公开(公告)号：CN119768892A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202380062004.X

申请日：2023-06-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 村田诚治 ,  屉谷祐介 ,  坂田桂介

IPC: H01L21/02 ,  G06N20/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种可适当预测进行基板处理时从交流电力线产生的电磁波的影响的信息处理装置。信息处理装置(5)具备：电流值信息生成部(501)，该电流值信息生成部生成通过基板处理装置进行基板处理时供给至交流设备的交流电流的电流值信息，该基板处理装置具备交流设备和控制盘，该交流设备经由交流电力线连接于交流电源，该控制盘为了进行基板处理而控制交流设备，在基板处理中，一边使处理部件接触基板，一边对基板或处理部件供给处理流体；及电磁波影响信息生成部(502)，该电磁波影响信息生成部基于通过电流值信息生成部(501)生成的电流值信息，生成表示从交流电力线产生的电磁波的影响的电磁波影响信息。

公开(公告)号：CN113134785B

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202110042947.9

申请日：2021-01-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小畠严贵 ,  安田穗积 ,  矢内昭夫 ,  高桥信行 ,  中村贵正 ,  坂田桂介 ,  高田畅行 ,  八木裕治 ,  高田泰弘 ,  渡边和英

IPC: B24B37/11 ,  B24B37/27 ,  B24B37/34 ,  B24B47/12 ,  B24B47/20 ,  B24B47/22 ,  B24B49/12

Abstract: 提供一种能够精密控制晶片、基板、面板等工件的膜厚轮廓的研磨头系统。研磨头系统具备：具有将多个按压力施加于工件(W)的多个压电元件(47)的研磨头(7)；及决定应施加于多个压电元件(47)的电压的多个指令值的动作控制部(10)。

公开(公告)号：CN113134785A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110042947.9

申请日：2021-01-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小畠严贵 ,  安田穗积 ,  矢内昭夫 ,  高桥信行 ,  中村贵正 ,  坂田桂介 ,  高田畅行 ,  八木裕治 ,  高田泰弘 ,  渡边和英

IPC: B24B37/11 ,  B24B37/27 ,  B24B37/34 ,  B24B47/12 ,  B24B47/20 ,  B24B47/22 ,  B24B49/12

Abstract: 提供一种能够精密控制晶片、基板、面板等工件的膜厚轮廓的研磨头系统。研磨头系统具备：具有将多个按压力施加于工件(W)的多个压电元件(47)的研磨头(7)；及决定应施加于多个压电元件(47)的电压的多个指令值的动作控制部(10)。