膜表面处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102791777A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201180012728.0

    申请日:2011-02-28

    CPC classification number: B29D11/00634 G02B5/3033 H05H1/48 H05H2001/485

    Abstract: 本发明提供一种膜表面处理装置,在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时,能够防止电极等的污垢且提高粘接性等处理效果。在第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。使电极(11、12)旋转,从电极(11)向电极(12)输送被处理膜(9)。使反应气体喷嘴(31)沿着第一辊电极(11)的周向从电极(11、12)间的放电空间(14)向电极旋转方向的上游侧离开,且以与第一辊电极(11)对置的方式配置。优选在第一辊电极(11)上覆盖遮蔽构件(40)。从喷嘴(31)吹出含有聚合性单体的反应气体。在第一、第二辊电极(11、12)彼此之间的被处理膜(9)的折返部分(9a)的内侧配置有放电生成气体喷嘴(21)。从放电生成气体喷嘴(21)向放电空间(14)吹出不含有聚合性单体的放电生成气体。

    膜表面处理方法及装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103459476B

    公开(公告)日:2014-11-26

    申请号:CN201280015839.1

    申请日:2012-03-23

    CPC classification number: C08J7/18 C08J2333/10 C08J2433/06

    Abstract: 本发明提供一种提高PMMA膜的胶粘强度的膜表面处理方法。在该膜表面处理方法中,将含有丙烯酸的第一反应气体从第一反应气体喷嘴(23)中吹出而与PMMA膜接触(第一接触工序)。然后,在第一辊电极(11)与第二辊电极(12)之间的间隙(14)中,向PMMA膜照射氩等离子体(第一照射工序)。然后,将含有丙烯酸的第二反应气体从第二反应气体喷嘴(43)中吹出而与PMMA膜接触(第二接触工序)。然后,在第二辊电极(12)与第三辊电极(13)之间的间隙(15)中,向PMMA膜照射氩等离子体(第二照射工序)。

    膜表面处理装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102791777B

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201180012728.0

    申请日:2011-02-28

    CPC classification number: B29D11/00634 G02B5/3033 H05H1/48 H05H2001/485

    Abstract: 本发明提供一种膜表面处理装置,在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时,能够防止电极等的污垢且提高粘接性等处理效果。在第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。使电极(11、12)旋转,从电极(11)向电极(12)输送被处理膜(9)。使反应气体喷嘴(31)沿着第一辊电极(11)的周向从电极(11、12)间的放电空间(14)向电极旋转方向的上游侧离开,且以与第一辊电极(11)对置的方式配置。优选在第一辊电极(11)上覆盖遮蔽构件(40)。从喷嘴(31)吹出含有聚合性单体的反应气体。在第一、第二辊电极(11、12)彼此之间的被处理膜(9)的折返部分(9a)的内侧配置有放电生成气体喷嘴(21)。从放电生成气体喷嘴(21)向放电空间(14)吹出不含有聚合性单体的放电生成气体。

    膜表面处理方法及装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103459476A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201280015839.1

    申请日:2012-03-23

    CPC classification number: C08J7/18 C08J2333/10 C08J2433/06

    Abstract: 本发明提供一种提高PMMA膜的胶粘强度的膜表面处理方法。在该膜表面处理方法中,将含有丙烯酸的第一反应气体从第一反应气体喷嘴(23)中吹出而与PMMA膜接触(第一接触工序)。然后,在第一辊电极(11)与第二辊电极(12)之间的间隙(14)中,向PMMA膜照射氩等离子体(第一照射工序)。然后,将含有丙烯酸的第二反应气体从第二反应气体喷嘴(43)中吹出而与PMMA膜接触(第二接触工序)。然后,在第二辊电极(12)与第三辊电极(13)之间的间隙(15)中,向PMMA膜照射氩等离子体(第二照射工序)。

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