公开(公告)号：CN102448704B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201080024945.7

申请日：2010-06-03

Applicant: 旭化成电子材料株式会社

Inventor： 古谷一之 ,  铃木胜

IPC: B29C59/04 ,  B29C33/38

CPC classification number: B29C33/38 ,  B29C33/424 ,  B29C59/04 ,  B29K2995/0018 ,  B29K2995/0031 ,  B29K2995/0072 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 提供一种能转印微细图案，也能应对大面积转印的转印用塑模及转印用塑模的制造方法。本发明的转印用塑模的特征在于，具备形成为略圆柱状的辊筒体、于辊筒体外周面上形成的表面层(3)、形成于表面层(3)上的微细结构层，表面层(3)由405nm的波长中的折射率n在1.3以上2.0以下，且消光系数k在0.3以下的材料构成。

公开(公告)号：CN102187276B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN200980141352.6

申请日：2009-10-13

Applicant: 旭化成电子材料株式会社

Inventor： 三田村哲理 ,  古谷一之 ,  中川义清 ,  前田雅俊

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC classification number: G11B7/261 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明的热反应型抗蚀剂材料的特征在于，元素的氟化物的沸点在200℃以上。据此可以实现一种热反应型抗蚀剂材料，其对为形成槽深度深的图案用氟碳系气体进行的干蚀刻具有很高的耐性。

公开(公告)号：CN103151053B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201310011760.8

申请日：2009-10-13

Applicant: 旭化成电子材料株式会社

Inventor： 三田村哲理 ,  古谷一之 ,  中川义清 ,  前田雅俊

IPC: G11B7/26 ,  G03F7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G11B7/261 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明的热反应型抗蚀剂材料的特征在于，元素的氟化物的沸点在200℃以上。据此可以实现一种热反应型抗蚀剂材料，其对为形成槽深度深的图案用氟碳系气体进行的干蚀刻具有很高的耐性。

公开(公告)号：CN103123443B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201310051617.1

申请日：2009-10-13

Applicant: 旭化成电子材料株式会社

Inventor： 三田村哲理 ,  古谷一之 ,  中川义清 ,  前田雅俊

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G11B7/26

CPC classification number: G11B7/261 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明的热反应型抗蚀剂材料的特征在于，元素的氟化物的沸点在200℃以上。据此可以实现一种热反应型抗蚀剂材料，其对为形成槽深度深的图案用氟碳系气体进行的干蚀刻具有很高的耐性。