公开(公告)号：CN107851548A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201580081633.2

申请日：2015-07-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 赫尔穆特·格林 ,  托马斯·沃纳·兹巴于尔

IPC: H01J37/34 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35

CPC classification number: C23C14/3407 ,  C23C14/165 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3497

Abstract: 描述了一种溅射源(100)。所述溅射源包括：背衬支撑件(102)，所述背衬支撑件具有靶接收表面(112)和与所述靶接收表面相对的另一表面(110)；和至少一个磁体组件(115)，所述磁体组件邻近所述另一表面设置，其中所述背衬支撑件的所述靶接收表面具有至少一个凹槽(120)，其中所述凹槽与所述磁体组件相对地设置。