对被测玻璃表面的一条母线误差进行检测,辅以截线方向一维扫描,可对具有直线或近似直线母线的双面玻璃、反射镜等进行二维面形误差检测。测量结果无平行表面串扰影响,精度高、量程大、空间分辨率高,且可局部加密采样点,适用于大规模工业生产的流水线高速检测。

    一种球面面形误差和曲率半径误差在线检测装置和方法

    公开(公告)号:CN108007380B

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201711183639.8

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 本发明公开了一种球面面形误差和曲率半径误差在线检测装置和方法,该装置包括:样板、待测件、球面LED光源、干涉条纹采集单元、球面面形误差和曲率半径误差检测单元和控制单元;球面LED光源的正面为照射面且相对样板设置,用于提供多种波长的均匀照明光,并以其中至少两种被选定的波长的照明光源分时逐次照射样板和待测件;干涉条纹采集单元用于采集和输出等厚干涉条纹图像;球面面形误差和曲率半径误差检测单元用于获得不同波长照明下等厚干涉条纹图像上同一点的强度变化,得到该点的绝对光程差,并以此类推确定待测件的被测面的上所有点的绝对光程差,进而得到待测件的被测面的面形误差和曲率半径误差。本发明能够实现客观、自动化、高精度、低成本的球面面形误差和曲率半径误差的检测。

    基于样板干涉法的平面面形误差在线检测装置和方法

    公开(公告)号:CN107741205B

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201711183671.6

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 本发明公开了一种基于样板干涉法的平面面形误差在线检测装置和方法,该装置包括:样板、待测件、平面LED光源、干涉条纹采集单元、平面面形误差检测单元和控制单元;平面LED光源的正面为照射面且相对样板设置;平面LED光源用于提供多种波长的均匀照明光,并以其中至少两种被选定的波长的照明光源分时逐次照射样板和待测件;干涉条纹采集单元用于采集和输出等厚干涉条纹图像;平面面形误差检测单元用于获得不同波长照明下等厚干涉条纹图像上同一点的强度变化,得到该点的绝对光程差,并以此类推确定被测面上所有点的绝对光程差而得到待测件的被测面的面形误差。本发明能够实现客观、自动化、高精度、低成本的平面光学元件面形误差的检测。

    用于钝化CsI(TI)晶体表面缺陷的抛光工艺

    公开(公告)号:CN109262377A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811358652.7

    申请日:2018-11-15

    Abstract: 本发明公开了一种用于钝化CsI(TI)晶体表面缺陷的抛光工艺,其包括:步骤1,清洁CsI(TI)晶体;步骤2,吹干CsI(TI)晶体;步骤3,将CsI(TI)晶体放入离子体加工设备的反应室中;步骤4,利用等离子体气体加工设备对CsI(TI)晶体加工处理,其包括:步骤41,往离子体加工设备输入氦气、六氟化硫与四氟化碳的混合气体,氦气和混合气体形成等离子体气体;步骤42,将等离子体气体喷射到CsI(TI)晶体的表面;步骤5,返回步骤4,循环加工处理已加工处理过的CsI(TI)晶体;步骤6,干燥处理经由步骤5处理好的CsI(TI)晶体放入干燥箱。本发明能够在保持面形精度与表面粗糙度的前提下,高效稳定地去除CsI(TI)晶体表面材料,钝化表面划痕,从而有效地提升CsI(TI)晶体的抗辐照损伤能力。

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