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公开(公告)号:CN114442209A
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN202011209254.6
申请日:2020-11-03
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种适用于RGB波段高效率偏振无关的倾斜光栅,其中三原色的中心波长分别为:红光:620nm,绿光:526nm,蓝光:460nm。光栅层与基底层都为熔融石英,光栅的周期为:723~745纳米,脊宽为:460~494纳米,倾斜角:15~16.4度,光栅总深度为:1400~1440纳米,当TE偏振光或者TM偏振光垂直入射时,其‑1级透射率在RGB波段均超过80%,同时0级和1级透射光的衍射效率比较低,使得出射光的能量主要集中在‑1级上。本发明中倾斜光栅由电子束直写装置与微电子深刻蚀加工而成,结构简单,容差较大,制作方便,能够大规模制造,可适用于显示器中成像显示技术,具有重要的使用前景。
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公开(公告)号:CN115164733A
公开(公告)日:2022-10-11
申请号:CN202210776991.7
申请日:2022-07-04
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/02 , G01B9/02015
Abstract: 本发明公开了一种基于皮米光梳的皮米测量系统及方法,该测量方法过程如下:激光器发出的光经过分束器分成两束光,每束光均依次通过反射镜、显微物镜、针孔滤波器和准直透镜产生准直扩束的光场;两束光产生的光场汇聚在干涉平面上,产生周期为d的干涉场;将一块全息干板放置在干涉平面上进行第一次曝光;加载皮米尺度的位移信息Δd引起干涉场的周期变化;将全息干板进行第二次曝光,得到皮米光梳。利用皮米光梳的轴向莫尔效应:使用准直扩束的平面波照射皮米光梳,将会产生莫尔干涉条纹。通过光电探测器采集莫尔干涉条纹,计算出莫尔干涉条纹额周期T。最后通过公式反推出待测的皮米尺度的信息Δd。
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公开(公告)号:CN114879292A
公开(公告)日:2022-08-09
申请号:CN202110159688.8
申请日:2021-02-05
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种适用于RGB三基色的高效率三层倾斜光栅,该光栅的基底是石英,第一、二、三层材料分别为MgF2、石英、MgF2,深度分别为h1、h2、h3。该光栅的周期d为750~770纳米,脊宽b为469~490纳米,倾斜角θ为15.5~16.7度,h1为435~470纳米,h2为585~630纳米,h3为395~430纳米,在正入射的情况下该光栅结构具有456~623纳米的波长带宽。该三层倾斜光栅的中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米,由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成,其取材方便,结构简单,容差大,造价小,能大批量生产,可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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公开(公告)号:CN115164733B
公开(公告)日:2025-04-08
申请号:CN202210776991.7
申请日:2022-07-04
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/02 , G01B9/02015
Abstract: 本发明公开了一种基于皮米光梳的皮米测量系统及方法,该测量方法过程如下:激光器发出的光经过分束器分成两束光,每束光均依次通过反射镜、显微物镜、针孔滤波器和准直透镜产生准直扩束的光场;两束光产生的光场汇聚在干涉平面上,产生周期为d的干涉场;将一块全息干板放置在干涉平面上进行第一次曝光;加载皮米尺度的位移信息Δd引起干涉场的周期变化;将全息干板进行第二次曝光,得到皮米光梳。利用皮米光梳的轴向莫尔效应:使用准直扩束的平面波照射皮米光梳,将会产生莫尔干涉条纹。通过光电探测器采集莫尔干涉条纹,计算出莫尔干涉条纹额周期T。最后通过公式反推出待测的皮米尺度的信息Δd。
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公开(公告)号:CN116184545A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202111420982.6
申请日:2021-11-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅,由上至下分别是:由两层高折射率介质层组成的光栅脊、光栅匹配层、金属反射镜和光栅基底,金属介电双层光栅的任意层均为长方体结构。该介电双层光栅的周期为:700‑750nm,占空比为:0.4‑0.48。金属反射镜的厚度大于金属的趋肤深度。当TE或者TM偏振光以利特罗角入射时,其‑1级平均衍射效率在1000‑1100nm波段超过98%,且偏振相关损耗在整个波段上的平均值为0.016dB。本发明可以由电子束直写装置与微电子深刻蚀加工而成,结构简易,容差大,适合大规模制造,可适用于光谱合束和脉冲压缩系统。
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公开(公告)号:CN114442211A
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN202011221276.4
申请日:2020-11-03
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅,该光栅的基底是石英,第一层材料为MgF2,深度为h1,第二层材料为石英,深度为h2。该光栅的周期d为706~727纳米,脊宽b为396~418纳米,倾斜角θ为18~19度,h1为452~504纳米,h2为691~743纳米,在正入射的情况下该光栅结构具有454~630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅,由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成,其取材方便,结构简单,容差大,造价小,能大批量生产,可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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公开(公告)号:CN111007016A
公开(公告)日:2020-04-14
申请号:CN201911248661.5
申请日:2019-12-09
Applicant: 暨南大学
Abstract: 一种检测透明材料表面微小颗粒杂质的装置,包括平行光路模块、偏振照明模块、待测样品和相衬成像模块和图像收集模块,所述待测样品设置于偏振照明模块内,所述相衬成像模块包括第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜,平行光路模块产生的光速通过偏振照明模块,随后依次通过第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜形成光斑传输至图像收集模块。
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