显像管制造用曝光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1080897C

    公开(公告)日:2002-03-13

    申请号:CN96103081.X

    申请日:1996-03-07

    CPC classification number: H01J9/2274 H01J9/2272 H01J9/2273

    Abstract: 本发明的曝光装置,由椭圆反射镜2使光源1产生的光会聚。会聚光在棒状光积分器中积分并均匀,从光积分器3另一端辐射。透镜系统7辐射光积分器的出射光10,投影到显像管的显示区域6a。透镜系统7具有在其虚像区形成第一和第二虚像焦点的非点像差。辐射光表观上由第一虚像焦点在垂直方向上辐射,由第二虚像焦点在水平方向上辐射。上述第一和第二虚像焦点分别定位于该显像管垂直和水平偏转装置相对应的位置上。因而,偏转电子束可以正确地与图像信号同步在G、B、R点阵上扫描。

    曝光方法及其装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1120683A

    公开(公告)日:1996-04-17

    申请号:CN95103125.2

    申请日:1995-03-15

    CPC classification number: G03F7/70575 G03F7/7035 G03F7/70358 G03F7/70783

    Abstract: 曝光方法及其装置,从掩模上方用光束照射与基片靠近保持着的掩模,将掩模图案转印到基片的感光层上,包括如下步骤:用间隙测量装置测量被局部扫描和照射的掩模部分和被局部照射的基片部分之间的间隙;比较该间隙测定值和设定值;按测定值和设定值之差使掩模和/或基片局部变形以使该间隙趋向预定值。不必使用大口径的聚光透镜,可使装置小型化、降低成本,并可在整个区域获得高析像度的曝光。

    显像管制造用曝光装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1156267A

    公开(公告)日:1997-08-06

    申请号:CN96103081.X

    申请日:1996-03-07

    CPC classification number: H01J9/2274 H01J9/2272 H01J9/2273

    Abstract: 本发明的曝光装置,由椭圆反射镜2使光源1产生的光会聚。会聚光在棒状光积分器中积分并均匀,从光积分器3另一端辐射。透镜系统7辐射光积分器的出射光10,投影到显像管的显示区域6a。透镜系统7具有在其虚像区形成第一和第二虚像焦点的非点像差。辐射光表观上由第一虚像焦点在垂直方向上辐射,由第二虚像焦点在水平方向上辐射。上述第一和第二虚像焦点分别定位于该显像管垂直和水平偏转装置相对应的位置上。因而,偏转电子束可以正确地与图像信号同步在G、B、R点阵上扫描。

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