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公开(公告)号：CN118943054A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411054620.3
申请日：2019-07-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的基板清洗装置及基板清洗方法具备：与基板抵接来进行该基板的清洗的清洗部件；使清洗部件旋转的部件旋转部；将清洗部件按压于基板的部件驱动部；对清洗部件的按压负荷进行测量的负荷测量部；以及基于负荷测量部的测量值对基于部件驱动部产生的清洗部件的按压量进行控制，以使得清洗部件的按压负荷为设定负荷的控制部。控制部将负荷测量部的测量值与设定负荷进行比较，并重复以下步骤直到差值为第一阈值以下：在差值比第一阈值大且为第二阈值以下的情况下，以第一移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少；在差值比第二阈值大的情况下，以比第一移动量大的第二移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少。
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公开(公告)号：CN110690141A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201910603136.4
申请日：2019-07-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的基板清洗装置及基板清洗方法具备：与基板抵接来进行该基板的清洗的清洗部件；使清洗部件旋转的部件旋转部；将清洗部件按压于基板的部件驱动部；对清洗部件的按压负荷进行测量的负荷测量部；以及基于负荷测量部的测量值对基于部件驱动部产生的清洗部件的按压量进行控制，以使得清洗部件的按压负荷为设定负荷的控制部。控制部将负荷测量部的测量值与设定负荷进行比较，并重复以下步骤直到差值为第一阈值以下：在差值比第一阈值大且为第二阈值以下的情况下，以第一移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少；在差值比第二阈值大的情况下，以比第一移动量大的第二移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少。
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公开(公告)号：CN116487302A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310668331.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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公开(公告)号：CN110651356A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201880030306.8
申请日：2018-05-02
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种清洗装置。在一实施方式中，清洗装置具备：清洗构件、移动部、测定部、控制部，控制部在清洗前使清洗构件按压于基准构件，在测定部的测定值到达规定的重设用负载后，使清洗构件在从基准构件离开的方向移动，在测定部对清洗构件每单位移动量的测定值至少连续两次彼此相同的时间点，进行如下重设动作：设定该时间点的所述清洗构件的位置作为清洗时所述清洗构件的基准位置，并且设定所述时间点的所述测定部的测定值作为清洗时的按压基准值。
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公开(公告)号：CN110600397A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910502824.1
申请日：2019-06-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明能够不受进行示教作业的作业人员的技能影响进行示教。提供用于基板输送系统的示教装置，基板输送系统具有构成为能对基板进行保持的基板输送装置及构成为能从基板输送装置接收基板的基板接收装置，示教装置具有：构成为保持于基板输送装置的示教基板；能被安装于示教基板的摄影机；及用于控制保持着示教基板的基板输送装置及/或基板接收装置的动作的控制装置，控制装置具有：接收由摄影机拍摄的图像的接收部；根据接收的图像计算基板输送装置与基板接收装置的相对的位置关系的解析部；及根据由解析部计算的基板输送装置与基板接收装置的相对的位置关系，确定基板输送装置及/或基板接收装置的停止位置的确定部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107546155A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/02096 , H01L21/0201 , H01L21/02046 , H01L21/02068 , H01L21/02076 , H01L21/02085 , H01L21/02087 , H01L21/67017 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/67219
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN110690141B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN201910603136.4
申请日：2019-07-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的基板清洗装置及基板清洗方法具备：与基板抵接来进行该基板的清洗的清洗部件；使清洗部件旋转的部件旋转部；将清洗部件按压于基板的部件驱动部；对清洗部件的按压负荷进行测量的负荷测量部；以及基于负荷测量部的测量值对基于部件驱动部产生的清洗部件的按压量进行控制，以使得清洗部件的按压负荷为设定负荷的控制部。控制部将负荷测量部的测量值与设定负荷进行比较，并重复以下步骤直到差值为第一阈值以下：在差值比第一阈值大且为第二阈值以下的情况下，以第一移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少；在差值比第二阈值大的情况下，以比第一移动量大的第二移动量变更清洗部件的按压量，以使得差值减少。
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公开(公告)号：CN118213309A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410349319.9
申请日：2018-08-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置具有配置为上下两层的第一处理单元及第二处理单元。第一处理单元及第二处理单元分别具有：多个处理槽，该多个处理槽串联排列；隔壁，该隔壁划分出在多个处理槽的外侧沿排列方向延伸的输送空间；输送机构，该输送机构配置于输送空间，且在各处理槽之间沿着排列方向输送基板；以及导风管道，该导风管道在输送空间以沿着所述排列方向延伸的方式设置。在导风管道连接有风扇过滤单元。在各处理槽连接有排气管道。在导风管道中的与各处理槽相对的部分分别形成有开口。第一处理单元的输送空间和第二处理单元的输送空间被隔壁上下分离。
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公开(公告)号：CN107546155B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN107564835B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201710520934.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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