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公开(公告)号：CN114609714B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210190096.7
申请日：2022-02-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种正入射条件下基于RGB三色波段偏振无关的透射式倾斜多层二维阵列光栅，单个周期的光栅结构由上至下为由SiO2介质材料、MgF2介质材料构成二维结构介质光栅层、SiO2基底层。位于光栅顶层的二维结构介质光栅层为对称排放的带有单方向倾斜的倾斜长方体结构阵列，其中长方体的长和宽相等。本发明公开的偏振无关的透射式倾斜多层二维光栅可以使得TE和TM两种偏振模式的入射光以正入射条件入射时，透射能量主要集中于(0,‑1)阶透射级次。本发明适用于基于RGB三基色(430～700纳米)波段的高效率偏振无关斜双层光栅，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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公开(公告)号：CN117406317A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311271454.8
申请日：2023-09-28
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开一种基于光刻机晶圆卡盘定位系统的二维平面光栅制造方法，将所述二维平面光栅的栅线方向调整至与晶圆卡盘的工作方向一致，通过改变二维平面光栅的栅线分布，使得反射光变为携带位移信号的(‑1，‑1)级次的反射光。在保证晶圆卡盘原有工作状态的情况下，对光栅结构进行优化，设计更高衍射效率偏振无关的光栅，并为之设计制作流程，提高光栅的制作精度从而提高光栅周期一致性，最终达到提高定位精度的效果。经过二维光栅方程的计算，携带位移信号的(‑1，‑1)级次的反射光同样满足自准直衍射条件。相较于现有技术，本发明的制造方法可以减小光栅制作的难度，提高光栅周期的一致性从而提高整体定位系统的测量精度。
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公开(公告)号：CN114935311A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210672039.2
申请日：2022-06-15
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种新型的基于一维光栅的干涉位移测量装置，该装置首次引入三块相等密度的光栅，其中一块为反射式，两块为透射式光栅。入射波长为红光的激光垂直入射在反射式光栅结构上，两束衍射光分别经过两块透射式光栅后经过反射镜调整汇聚于偏振分光棱镜上，最终被两个接收器检测到。该装置可以实现在亚纳米分辨率下测量小位移和长位移的优点，大幅度提升抗干扰能力和光能利用率，其中光栅具有结构简单，加工方便，造价低，可以大批量生产。
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公开(公告)号：CN114879292A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202110159688.8
申请日：2021-02-05
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种适用于RGB三基色的高效率三层倾斜光栅，该光栅的基底是石英，第一、二、三层材料分别为MgF2、石英、MgF2，深度分别为h1、h2、h3。该光栅的周期d为750～770纳米，脊宽b为469～490纳米，倾斜角θ为15.5～16.7度，h1为435～470纳米，h2为585～630纳米，h3为395～430纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有456～623纳米的波长带宽。该三层倾斜光栅的中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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公开(公告)号：CN110057543B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201910331365.5
申请日：2019-04-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件或参考波面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109489579A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811363911.5
申请日：2018-11-16
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种基于高密度光栅的Sagnac偏振成像装置，其特征在于，包含第一光栅、第二光栅、Sagnac环；Sagnac环包含反射镜、偏振分束器、偏振片、成像透镜、CCD探测器；第一光栅位于偏振分束器透射光路上；第二光栅位于偏振分束器反射光路上；反射镜位于第一光栅的水平方向与第二光栅垂直方向的交叉处；偏振片位于第一光栅的下方；成像透镜位于偏振片的下方；CCD探测器位于成像透镜的下方；本发明采用的光栅为相同器件，保证了光束相互平行；不仅起到了消除衍射角，同时也起到了分光的作用；结构紧凑，效率极高，可以产生高分辨率、波段更宽的光谱，使该装置适用于高分辨率偏振光谱成像。
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公开(公告)号：CN109374259A
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201811318508.0
申请日：2018-11-07
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅周期高精度在线测量与调节装置，该装置包括用于产生并调节光栅场的双光束全息干涉光路，用于产生同轴干涉的参考光栅和采集干涉信号的光电探测器，以及用于扫描全息光栅场的一维高精度移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统全息光路中引入参考光栅，使两束相干光产生同轴干涉，通过测量该干涉信号的周期变化，实现对全息光栅场的高精度在线测量，同时通过准直透镜的二维移动实现全息光栅周期的高精度在线调节。
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公开(公告)号：CN115097558B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210709648.0
申请日：2022-06-22
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开一种基于高折射率材料的‑2级倾斜光栅，包括光波导层和光栅层，所述光波导层和光栅层采用折射率为1.71的树脂材料制成，所述光栅层倾斜设置。倾斜光栅的光栅周期为980～992纳米，占空比为0.74～0.76，光栅深度为1475～1490纳米，倾斜角为26～27°。TE偏振光垂直入射时，可以实现中心波长620纳米‑2级衍射效率高于80％。本发明还公开了一种基于高折射率材料的‑2级倾斜光栅在近眼显示设备上的应用，适用于AR、VR近眼显示设备，取材方便，加工简单，具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN114442211A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202011221276.4
申请日：2020-11-03
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，该光栅的基底是石英，第一层材料为MgF2，深度为h1，第二层材料为石英，深度为h2。该光栅的周期d为706～727纳米，脊宽b为396～418纳米，倾斜角θ为18～19度，h1为452～504纳米，h2为691～743纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有454～630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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公开(公告)号：CN112946802A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110171208.X
申请日：2021-02-08
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，由上至下为光栅介质层和基底构成光栅结构；顶部的二维光栅结构为矩形柱状或圆柱结构。光栅介质层第一层材料为SiO2，光栅介质层第二层材料为HfO2、Ti2O5或Si3N4中的任意一种，基底材料与光栅介质层第一层材料相同也为SiO2。本发明的偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅在中心波长780纳米时，入射角为零时，两个偏振的‑1级衍射效率都高于24.694％，总透射效率为99.45％，零级效率仅为0.6％，且两个偏振态的效率偏振无关损耗为0.0014dB，实现了偏振无关入射的高效率衍射，同时制作容差大，易于制作。
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