基于RBF神经网络的线性输出调节跟踪控制方法及系统

    公开(公告)号:CN111399374A

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN202010125824.7

    申请日:2020-02-27

    Abstract: 本发明涉及一种基于RBF神经网络的线性输出调节跟踪控制方法及系统,属于轨迹跟踪控制领域,解决了由于待跟踪参考信号较为复杂造成的外源系统构建困难或无法构建的问题。具体包括:一、根据跟踪任务目标建立RBF神经网络;二、利用待跟踪参考信号,训练RBF神经网络;三、利用训练好的RBF神经网络构造外源系统并设计控制器,实现线性系统的轨迹跟踪控制。本发明提供的方法或者系统特别适用于参考信号复杂的线性系统跟踪控制任务。

    基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法

    公开(公告)号:CN101871772B

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN201010225540.1

    申请日:2010-07-14

    Abstract: 基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法,它涉及一种光斑轮廓的测量方法,它解决了目前无法对微光斑轮廓进行精确测量的问题。基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法,它基于一个光斑测量装置实现,光斑测量装置由二维移动架、探测器和数据采集单元组成;该方法根据探测器输出信号的强弱与入射光的强度成正比的原理,通过调整二维移动架,使入射光光斑从探测器的接收面内向外移出时,导致所述探测器输出信号的强弱发生变化,进而测量出入射光光斑的轮廓。本发明克服了已有技术的不足,可用于光束控制、光束诊断等领域。

    纳米氧化铜的应用及其制备方法

    公开(公告)号:CN101041119A

    公开(公告)日:2007-09-26

    申请号:CN200710071896.2

    申请日:2007-03-16

    Abstract: 纳米氧化铜的应用及其制备方法,它涉及一种化合物的应用及其制备方法。由于本发明之前不曾有以单一纳米氧化铜作为常温脱硫剂的报道,而且目前纳米氧化铜制备方法所制出的纳米氧化铜纯度低;所以本发明提供了一种纳米氧化铜的应用及其制备方法。本发明中纳米氧化铜作为常温脱硫剂应用,且纳米氧化铜为常温脱硫剂唯一组分。纳米氧化铜的制备:向硝酸铜溶液中加入氢氧化钠,然后再过滤、干燥、焙烧。或者纳米氧化铜按以下制备:将氢氧化钠溶液加入硝酸铜溶液,然后再过滤、干燥。本发明纳米氧化铜在常温条件下脱硫精度高,硫容高达18.3%~28.7%。本发明制备出的纳米氧化铜纯度高于99.9%,制备工艺简单,加工设备要求低,能耗小,生产成本低,易于推广实施。

    基于RBF神经网络的线性输出调节跟踪控制方法及系统

    公开(公告)号:CN111399374B

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN202010125824.7

    申请日:2020-02-27

    Abstract: 本发明涉及一种基于RBF神经网络的线性输出调节跟踪控制方法及系统,属于轨迹跟踪控制领域,解决了由于待跟踪参考信号较为复杂造成的外源系统构建困难或无法构建的问题。具体包括:一、根据跟踪任务目标建立RBF神经网络;二、利用待跟踪参考信号,训练RBF神经网络;三、利用训练好的RBF神经网络构造外源系统并设计控制器,实现线性系统的轨迹跟踪控制。本发明提供的方法或者系统特别适用于参考信号复杂的线性系统跟踪控制任务。

    基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法

    公开(公告)号:CN101871772A

    公开(公告)日:2010-10-27

    申请号:CN201010225540.1

    申请日:2010-07-14

    Abstract: 基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法,它涉及一种光斑轮廓的测量方法,它解决了目前无法对微光斑轮廓进行精确测量的问题。基于轨迹重构的光斑轮廓测量方法,它基于一个光斑测量装置实现,光斑测量装置由二维移动架、探测器和数据采集单元组成;该方法根据探测器输出信号的强弱与入射光的强度成正比的原理,通过调整二维移动架,使入射光光斑从探测器的接收面内向外移出时,导致所述探测器输出信号的强弱发生变化,进而测量出入射光光斑的轮廓。本发明克服了已有技术的不足,可用于光束控制、光束诊断等领域。

    基于正交精细扫描的微小光斑质心测量方法

    公开(公告)号:CN101968342A

    公开(公告)日:2011-02-09

    申请号:CN201010289204.3

    申请日:2010-09-21

    Abstract: 基于正交精细扫描的微小光斑质心测量方法,它涉及一种光斑的质心测量方法,它解决了目前无法对微小光斑直接进行质心测量的问题。该测量方法基于光斑测量装置实现,所述光斑测量装置由二维移动架、CCD探测器和数据采集单元组成,该方法通过CCD探测器探测接收入射光光斑,使光斑完全照射到CCD探测器的某个光敏像元上,并采用数据采集单元显示光斑的灰度值,然后通过多次移动二维移动架,使光敏像元在X向和Y向分别移动,移动的过程中,每移动一步即记录当前相对位移量及当前灰度值,最后通过制作灰度值曲线即可计算获得光斑的质心位置。本发明可用于光斑质心的测量领域。

    基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法

    公开(公告)号:CN101907490A

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN201010261214.6

    申请日:2010-08-24

    Abstract: 基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法,它涉及一种微小光斑强度分布的测量方法,它解决了目前无法对能量分布不均匀或者尺寸很小的光斑进行强度分布测量的问题。该测量方法将入射光斑完全照射到CCD探测器的光敏探测面的一个像元内,通过蛇形扫描的方式,记录各个扫描状态的灰度图像,通过计算可最终获得入射光光斑的强度分布。本发明能够对能量分布不均匀或者尺寸很小的光斑的强度分布进行直接测量,适用于微小光斑测量领域。

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