公开(公告)号：CN108789423A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201710295962.8

申请日：2017-04-28

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 吴飞 ,  许琦欣 ,  杜荣 ,  冯日盛 ,  周红吉 ,  李玲雨 ,  王帆

IPC: B25J11/00 ,  B25J19/00

CPC classification number: B25J11/0095 ,  B25J19/0091

Abstract: 本发明提供一种片盒搬运机器人，包括自动导引小车和架设在所述自动导引小车上的外部框架，所述外部框架上设有片盒承载装置、搬运所述片盒的机械手以及若干减振组件，所述若干减振组件对称分布在所述外部框架与自动导引小车之间，这样在片盒搬运机器人的移动过程中，当受到撞击或者外力或者被突然停止时，减振组件可以减缓其突然停止的动作，防止位于片盒架中的晶圆被突然停止的动作而与片盒发生碰撞或者片盒从片盒架上甩出去，同时由于减缓了突然停止的动作，能有效降低因机械振动对机器人本体造成的疲劳和寿命缩短，提高系统的可靠性。

公开(公告)号：CN108336011A

公开(公告)日：2018-07-27

申请号：CN201810190892.4

申请日：2013-11-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 一之濑刚 ,  井部泰辅

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  B25J11/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/6838 ,  B25J11/0095 ,  G03F7/70908 ,  H01L21/68742

Abstract: 搬送系统从上方通过吸盘单元(153)保持所载置的晶片(W)，并从下方通过上下移动销(140)进行吸附保持。然后，使吸盘单元(153)及上下移动销(140)下降直到晶片的下表面与晶片台(WTB)接触。此时，以不会因基于吸盘单元(153)和上下移动销(140)对晶片(W)的约束，而在晶片(W)上局部地发生过度约束且发生应变的方式，进行调整使得吸盘单元(153)的保持力和吸盘部件(124)的配置成为最佳。

公开(公告)号：CN104956465B

公开(公告)日：2018-05-29

申请号：CN201380071862.7

申请日：2013-11-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 原英明

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/677

CPC classification number: B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70783 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68778

Abstract: 搬送系统具有：晶片载台(WST)，其保持所载置的晶片(W)，并且能够沿着XY平面移动；吸盘单元(153)，其在规定位置的上方，从上方以非接触的方式保持晶片，且能够上下移动；和多个上下移动销(140)，其在晶片载台(WST)位于上述规定位置时，在晶片载台(WST)上能够从下方支承由吸盘单元(153)保持的晶片，且能够上下移动。并且，通过Z位置检测系统(146)来测定晶片(W)的平坦度，并基于该测定结果来独立地驱动将晶片(W)保持(支承)的吸盘单元(153)和上下移动销(140)。

公开(公告)号：CN107891427A

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：CN201710864986.0

申请日：2017-09-22

Applicant: 株式会社迪思科

Inventor： 中塚敦

IPC: B25J11/00 ,  B25J15/06

CPC classification number: B25J11/00 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616

Abstract: 提供机器人手臂和搬送机器人，使加工屑不会附着。板状的机器人手臂(2)具有第一保持单元(21)，其沿着一个面(211a)使空气流动而对晶片进行非接触吸附保持；和第二保持单元(22)，其在另一个面(221a)上对晶片进行吸引保持，保持单元(21)具有：第一板部件(211)；槽(213)，其形成于一个面，其一端向板部件的外周开口；喷出口(214)，其从槽的另一端朝向一端喷出空气；和提供路(215)，其形成于保持单元内部，将喷出口和安装部(12)所具有的第一连接口(216)连通，保持单元(22)具有：第二板部件(221)；吸引口(224)，其将另一个面和吸引源(61)连通；以及吸引路(223)，其形成于保持单元内部，将吸引口(224)和安装于机器人(1)的安装部(12)所具有的第二连接口(226)连通。

公开(公告)号：CN107534009A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680024813.1

申请日：2016-04-21

Applicant: 川崎重工业株式会社

Inventor： 后藤博彦

IPC: H01L21/677 ,  B25J9/06

CPC classification number: H01L21/68707 ,  B25J9/042 ,  B25J9/06 ,  B25J9/1697 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0014 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/6838

Abstract: 本发明的衬底搬送机器人具备：机器臂，能够升降；衬底保持装置(7)，安装在机器臂上；以及衬底检测器件(23)，用来检测由衬底保持装置(7)保持的衬底。衬底检测器件(23)具有：衬底传感器，用来检测衬底；以及传感器升降器件(16、17)，用来不使机器臂升降而使衬底传感器升降，以扫描包含衬底的配置位置的区域。本发明可一边防止机器人与装置碰撞一边无障碍地检测具备具有小尺寸的开口部的装置内的衬底。

公开(公告)号：CN107534008A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680023585.6

申请日：2016-02-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·R·杜博伊斯 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  K·嘉纳基拉曼 ,  H·K·波内坎蒂 ,  S·巴录佳 ,  P·威尔顿

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: B25J11/0095 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

Abstract: 本公开总体上关于用于在多个工艺腔室之间传送半导体基板的半导体工艺装备。更具体而言，本文中所述的实施例关于使用输送装置以在多个工艺腔室之间传送或交换半导体基板的系统与方法，所述输送装置采用至少两个叶片以用于在多个处理腔室之间同时传送基板。

公开(公告)号：CN104471699B

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201380037331.6

申请日：2013-06-25

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 山本真弘

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67772 ,  B25J11/0095 ,  G05B2219/40012 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/77

Abstract: 提供一种抑制基板处理效率下降，并且降低因开放密封容器而导致容置在内部的基板受到的破坏的技术。基板处理装置(1)具有：密封容器(11)，其具有在内部容置基板(9)的空间，并形成有用于搬入或者搬出基板(9)的开口(121)；开闭机构(17)，开闭开口(121)；基板处理部(30)，对基板(9)进行清洗处理；以及，第一搬运机械手(IR1)，将基板(9)搬入搬出密封容器(11)。另外，基板处理装置(1)具有进度表创建部(401)，该进度表创建部(401)根据基板处理部(30)处理基板(9)的处理时间，创建规定了开闭机构(17)开闭开口(121)的时机以及基板搬运部(20)向密封容器(11)搬入基板(9)或者从密封容器(11)搬出基板(9)的时机的进度表数据(441)。

公开(公告)号：CN107206588A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201580075322.5

申请日：2015-02-04

Applicant: 川崎重工业株式会社

Inventor： 藤森一夫 ,  吉田雅也

IPC: B25J9/10 ,  H01L21/677

CPC classification number: B25J9/1641 ,  B25J9/12 ,  B25J11/0095 ,  G05B19/298 ,  G05B2219/34013 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/68707 ,  Y10S901/02 ,  Y10S901/14 ,  Y10S901/23

Abstract: 机械手的偏移自动调整装置（2）具备参数最佳化部（27），该参数最佳化部（27）在偏移评价值大于规定的阈值的情形时，使控制参数设定部（23）重新设定多个控制参数中的任一个控制参数，且反复地分别使控制参数设定部（23）、机械手控制部（22）、偏移取得部（25）及判定部（26）进行重新设定上述控制参数、使末端执行器（15）直线移动、取得偏移及进行判定，直至上述偏移评价值达到上述规定的阈值以下为止，使多个控制参数的组合最佳化。

公开(公告)号：CN103846905B

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201310632528.6

申请日：2013-12-02

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 理查德·布兰克 ,  马特·麦克莱伦

IPC: B25J9/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J9/042 ,  B25J9/043 ,  B25J11/0095 ,  H01L21/67748 ,  Y10S901/27

Abstract: 本发明提供了双臂真空机械手，具体提供了一种用于衬底处理系统的双臂机械手，其包括基部和具有伸展位置和缩回位置的第一臂。第一和第二臂中的每个包括：第一臂部分，其具有能旋转地连接到所述基部的一端；第二臂部分，其具有能旋转地连接到所述第一臂部分的另一端的一端；端部执行器，其具有能旋转地连接到所述第二臂部分的另一端的一端和分别配置为支承所述第一和第二衬底的另一端。当第一和第二臂被配置为处于所述缩回位置时，第二臂部分和端部执行器之间的连接部分别位于所述第二和第一衬底的上方或下方，且所述第一衬底不位于所述第二衬底的上方或下方。

公开(公告)号：CN103503127B

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201280022639.9

申请日：2012-03-12

Applicant: 布鲁克斯自动化公司

Inventor： U.吉尔克里斯特 ,  R.T.卡夫尼 ,  J.克里什纳萨米 ,  M.德鲁 ,  J.T.穆拉

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67706 ,  B25J9/042 ,  B25J9/043 ,  B25J11/0095 ,  B25J18/04 ,  H01L21/67742 ,  Y10S901/15 ,  Y10S901/27 ,  Y10T74/20305 ,  Y10T74/20329

Abstract: 一种基底处理设备包括框架、连接到框架上的第一SCARA臂，其包括构造成沿第一径向轴线延伸和收缩的末端执行器；连接到框架上的第二SCARA臂，其包括构造成沿第二径向轴线延伸和收缩的末端执行器，SCARA臂具有公共肩部旋转轴线；以及联接到SCARA臂上的驱动区段构造成使各个SCARA臂沿相应的径向轴线独立地延伸，且使各个SCARA臂围绕公共肩部旋转轴线旋转，其中第一径向轴线相对于第二径向轴线成角，且相应的臂的末端执行器与相应的径向轴线对准，其中各个末端执行器构造成用以保持至少一个基底，且末端执行器位于公共传递平面上。