半导体集成电路
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101393911A

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200810149908.3

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01L27/11807 G06F17/5072 H01L27/0207

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制由光邻近效应引起的栅长离差的半导体集成电路,包括:可激活的第一晶体管,由沿第一方向延伸的第一栅极和第一扩散区域形成;第二晶体管,由沿第一方向延伸的第二栅极和第二扩散区域形成,在与第一方向正交的第二方向上与第一晶体管邻近;以及沿第一方向延伸的第三栅极,在与第二晶体管相反的一侧,在第二方向上与第一晶体管相邻,第一栅极和第二栅极之间的间隔,比第一栅极和第三栅极之间的间隔大,在第一晶体管与第二晶体管之间具有非激活的第四晶体管,该第四晶体管具有沿上述第一方向延伸的第四栅极。

    半导体集成电路
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101393911B

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200810149908.3

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01L27/11807 G06F17/5072 H01L27/0207

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制由光邻近效应引起的栅长离差的半导体集成电路,包括:可激活的第一晶体管,由沿第一方向延伸的第一栅极和第一扩散区域形成;第二晶体管,由沿第一方向延伸的第二栅极和第二扩散区域形成,在与第一方向正交的第二方向上与第一晶体管邻近;以及沿第一方向延伸的第三栅极,在与第二晶体管相反的一侧,在第二方向上与第一晶体管相邻,第一栅极和第二栅极之间的间隔,比第一栅极和第三栅极之间的间隔大,在第一晶体管与第二晶体管之间具有非激活的第四晶体管,该第四晶体管具有沿上述第一方向延伸的第四栅极。

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