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公开(公告)号：CN101355233A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810127276.0
申请日：2004-05-19
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G02B6/4296 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18388 , H01S5/18394 , H01S5/2214 , H01S5/32308 , H01S2301/18 , H01S2301/203
Abstract: 一种表面发光半导体激光元件，包括衬底、配置在衬底上的包括半导体多层的下反射体、配置在下反射体上的有源层、配置在有源层上的包括半导体多层的上反射体、具有暴露上反射体的第一开口并且在上反射体上延伸的化合物半导体层，以及配置在第一开口的内部的具有暴露上反射体的第二开口并且在化合物半导体层上延伸的金属膜，其中金属膜与化合物半导体层构成其复数折射率自第二开口的中心向外变化的复数折射率分布结构。还提供一种制造以单峰横向模式发射激光的方法。
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公开(公告)号：CN100385757C
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200510075572.7
申请日：2005-06-06
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: H01S5/18388 , H01S5/0421 , H01S5/18311 , H01S5/18394 , H01S2301/166
Abstract: 本发明涉及一种可以以如单横模的单峰光束进行激光振荡的面发射半导体激光器，和可以容易地以高成品率制造这样的激光器的制造方法。当在n型半导体衬底上形成具有柱型平台结构的面发射半导体激光器时，形成平台部分且直到p侧电极和n侧电极被形成。此后，跨p侧和n侧电极施加电压，且在提取输出光的同时激光器置于蒸汽气氛，由此在作为p型DBR层顶层的p型AlwGa1-wAs层上形成Al氧化物层，且形成如凹透镜的折射率分布。
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公开(公告)号：CN101467314B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200780021136.9
申请日：2007-06-04
Applicant: 索尼株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01S5/18355 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18313 , H01S5/1833 , H01S5/18372 , H01S5/3201 , H01S5/423
Abstract: 本发明提供一种面发光型半导体激光管，其能够以低成本容易地制造并能够将激光的偏振方向稳定在一个方向及增大输出。该半导体激光管包括发光单元(20)，所述发光单元具有依次层叠在基板(10)上的下第一DBR镜层(12)、下第二DBR镜层(13)、下隔离层(14)、具有发光区域(15A)的有源层(15)、上隔离层(16)、电流限制层(17)、上DBR镜层(18)和接触层(19)。下第一DBR镜层(12)包括氧化部分(30)，该氧化部分(30)围绕对应于发光区域(15A)的区域设置并在围绕发光区域(15A)旋转的方向上非均匀分布。氧化部分(30)由通过氧化低折射率层(12A)获得的一对多层膜(31、32)形成。这在有源层(15)中产生对应于多层膜(31、32)的不均匀分布的各向异性应力。
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公开(公告)号：CN1592011A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410085503.X
申请日：2004-05-19
Applicant: 索尼株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: G02B6/4296 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18388 , H01S5/18394 , H01S5/2214 , H01S5/32308 , H01S2301/18 , H01S2301/203
Abstract: 一种表面发光半导体激光元件，包括衬底、配置在衬底上的包括半导体多层的下反射体、配置在下反射体上的有源层、配置在有源层上的包括半导体多层的上反射体、具有暴露上反射体的第一开口并且在上反射体上延伸的化合物半导体层，以及配置在第一开口的内部的具有暴露上反射体的第二开口并且在化合物半导体层上延伸的金属膜，其中金属膜与化合物半导体层构成其复数折射率自第二开口的中心向外变化的复数折射率分布结构。还提供一种制造以单峰横向模式发射激光的方法。
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公开(公告)号：CN102163803B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201110069915.4
申请日：2007-06-20
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: H01S5/18347 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01S5/0014 , H01S5/0042 , H01S5/0202 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18344 , H01S5/423 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种能够显著地增加产量的半导体器件的制造方法以及通过使用该方法制造的半导体器件。在基板上形成半导体层之后，对于每个单位芯片面积在半导体层中形成具有至少一个相互不同的参数值的作为一组的多个功能部分。然后，测量和评估根据参数值改变的对象并之后，对于每个芯片面积分割基板，使得作为评估的结果的与给定标准对应的功能部分不被断开。由此，与给定标准对应的至少一个功能部分可通过适当地调整每个参数值由每个芯片面积形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102163803A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110069915.4
申请日：2007-06-20
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: H01S5/18347 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01S5/0014 , H01S5/0042 , H01S5/0202 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18344 , H01S5/423 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种能够显著地增加产量的半导体器件的制造方法以及通过使用该方法制造的半导体器件。在基板上形成半导体层之后，对于每个单位芯片面积在半导体层中形成具有至少一个相互不同的参数值的作为一组的多个功能部分。然后，测量和评估根据参数值改变的对象并之后，对于每个芯片面积分割基板，使得作为评估的结果的与给定标准对应的功能部分不被断开。由此，与给定标准对应的至少一个功能部分可通过适当地调整每个参数值由每个芯片面积形成。
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公开(公告)号：CN101467314A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200780021136.9
申请日：2007-06-04
Applicant: 索尼株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01S5/18355 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18313 , H01S5/1833 , H01S5/18372 , H01S5/3201 , H01S5/423
Abstract: 提供一种面发光型半导体激光管，其能够以低成本容易地制造并能够将激光的偏振方向稳定在一个方向及增大输出。该半导体激光管包括发光单元(20)，所述发光单元具有依次层叠在基板(10)上的下第一DBR镜层(12)、下第二DBR镜层(13)、下隔离层(14)、具有发光区域(15A)的有源层(15)、上隔离层(16)、电流限制层(17)、上DBR镜层(18)和接触层(19)。下第一DBR镜层(12)包括氧化部分(30)，该氧化部分(30)围绕对应于发光区域(15A)的区域设置并在围绕发光区域(15A)旋转的方向上非均匀分布。氧化部分(30)由通过氧化低折射率层(12A)获得的一对多层膜(31、32)形成。这在有源层(15)中产生对应于多层膜(31、32)的不均匀分布的各向异性应力。
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公开(公告)号：CN101127434A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710182107.2
申请日：2007-06-20
Applicant: 索尼株式会社
Abstract: 本发明提供了一种能够显著地增加产量的半导体器件的制造方法以及通过使用该方法制造的半导体器件。在基板上形成半导体层之后，对于每个单位芯片面积在半导体层中形成具有至少一个相互不同的参数值的作为一组的多个功能部分。然后，测量和评估根据参数值改变的对象并之后，对于每个芯片面积分割基板，使得作为评估的结果的与给定标准对应的功能部分不被断开。由此，与给定标准对应的至少一个功能部分可通过适当地调整每个参数值由每个芯片面积形成。
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公开(公告)号：CN100340038C
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200410068435.6
申请日：2004-05-12
Applicant: 索尼株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: B82Y20/00 , H01S5/0207 , H01S5/18311 , H01S5/305 , H01S5/343 , H01S2301/166
Abstract: 一种平面发射型半导体激光器件，包括：在n型GaAs台面式衬底上的、下反射层、下覆盖层、活性层、上覆盖层、上反射层，以及p型接触层的叠层结构。台面式衬底包括：圆形(100)晶面的上层部分、台面部分以及围绕上层部分的环形(100)晶面的下层部分，其中在上层部分和下层部分之间具有台面部分。当在台面式衬底上生长作为电流限制层的AlAs层时，使得上层部分的上侧上的AlAs层中的杂质浓度比台面部分的上侧上的AlAs层中的杂质浓度高，从而使上层部分的上侧上的AlAs层的氧化过程受到自主抑制。通过AlAs层的氧化反应的时间控制，可以将上层部分的上侧上的圆形AlAs层维持在具有精确形状和精确面积的未氧化状态。
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公开(公告)号：CN1964145A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200610136631.1
申请日：2004-05-19
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G02B6/4296 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/0425 , H01S5/18311 , H01S5/18388 , H01S5/18394 , H01S5/2214 , H01S5/32308 , H01S2301/18 , H01S2301/203
Abstract: 一种表面发光半导体激光元件，包括衬底、配置在衬底上的包括半导体多层的下反射体、配置在下反射体上的有源层、配置在有源层上的包括半导体多层的上反射体、具有暴露上反射体的第一开口并且在上反射体上延伸的化合物半导体层，以及配置在第一开口的内部的具有暴露上反射体的第二开口并且在化合物半导体层上延伸的金属膜，其中金属膜与化合物半导体层构成其复数折射率自第二开口的中心向外变化的复数折射率分布结构。还提供一种制造以单峰横向模式发射激光的方法。
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