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公开(公告)号：CN102414537A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201080018184.4
申请日：2010-12-22
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01B11/0625 , G01B9/02025 , G01B9/02088 , G01B9/0209 , G01B11/0675
Abstract: 本发明的膜厚计测装置将表面形成有透明膜(16)的基板(103)载置于载置部(100)，利用半透半反镜(102)对来自光源(101)的光进行分支而使光向基板表面及参照面照射，并使来自基板表面及参照面的反射光重合而形成干涉光，利用摄像装置(105)拍摄干涉光，基于其拍摄结果利用运算装置(106)算出透明膜的膜厚。运算装置具有：预先对向透明膜的入射光与反射光之间的第一相位光谱的变化量进行数据库化而作成的光谱变化量数据库(106s)；对摄像装置拍摄到的透明膜的干涉信号进行傅立叶变换而算出透明膜的第二相位光谱的第二相位光谱算出部(106b)；从数据库中选择与第二相位光谱一致度最高的第一相位光谱，使用所选择出的第一相位光谱来计测透明膜的膜厚的膜厚算出部(106d)。
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公开(公告)号：CN102959744B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201280001058.7
申请日：2012-05-11
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , B05B12/084 , B05C11/1005 , G01N2021/8427 , H01L33/50 , H01L33/502 , H01L2933/0041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种抑制发光元件的色度偏差的产生的发光元件的制造方法。本发明的发光元件的制造方法为，在发光源上涂覆从涂覆装置（5）喷出的荧光树脂，从而制造具备所述发光源的发光元件（2），该涂覆装置（5）贮存含有荧光体粒子的所述荧光树脂，测量从所述涂覆装置（5）喷出的所述荧光树脂所含有的所述荧光体粒子的浓度、即第1浓度，基于表示所述发光元件的色度成为恒定的所述荧光体粒子的浓度和所述荧光树脂的涂覆量的关系的参照数据、和测量的所述第1浓度，决定涂覆量，将所决定的涂覆量的所述荧光树脂涂覆到所述发光源上。
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公开(公告)号：CN102414537B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080018184.4
申请日：2010-12-22
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01B11/0625 , G01B9/02025 , G01B9/02088 , G01B9/0209 , G01B11/0675
Abstract: 本发明的膜厚计测装置将表面形成有透明膜(16)的基板(103)载置于载置部(100)，利用半透半反镜(102)对来自光源(101)的光进行分支而使光向基板表面及参照面照射，并使来自基板表面及参照面的反射光重合而形成干涉光，利用摄像装置(105)拍摄干涉光，基于其拍摄结果利用运算装置(106)算出透明膜的膜厚。运算装置具有：预先对向透明膜的入射光与反射光之间的第一相位光谱的变化量进行数据库化而作成的光谱变化量数据库(106s)；对摄像装置拍摄到的透明膜的干涉信号进行傅立叶变换而算出透明膜的第二相位光谱的第二相位光谱算出部(106b)；从数据库中选择与第二相位光谱一致度最高的第一相位光谱，使用所选择出的第一相位光谱来计测透明膜的膜厚的膜厚算出部(106d)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101889189A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200980101293.X
申请日：2009-09-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02007 , G01B9/02069 , G01B9/02083 , G01B9/0209 , G01J2009/0234
Abstract: 本发明提供一种表面形状测量装置，其使利用双波长移相干涉术的物体的表面形状测量装置的测量精度提高。其具备：低相干光源的光源(101)、透射波长不同的多个波长滤波器(103)、角度控制部(104c)、解析部(114)，并且，通过在实施双波长移相干涉术时由解析部(114)检测出双波长的波长差且对在一个波长运算下的波长值和相位值进行修正，来防止条纹次数的运算错误。接着，通过控制波长滤波器(103)的角度，使实际的波长差与设计值一致。由此，始终可使双波长的波长差控制为恒定，从而即使存在由温度变化或时间推移所引起的波长变动也能够高精度地测量表面形状。
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公开(公告)号：CN101889189B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200980101293.X
申请日：2009-09-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02007 , G01B9/02069 , G01B9/02083 , G01B9/0209 , G01J2009/0234
Abstract: 本发明提供一种表面形状测量装置，其使利用双波长移相干涉术的物体的表面形状测量装置的测量精度提高。其具备：低相干光源的光源(101)、透射波长不同的多个波长滤波器(103)、角度控制部(104c)、解析部(114)，并且，通过在实施双波长移相干涉术时由解析部(114)检测出双波长的波长差且对在一个波长运算下的波长值和相位值进行修正，来防止条纹次数的运算错误。接着，通过控制波长滤波器(103)的角度，使实际的波长差与设计值一致。由此，始终可使双波长的波长差控制为恒定，从而即使存在由温度变化或时间推移所引起的波长变动也能够高精度地测量表面形状。
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公开(公告)号：CN102713504B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201180006951.4
申请日：2011-12-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02064 , G01B9/0209
Abstract: 本表面形状测定方法将包含不同的波长的白色光(8A)分割成参照光(8C)和测定光(8B)，使测定光(8B)向被测定面(3)入射，使参照光(8C)向第一衍射光栅(20)入射，将参照光(8C)和由被测定面(3)反射出的测定光(8B)合成，作为干涉光(8D)，来测定被测定面(3)的表面形状，其中该参照光(8C)是从第一衍射光栅(20)通过第一光路向第二衍射光栅(21)入射之后、从第二衍射光栅(21)通过第一光路向第一衍射光栅(20)入射而从第一衍射光栅(20)射出的光。
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公开(公告)号：CN102959744A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201280001058.7
申请日：2012-05-11
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , B05B12/084 , B05C11/1005 , G01N2021/8427 , H01L33/50 , H01L33/502 , H01L2933/0041
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种抑制发光元件的色度偏差的产生的发光元件的制造方法。本发明的发光元件的制造方法为，在发光源上涂覆从涂覆装置（5）喷出的荧光树脂，从而制造具备所述发光源的发光元件（2），该涂覆装置（5）贮存含有荧光体粒子的所述荧光树脂，测量从所述涂覆装置（5）喷出的所述荧光树脂所含有的所述荧光体粒子的浓度、即第1浓度，基于表示所述发光元件的色度成为恒定的所述荧光体粒子的浓度和所述荧光树脂的涂覆量的关系的参照数据、和测量的所述第1浓度，决定涂覆量，将所决定的涂覆量的所述荧光树脂涂覆到所述发光源上。
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公开(公告)号：CN102713504A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201180006951.4
申请日：2011-12-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/02064 , G01B9/0209
Abstract: 本表面形状测定方法将包含不同的波长的白色光(8A)分割成参照光(8C)和测定光(8B)，使测定光(8B)向被测定面(3)入射，使参照光(8C)向第一衍射光栅(20)入射，将参照光(8C)和由被测定面(3)反射出的测定光(8B)合成，作为干涉光(8D)，来测定被测定面(3)的表面形状，其中该参照光(8C)是从第一衍射光栅(20)通过第一光路向第二衍射光栅(21)入射之后、从第二衍射光栅(21)通过第一光路向第一衍射光栅(20)入射而从第一衍射光栅(20)射出的光。
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