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公开(公告)号:CN103378108B
公开(公告)日:2017-06-23
申请号:CN201210269091.X
申请日:2012-07-30
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L27/146 , H01L25/16
CPC classification number: H01L27/1469 , H01L25/16 , H01L27/14618 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14632 , H01L27/14634 , H01L27/14636 , H01L27/1464 , H01L27/14643 , H01L27/14683 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了用于封装背照式(BSI)图像传感器或者具有专用集成电路(ASIC)的传感器器件的方法和装置。根据实施例,传感器器件可不使用载具晶圆而与ASIC面对面接合在一起,其中传感器的接合焊盘相对应地以一对一的方式与ASIC的接合焊盘对准。传感器的一列像素可共用通过共用的内金属线连接的接合焊盘。接合焊盘可以具有不同的尺寸并且配置在以相互分离的不同行中。可增加附加的伪焊盘以增强传感器和ASIC之间的接合。本发明还公开了用于图像传感器封装的方法和装置。
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公开(公告)号:CN104867895A
公开(公告)日:2015-08-26
申请号:CN201410344902.7
申请日:2014-07-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/488 , H01L21/60
CPC classification number: H01L24/80 , H01L24/02 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/89 , H01L25/0657 , H01L2224/02181 , H01L2224/0219 , H01L2224/0345 , H01L2224/03452 , H01L2224/0346 , H01L2224/03616 , H01L2224/05082 , H01L2224/05083 , H01L2224/0516 , H01L2224/05546 , H01L2224/05547 , H01L2224/05559 , H01L2224/05624 , H01L2224/05639 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/05684 , H01L2224/0603 , H01L2224/06517 , H01L2224/08147 , H01L2224/80011 , H01L2224/80012 , H01L2224/80013 , H01L2224/80014 , H01L2224/8084 , H01L2224/80895 , H01L2224/80896 , H01L2224/80948 , H01L2224/8192 , H01L2224/94 , H01L2225/06524 , H01L2924/01026 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/04953 , H01L2924/12042 , H01L2924/00 , H01L2924/00014 , H01L2224/80001
Abstract: 在本发明中提供了一种半导体器件及其制造方法。在实施例中,在第一衬底上方形成一个或多个钝化层。在钝化层中形成凹槽且在凹槽中形成一个或多个导电焊盘。在钝化层和导电焊盘之间形成一个或多个阻挡层。将第一衬底的导电焊盘与第二衬底的导电焊盘对准,并且使用直接接合方法使第一导电焊盘与第二导电焊盘接合。本发明还涉及晶圆接合工艺和结构。
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公开(公告)号:CN104051288A
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN201310485415.8
申请日:2013-10-16
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/60
CPC classification number: H01L24/80 , H01L21/187 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/08 , H01L25/50 , H01L2224/03462 , H01L2224/038 , H01L2224/03845 , H01L2224/05026 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05571 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/05655 , H01L2224/08112 , H01L2224/08121 , H01L2224/08147 , H01L2224/80986 , H01L2225/06513 , H01L2924/00014 , H01L2924/351 , H01L2224/80896 , H01L2224/80801 , H01L2924/00012 , H01L2924/01032 , H01L2924/01013 , H01L2924/053 , H01L2224/05552 , H01L2924/00
Abstract: 公开一种用于混合晶圆接合的方法。在一个实施例中,公开了一种方法,包括:在至少两个半导体衬底之上的介电层中形成金属焊盘层;对半导体衬底执行化学机械抛光,以暴露金属焊盘层的表面,并且平坦化介电层,以在每个半导体衬底上形成接合表面;对至少两个半导体衬底执行氧化工艺,以氧化金属焊盘层,形成金属氧化物;执行蚀刻以去除金属氧化物,使金属焊盘层的表面从至少两个半导体衬底中的每个的介电层的接合表面凹陷;使至少两个半导体衬底的接合表面在物理上接触;以及执行热退火,以在半导体衬底的金属焊盘之间形成接合。公开了附加方法。
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公开(公告)号:CN103915422A
公开(公告)日:2014-07-09
申请号:CN201310105508.3
申请日:2013-03-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC classification number: B81C1/00238 , B81B7/0038 , B81B2207/017 , B81C2203/0792
Abstract: 本发明公开了用于半导体结构的方法和装置。一种半导体结构可以包括第一器件和第二器件,第一器件具有其上形成有第一接合层的第一表面并且第二器件具有其上形成有第二接合层的第一表面。第一接合层可以提供到第一器件中的至少一个电气器件的导电路径。第二接合层可以提供到第二器件中的至少一个电气器件的导电路径。第一器件或第二器件中的一个可以包括MEMS电气器件。第一和/或第二接合层可以由吸气材料形成,该吸气材料可以提供逸气吸收。
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公开(公告)号:CN103378109A
公开(公告)日:2013-10-30
申请号:CN201210272395.1
申请日:2012-08-01
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L27/146
CPC classification number: H01L27/14683 , H01L27/14618 , H01L27/14634 , H01L27/1469 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种背照式图像传感器包括光电二极管以及位于第一芯片中的第一晶体管,其中,第一晶体管电耦合至光电二极管。背照式图像传感器进一步包括在第二芯片中形成的第二晶体管以及在第三芯片中形成的多个逻辑电路,其中,第二芯片堆叠在第一芯片上并且第三芯片堆叠在第二芯片上。逻辑电路、第二晶体管和第一晶体管通过多个接合焊盘和通孔相互耦合。本发明还提供了用于垂直集成的背照式图像传感器的装置。
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公开(公告)号:CN104037102B
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201310226966.2
申请日:2013-06-07
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/603
CPC classification number: H01L24/03 , H01L24/08 , H01L24/74 , H01L24/80 , H01L24/94 , H01L2224/08145 , H01L2224/74 , H01L2224/7501 , H01L2224/7525 , H01L2224/75251 , H01L2224/75252 , H01L2224/753 , H01L2224/757 , H01L2224/7598 , H01L2224/80011 , H01L2224/80013 , H01L2224/80065 , H01L2224/80075 , H01L2224/80121 , H01L2224/80204 , H01L2224/80209 , H01L2224/80895 , H01L2224/80896 , H01L2224/80907 , H01L2224/80948 , H01L2224/94 , H01L2924/01322 , H01L2924/00012 , H01L2224/80 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了混合接合及执行混合接合的设备,其中一种方法包括执行混合接合以将第一封装元件与第二封装元件接合,以便形成接合对。在该接合对中,第一封装元件中的第一金属焊盘与第二封装元件中的第二金属焊盘接合,并且第一封装元件的表面处的第一表面介电层与第二封装元件的表面处的第二表面介电层接合。在混合接合之后,对该接合对执行热压缩退火。
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公开(公告)号:CN103794584B
公开(公告)日:2017-03-08
申请号:CN201310046609.8
申请日:2013-02-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/488 , H01L21/60
CPC classification number: H01L24/03 , H01L21/76831 , H01L21/76834 , H01L23/53238 , H01L23/53295 , H01L24/05 , H01L24/08 , H01L24/80 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/0345 , H01L2224/0346 , H01L2224/0347 , H01L2224/0348 , H01L2224/0361 , H01L2224/03616 , H01L2224/05026 , H01L2224/0508 , H01L2224/05147 , H01L2224/05187 , H01L2224/05547 , H01L2224/05553 , H01L2224/05564 , H01L2224/05571 , H01L2224/05576 , H01L2224/05578 , H01L2224/05647 , H01L2224/05687 , H01L2224/08121 , H01L2224/08147 , H01L2224/80121 , H01L2224/80203 , H01L2225/06513 , H01L2924/00014 , H01L2924/04941 , H01L2924/04953 , H01L2924/05032 , H01L2924/0504 , H01L2924/05442 , H01L2924/00012 , H01L2924/05042 , H01L2924/059 , H01L2224/05552
Abstract: 本文所述的扩散阻挡层的实施例提供了用于形成铜扩散阻挡层以阻止用于混合接合晶圆的器件退化的机制。(一层或多层)扩散阻挡层环绕用于混合接合的含铜导电焊盘。扩散阻挡层可以位于两个接合晶圆中的一个上或位于这两个接合晶圆上。
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公开(公告)号:CN102237285B
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:CN201010167364.0
申请日:2010-04-20
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种晶片接合机,该晶片接合机用以接合两个以上的半导体晶片,包括一壳体、一主工艺腔室以及一第一腔室。前述主工艺腔室以及第一腔室设置于壳体内部,且主工艺腔室连接第一腔室,其中前述晶片于第一腔室内被气体吹净,且前述晶片于主工艺腔室内受一外力作用并相互接合。本发明借由在晶片接合机内部配置多个腔室,当欲执行不同的工艺步骤时,仅需通过机械手臂或输送系统将晶片移动至不同的腔室中进行即可,借此能大幅缩短工艺时间并提高晶片接合机每小时的晶片产出量。
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公开(公告)号:CN104576637A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201410553385.4
申请日:2014-10-17
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L27/02 , H01L23/528 , H01L21/768 , H01L23/52
CPC classification number: H01L21/76883 , H01L21/76805 , H01L23/291 , H01L23/293 , H01L23/3192 , H01L23/538 , H01L23/5385 , H01L23/562 , H01L24/05 , H01L24/06 , H01L24/08 , H01L24/10 , H01L24/18 , H01L24/80 , H01L24/89 , H01L25/043 , H01L25/0657 , H01L25/0756 , H01L25/50 , H01L2224/03616 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05547 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/05655 , H01L2224/05684 , H01L2224/80097 , H01L2224/80201 , H01L2224/80357 , H01L2224/80895 , H01L2224/80896 , H01L2224/80948 , H01L2225/06513 , H01L2924/01029 , H01L2924/01322 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了3D集成电路及其形成方法。一种集成电路结构包括封装组件,该封装组件进一步包括具有第一孔隙率的非多孔介电层和位于该非多孔介电层上方并与该非多孔介电层接触的多孔介电层,其中多孔介电层的第二孔隙率高于第一孔隙率。接合焊盘穿透非多孔介电层和多孔介电层。介电势垒层位于多孔介电层上方并与多孔介电层接触。通过介电势垒层而暴露接合焊盘。介电势垒层具有平坦顶面。接合焊盘的平坦顶面高于介电势垒层的底面。
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公开(公告)号:CN104037102A
公开(公告)日:2014-09-10
申请号:CN201310226966.2
申请日:2013-06-07
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/603
CPC classification number: H01L24/03 , H01L24/08 , H01L24/74 , H01L24/80 , H01L24/94 , H01L2224/08145 , H01L2224/74 , H01L2224/7501 , H01L2224/7525 , H01L2224/75251 , H01L2224/75252 , H01L2224/753 , H01L2224/757 , H01L2224/7598 , H01L2224/80011 , H01L2224/80013 , H01L2224/80065 , H01L2224/80075 , H01L2224/80121 , H01L2224/80204 , H01L2224/80209 , H01L2224/80895 , H01L2224/80896 , H01L2224/80907 , H01L2224/80948 , H01L2224/94 , H01L2924/01322 , H01L2924/00012 , H01L2224/80 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了混合接合及执行混合接合的设备,其中一种方法包括执行混合接合以将第一封装元件与第二封装元件接合,以便形成接合对。在该接合对中,第一封装元件中的第一金属焊盘与第二封装元件中的第二金属焊盘接合,并且第一封装元件的表面处的第一表面介电层与第二封装元件的表面处的第二表面介电层接合。在混合接合之后,对该接合对执行热压缩退火。
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