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公开(公告)号：CN102955375A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210292618.0
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·R·J·达森 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/68 , H01L21/6875
Abstract: 本发明公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。
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公开(公告)号：CN102981370A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
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公开(公告)号：CN102193332A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060027.6
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
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公开(公告)号：CN102193331A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110060026.1
申请日：2011-03-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·坦凯特 , J·J·奥腾斯 , B·A·W·H·柯拿伦 , R·J·伍德 , G·F·尼诺 , M·J·里米 , J·H·W·雅各布斯 , T·S·M·劳伦特 , J·G·C·昆尼
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。本发明公开的光刻设备包括：衬底台，配置成支撑位于衬底支撑区域上的衬底；和位于邻近衬底支撑区域的表面上的加热器和/或温度传感器。
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公开(公告)号：CN118330997A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410454965.1
申请日：2018-05-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·德西蒙 , M·A·P·范德赫乌维尔 , T·S·M·劳伦特 , R·H·M·J·布洛克斯 , N·J·J·罗塞特 , J·J·H·格里特曾
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本申请公开了一种真空系统、支撑台、定位装置、光刻设备及计算机程序产品。该真空系统包括：第一压力线路，配置成将支撑台夹持至所述光刻设备的衬底台，所述支撑台配置成保持物体；第二压力线路，配置成向所述物体的周缘部分下方的所述支撑台的周缘区域施加第二压力，以便在曝光过程期间提取两相流；第三压力线路，配置成向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力，以便将所述物体夹持至所述支撑台；和连接线路，所述连接线路将所述第二压力线路连接到所述第三压力线路，其中，所述真空系统还包括第四压力线路，所述第四压力线路配置成提供从环境压力到所述第三压力线路的流，且所述第四压力线路与所述连接线路流体连通。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102955372B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210280770.7
申请日：2012-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , F·J·J·范鲍克斯台尔 , S·C·R·德尔克斯 , S·N·L·唐德斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法。所述衬底台组件包括：衬底台，用以支撑衬底；和气体处理系统，用以将气体提供至衬底台与安装在衬底台上的衬底之间的区域，其中由气体处理系统提供的气体的热导率在298K的条件下大于或等于100mW/(m.K)。
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公开(公告)号：CN102955375B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201210292618.0
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , H·J·M·凡阿毕伦 , A·R·J·达森 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/68 , H01L21/6875
Abstract: 本发明公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。
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公开(公告)号：CN110741319B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201880037425.6
申请日：2018-05-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·德西蒙 , M·A·P·范德赫乌维尔 , T·S·M·劳伦特 , R·H·M·J·布洛克斯 , N·J·J·罗塞特 , J·J·H·格里特曾
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种在卸载过程期间从支撑台卸载物体的方法，所述物体在曝光过程期间通过以下方式被夹持到所述支撑台：向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；以及向物体的周缘部分下方的支撑台的周缘区域施加第二压力，其中在夹持期间控制所述第一压力和所述第二压力，使得液体被保持在物体与密封构件之间，所述密封构件在支撑台的上表面处径向地定位在所述中心区域与所述周缘区域之间，并且朝向所述物体突出，所述方法包括：朝向环境压力增大所述第一压力；通过减小所述第二压力来去除保持在所述物体与所述密封构件之间的液体中的至少一些液体；以及朝向所述环境压力增大所述第二压力。
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公开(公告)号：CN110741319A
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201880037425.6
申请日：2018-05-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： G·德西蒙 , M·A·P·范德赫乌维尔 , T·S·M·劳伦特 , R·H·M·J·布洛克斯 , N·J·J·罗塞特 , J·J·H·格里特曾
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 一种在卸载过程期间从支撑台卸载物体的方法，所述物体在曝光过程期间通过以下方式被夹持到所述支撑台：向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；以及向物体的周缘部分下方的支撑台的周缘区域施加第二压力，其中在夹持期间控制所述第一压力和所述第二压力，使得液体被保持在物体与密封构件之间，所述密封构件在支撑台的上表面处径向地定位在所述中心区域与所述周缘区域之间，并且朝向所述物体突出，所述方法包括：朝向环境压力增大所述第一压力；通过减小所述第二压力来去除保持在所述物体与所述密封构件之间的液体中的至少一些液体；以及朝向所述环境压力增大所述第二压力。
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公开(公告)号：CN102981370B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
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