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公开(公告)号:CN117111418A
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN202310943316.3
申请日:2021-06-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 , 马克·约瑟夫·萨利 , 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 , 马杜尔·萨尚 , 瑞加娜·弗雷德
IPC: G03F7/36
Abstract: 本文披露的实施方式包括显影金属氧代光刻胶的方法。在一实施方式中,所述方法包括将具有金属氧代光刻胶的基板提供到真空腔室中,其中所述金属氧代光刻胶包括多个暴露区域和多个未暴露区域。在一实施方式中,所述未暴露区域包括比所述暴露区域更高的碳浓度。所述方法可进一步包括将卤化剂汽化至所述真空腔室中,其中所述卤化剂与所述未暴露区域抑或所述暴露区域反应,以产生挥发性副产物。在一实施方式中,所述方法可进一步包括净化所述真空腔室。
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公开(公告)号:CN113957415A
公开(公告)日:2022-01-21
申请号:CN202110824340.6
申请日:2021-07-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 , 马克·约瑟夫·萨利 , 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 , 托马斯·约瑟夫·奈斯利 , 凯尔文·陈 , 瑞加娜·杰曼尼·弗雷德 , 戴维·迈克尔·汤普森 , 苏米特·辛格·罗伊 , 马杜尔·萨尚
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/50 , B05D1/00 , H01L21/027
Abstract: 本文公开的实施方式包括使用干法沉积工艺沉积金属氧光刻胶的方法。在一个实施方式中,所述方法包括:用包括第一金属前驱物蒸气和第一氧化剂蒸气的第一气相工艺在所述基板上形成第一金属氧膜;和用包括第二金属前驱物蒸气和第二氧化剂蒸气的第二气相工艺在所述第一金属氧膜之上形成第二金属氧膜。
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公开(公告)号:CN119522404A
公开(公告)日:2025-02-25
申请号:CN202380053072.X
申请日:2023-06-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 , 韩振兴 , 路易莎·博萨诺 , 马杜尔·萨尚
IPC: G03F7/004 , H01L21/308 , G03F7/40 , G03F7/16
Abstract: 本文公开的实施例包括一种图案化金属氧光刻胶的方法。在一实施例中,该方法包含在基板上沉积金属氧光刻胶,用第一处理处理该金属氧光刻胶,用EUV暴露暴露该金属氧光刻胶以形成暴露区域和未暴露区域,用第二处理处理该暴露的金属氧光刻胶,并且将该金属氧光刻胶显影。
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公开(公告)号:CN115777086A
公开(公告)日:2023-03-10
申请号:CN202180046725.2
申请日:2021-06-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 , 马克·约瑟夫·萨利 , 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 , 马杜尔·萨尚 , 瑞加娜·弗雷德
IPC: G03F7/36
Abstract: 本文披露的实施方式包括显影金属氧代光刻胶的方法。在一实施方式中,所述方法包括将具有金属氧代光刻胶的基板提供到真空腔室中,其中所述金属氧代光刻胶包括多个暴露区域和多个未暴露区域。在一实施方式中,所述未暴露区域包括比所述暴露区域更高的碳浓度。所述方法可进一步包括将卤化剂汽化至所述真空腔室中,其中所述卤化剂与所述未暴露区域抑或所述暴露区域反应,以产生挥发性副产物。在一实施方式中,所述方法可进一步包括净化所述真空腔室。
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公开(公告)号:CN113957414A
公开(公告)日:2022-01-21
申请号:CN202110824339.3
申请日:2021-07-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 , 马克·约瑟夫·萨利 , 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 , 托马斯·约瑟夫·奈斯利 , 凯尔文·陈 , 瑞加娜·杰曼尼·弗雷德 , 戴维·迈克尔·汤普森 , 苏米特·辛格·罗伊 , 马杜尔·萨尚
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/50 , B05D1/00 , H01L21/027
Abstract: 本文公开的实施方式包括使用干法沉积工艺沉积金属氧光刻胶的方法。在一个实施方式中,所述方法包括:用包括第一金属前驱物蒸气和第一氧化剂蒸气的第一气相工艺在所述基板上形成第一金属氧膜;和用包括第二金属前驱物蒸气和第二氧化剂蒸气的第二气相工艺在所述第一金属氧膜之上形成第二金属氧膜。
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