发光二极管芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN108346727A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201711430042.9

    申请日:2017-12-26

    CPC classification number: H01L33/44 H01L33/0075 H01L2933/0025

    Abstract: 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于光电子技术领域。该发光二极管芯片包括衬底和设置在衬底上的外延层,外延层上设置有电极凹槽,电极凹槽内设置有N电极,外延层的出光面设置有P电极,出光面为外延层的远离衬底的表面,出光面的位于P电极之外的区域设置有TiO2纳米管阵列,通过在出光面的位于P电极之外的区域设置TiO2纳米管阵列,TiO2纳米管阵列可以增大出光面的粗糙程度,能够减少反射回LED芯片内部的光,从而提高LED的光提取效率。

    一种具有光导薄膜结构的LED芯片及制作方法

    公开(公告)号:CN108281526A

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201810082637.8

    申请日:2018-01-29

    CPC classification number: H01L33/20 H01L33/0075 H01L33/44 H01L2933/0025

    Abstract: 本发明公开了一种具有光导薄膜结构的LED芯片及制作方法,该制作方法包括:提供衬底;在衬底上形成外延层结构;在外延层结构背离衬底一侧形成GaP层;对GaP层刻蚀,形成未贯穿GaP层的平顶倒锥形凹槽,平顶倒锥形凹槽的开口大小在第一方向上逐渐增大,其中,第一方向垂直于衬底,且由衬底指向外延层结构;在平顶倒锥形凹槽表面依次沉积第一氧化层、第二氧化层和第三氧化层,其中,第一氧化层的折射率<第二氧化层的折射率<第三氧化层的折射率;在平顶倒锥形凹槽平顶处设置电极结构。该制作方法使光线更加集中在法线方向,光线具有较好的同路且解决了GaP层与空气之间的全反射问题,进而使LED芯片发出的光更加集中,发光角度小。

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