公开(公告)号：CN102257045A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200980151252.1

申请日：2009-12-22

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 屋良卓也 ,  松崎纯一 ,  川崎真一 ,  山本真矢 ,  野上光秀 ,  中野良宪 ,  长谷川平

IPC: C08J7/18 ,  B32B27/16 ,  G02B5/30

CPC classification number: B32B27/16 ,  B32B7/12 ,  B32B27/08 ,  B32B27/308 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/42 ,  B32B2457/202 ,  C08J7/18 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。将与易粘接性树脂膜(12)粘接的难粘接性树脂膜(11)配置在接近大气压的处理空间(22)内。通过工艺气体供给系统(3)，将含有丙烯酸(聚合性单体)蒸气的工艺气体供给到处理空间(22)。在等离子体处理部(2)，将工艺气体等离子体化并使其与难粘接性树脂膜(11)接触。设定工艺气体的供给流量，以使处理空间(22)内的氧浓度达到3000ppm以下。由此，可以提高难粘接性树脂膜的粘接性，进而能够进行高速处理。