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公开(公告)号：CN101813949B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200910111081.1
申请日：2009-02-20
Applicant: 厦门大学
IPC: G05D21/02
Abstract: 溶液pH的电化学原位调控方法。提供一种原位、实时调控溶液全局的溶液pH的电化学原位调控方法和装置。装置设有电解池、恒电流仪，电解池内设有钯金属膜并将电解池隔离成多个电极室，电极室串联，最外两个电极室接Ag/AgCl电极。在Ag/AgCl电极之间加极化电流，左电极室的Pd膜为阳极，Pd膜体相中的原子氢扩散到表面而被氧化为H+，电极上AgCl被还原为Ag；右电极室的Pd膜表面为阴极，H+还原反应为氢原子，吸附到Pd膜表面后进入Pd膜体相，电极上的Ag被氧化为AgCl；改变极化电流极性，左电极室的Pd膜表面由阳极变为阴极，右电极室的Pd膜由阴极变为阳极，电极室中溶液的pH分别发生相应变化。
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公开(公告)号：CN101880907B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201010219037.5
申请日：2010-07-07
Applicant: 厦门大学
IPC: C25F3/12 , H01L21/3063
CPC classification number: C25F3/14 , C03C15/02 , C25F3/00 , C25F3/12 , C25F7/00 , H01L21/02024 , H01L21/30604 , H01L21/30612 , H01L21/32115 , H01L21/7684
Abstract: 纳米精度的电化学整平和抛光加工方法及其装置，涉及一种电化学刻蚀整平和抛光技术。装置设有具有纳米平整精度的刀具、可将刻蚀整平剂液层厚度精确控制在纳米尺度内的电化学反应控制体系、溶液循环装置、溶液恒温装置和自动化控制系统。制备具有纳米平整精度的刀具作为电化学工作电极，并与工件置于容器底部；刀具浸入溶液，启动电化学系统，在刀具表面生成刻蚀整平剂，将刀具表面刻蚀整平剂液层压缩至纳米量级厚度，再调控刻蚀整平剂液层厚度；驱动三维微驱动装置，将刀具不断地向工件逼近，调控工件表面与刀具之间的距离和平行度；将刀具向工件表面移动，使刀具表面的约束刻蚀整平剂液层与工件表面接触，直至整个工件表面被刻蚀整平和抛光完毕。
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公开(公告)号：CN100564241C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200710008512.2
申请日：2007-01-30
Applicant: 厦门大学
Abstract: GaAs上微/纳光学元件制备方法，涉及一种微/纳光学元件。提供一种低成本、方法简单且无需掩模光刻等复杂工艺，并可一次性在半导体GaAs材料表面直接刻蚀加工微/纳光学阵列元件的制备方法。用具有微/纳光学阵列的石英为原始母版，将石英微/纳光学元件上的浮雕结构精确复制到高分子材料表面，并依次溅射Ti层和Pt层，表面金属化得模板电极；将模板电极作为工作电极，调节模板电极与被加工工件GaAs片平行；将电化学刻蚀溶液加入电解池，在模板电极上产生刻蚀剂，利用刻蚀溶液中的约束剂将刻蚀剂层厚度压缩至微米级或者纳米级厚度；控制GaAs片向模板电极表面移动，直至模板电极上的结构全部复制于被加工工件表面，控制两者分离。
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公开(公告)号：CN100348324C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200410094575.0
申请日：2004-11-10
Applicant: 厦门大学
Abstract: 阵列微量多通道移液器，涉及一种微小体积液体量取转移装置，提供可大批量量取、转移和分配微小体积液体的移液器。设有基板，基板上设通道，在阀通道底部处设取样针，取样针的量液通道与阀通道相通，量液通道横截面积大于量液通道与阀通道相交处横截面积，为数平方微米至数平方毫米。可作为实验室多通道微量移液管、多通道微量进样装置、二维阵列点样装置等。由于溶液进入阀通道需比进入量液通道大的压力，调节适当压力可使溶液充满量液通道而不进入阀通道，即阀通道起阀门作用。撤去负压或施加正压，可使量液通道中的溶液流出，完成溶液的量取、转移和分配。移液体积可达微升至皮升，平行通量极大，容易洗涤，可重复或一次性使用，减少交叉污染。
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公开(公告)号：CN1410673A
公开(公告)日：2003-04-16
申请号：CN01135525.5
申请日：2001-10-09
Applicant: 厦门大学
Abstract: 涉及一种利用电渗流的装置，尤其是一种微型电渗泵。设有泵体，泵体内设流体通道，流体通道设至少3个正负相间的电极室，每两个电极室之间设置多孔芯，多孔芯表面带正或负电荷，每个电极室通过导电体与电源连接，电极室中充有电解质溶液。泵体可为组装，连续或芯片式结构，通道可为管道、沟道或芯片式微沟道，组装方便，响应快，能在低电压驱动下产生高中低液压，流量范围广，芯片化，便于操作，泵的工作寿命长，可广泛用于化学化工、生物医学、环境监测等领域的流动注射系统的流体驱动泵。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1119739A
公开(公告)日：1996-04-03
申请号：CN95107524.1
申请日：1995-07-04
Applicant: 厦门大学
IPC: G01N27/26
Abstract: 涉及一种电化学方法测试或分析材料的装置，M×N阵列电极和参考电极置入电解池，阵列电极的引出端接多通道模拟开关，其输出通过A/D转换后输至微计算机，微计算机输出的控制信号通过数字I/O及电平转换器接多通道模拟开关。可直接原位测量金属/聚合物界面的电位分布，由此可研究腐蚀物种在聚合物涂层中的传输过程，可研究聚合物涂层的不均一性及缺陷分布，研究金属/聚合物界面的腐蚀电化学机理，评测聚合物涂层的耐蚀性能。
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公开(公告)号：CN105152123B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201510458556.X
申请日：2015-07-30
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本发明公开了一种半导体表面微纳米结构的加工方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)在纳米压印模板的工作表面镀上一层金属催化剂，形成压印模板电极；(2)用该压印模板电极在恒温的金属辅助刻蚀溶液中与待加工的半导体材料通过直接压印的接触方式形成肖特基结，金属辅助刻蚀溶液中的氧化剂在金属表面自发还原的同时，向上述半导体材料注入空穴，使之发生氧化分解，从而将压印模板表面的微纳米结构直接批量复制到上述半导体材料的表面。本发明的加工方法可以使金属辅助刻蚀能够以电化学纳米压印的工作模式进行加工，能够在半导体表面直接高效、批量的复制准三维结构、多级台阶结构和连续曲面结构。
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公开(公告)号：CN103274386B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201310198697.3
申请日：2013-05-24
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种可控孔径的多孔电极及其制备方法，涉及多孔电极。所述可控孔径的多孔电极由碳材料组成，呈3D网络骨架薄膜，平均孔径集中在0.1～5μm之间，可控孔径的多孔电极的厚度可为50～0.1mm；可控孔径的多孔电极的孔隙率大于80%。将碳材料粉末与粘结剂、造孔剂共混，加入分散剂，搅拌直至变为颗粒状，得颗粒状湿粉；利用滚轴对得到的颗粒状湿粉进行反复滚压成片状薄膜，折叠后继续滚压，直至电极薄膜成型后，烘烧，即得可控孔径的多孔电极。制备工艺简单，电极孔径可控，成本低廉，无环境污染，可广泛应用于高充放电倍率液相储能电池、双电层超级电容器、燃料电池以及其他含有多孔电极作为组件的电池类型。
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公开(公告)号：CN104018211A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201410269475.0
申请日：2014-06-17
Abstract: 本发明公开了一种纳米精度的电化学刻蚀加工方法，其包括如下步骤：在模板电极或工件表面固定一层氧化还原水合凝胶聚合物超薄膜；将模板电极和工件浸入工作溶液，叠放于容器底部，使模板电极表面和工件表面分别与软质聚合物超薄膜的两面保持自然紧密接触；另在容器内设辅助电极和参比电极，并与电化学控制仪相连；启动电化学控制仪，调控模板电极的电位，电化学氧化超薄膜中的电化学活性基团，由其快速地化学氧化与之接触的工件表面夺取电子，而工件表面失去的电子被超薄膜慢速地传递至模板电极，使刻蚀持续进行；刻蚀完毕后，关闭电化学控制仪，移开模板电极，即可。本方法能以纳米精度将模板电极表面微结构图案的互补结构刻蚀加工在工件表面。
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公开(公告)号：CN1772388A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200410094575.0
申请日：2004-11-10
Applicant: 厦门大学
IPC: B01L3/02
Abstract: 阵列微量多通道移液器，涉及一种微小体积液体量取转移装置，提供可大批量量取、转移和分配微小体积液体的移液器。设有基板，基板上设通道，在阀通道底部处设取样针，取样针的量液通道与阀通道相通，量液通道横截面积大于量液通道与阀通道相交处横截面积，为数平方微米至数平方毫米。可作为实验室多通道微量移液管、多通道微量进样装置、二维阵列点样装置等。由于溶液进入阀通道需比进入量液通道大的压力，调节适当压力可使溶液充满量液通道而不进入阀通道，即阀通道起阀门作用。撤去负压或施加正压，可使量液通道中的溶液流出，完成溶液的量取、转移和分配。移液体积可达微升至皮升，平行通量极大，容易洗涤，可重复或一次性使用，减少交叉污染。
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