层叠型线圈部件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103827991B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201280043679.1

    申请日:2012-08-20

    CPC classification number: H01F5/06 H01F17/0013 H01F2017/004

    Abstract: 层叠型线圈部件具备:素体,其通过层叠多层绝缘体层而形成;以及线圈部,其通过多个线圈导体而形成在前述素体的内部;素体具有:在内部配置有线圈部的线圈部配置层;以及以夹持线圈部配置层的方式设置有至少一对且保持线圈部配置层的形状的保形层;保形层由含有SrO的玻璃陶瓷构成,线圈部配置层的软化点比保形层的软化点或熔点低。

    层叠型线圈部件
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103827992B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201280043701.2

    申请日:2012-08-20

    CPC classification number: H01F5/003 H01F17/0013 H01F41/042

    Abstract: 在层叠型线圈部件(1)中,烧成后的线圈导体(4,5)的粒径为10μm~22μm。通过将烧成后的线圈导体(4,5)的粒径设为10μm以上,能够将线圈导体的表面粗糙度减小至能够在高频下得到足够的Q值的程度。另外,通过使烧成后的线圈导体(4,5)的粒径为22μm以下,能够抑制烧成中线圈导体(4,5)的金属急剧熔解。通过上述情况,能够确保高品质,并且也能够得到高Q值。

    光调制器
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112558374A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011022277.6

    申请日:2020-09-25

    Inventor: 梅本周作

    Abstract: 本发明提供一种具有低折射率且高介电常数的缓冲层的光调制器。本发明的光调制器(100)具备:光波导(10a、10b);与光波导(10a、10b)相对地设置的电极(7、8);以及设置于光波导(10a、10b)与电极(7、8)之间的缓冲层(4)。缓冲层(4)的主材料是氟化镧。

    电光元件和光学调制元件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119882285A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202411449835.5

    申请日:2024-10-17

    Abstract: 本发明提供电光元件和光学调制元件。一种电光元件,其具有:单晶基板、由在前述单晶基板的主面上接触而形成的电介质薄膜形成的光波导(10)、以及对光波导(10)施加电压的电极,电介质薄膜由铌酸锂膜形成,所述铌酸锂膜为c轴取向的外延膜,所述电介质薄膜的LiNb3O8与LiNbO3的X射线强度比(LiNb3O8(60‑2)/LiNbO3(006))为0.02以上。

    带电介质薄膜的基板、光波导元件和光调制元件

    公开(公告)号:CN119335767A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202410949818.1

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本发明的技术问题在于,提供一种能够形成不易在铌酸锂膜产生裂纹、能够应用于从可见光到红外光的广泛的光、光损耗少的光波导元件和光调制元件的带电介质薄膜的基板。本发明的带电介质薄膜的基板(1)具有:单晶基板(2)、应力缓和层(31)、和电介质薄膜(3),应力缓和层(31)由c轴取向的外延膜构成,并且包括:LiNbO3的双晶结构,其包含第一晶体(3a)、以c轴为中心地所述第一晶体3a旋转180°而得到的第二晶体(3b);以及LiNb3O8相,电介质薄膜(3)由作为c轴取向的外延膜的铌酸锂膜构成,并且具有LiNbO3的双晶结构,膜厚为0.5μm~2μm,最大域宽度大于应力缓和层(31)的最大域宽度,应力缓和层(31)的膜厚相对于电介质薄膜(3)的膜厚的比例为5%~25%。

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