存储元件和存储器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1941175A

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200610131712.2

    申请日:2006-09-29

    CPC classification number: G11C11/15

    Abstract: 本发明涉及一种存储元件,包括:存储层,其基于磁体的磁化状态保持信息;上被钉扎磁层,设置在该存储层上,其间有上中间层;以及下被钉扎磁层,设置在该存储层下,其间有下中间层,其中该上中间层和下中间层之一是形成隧穿势垒的绝缘层;另一个中间层是包括绝缘层和非磁导电层的叠层;且通过使电流沿所述叠层方向流过所述存储元件来改变所述存储层的磁化方向,从而能够在该存储层上记录信息。

    非易失性磁存储装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101527166A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200910127201.7

    申请日:2009-03-05

    CPC classification number: G11C11/1675 G11C11/161

    Abstract: 本发明提供一种非易失性磁存储装置,其包括磁阻效应元件,该磁阻效应元件包括:具有记录层的分层结构;与所述分层结构的下部电连接的第一布线;与所述分层结构的上部电连接的第二布线,以及包围所述分层结构的层间绝缘层。该磁阻效应元件还包括杨氏模量小于形成所述层间绝缘层的材料的杨氏模量的低杨氏模量区域。所述记录层具有易磁化轴和与该易磁化轴正交的难磁化轴。当形成记录层的材料的磁致伸缩常数λ为正值或负值时,低杨氏模量区域分别位于记录层的易磁化轴的延伸区域或难磁化轴的延伸区域中。本发明通过恰当地选择形成记录层的材料,例如可以降低自旋注入磁化反转的临界电流Ic,可以实现非易失性磁存储装置的低功耗。

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