一种在不锈钢表面制备金刚石薄膜的方法

    公开(公告)号:CN107400874A

    公开(公告)日:2017-11-28

    申请号:CN201710532082.8

    申请日:2017-07-03

    CPC classification number: C23C16/27 C23C16/0281

    Abstract: 本发明提供了一种以Cr/CrN/CrTiAlN为过渡层在不锈钢表面制备金刚石薄膜的方法,所述方法包括:对不锈钢表面进行喷砂处理,采用磁控溅射在经过喷砂处理的不锈钢表面沉积Cr/CrN/CrTiAlN过渡层,采用化学气相沉积方法,在制备的Cr/CrN/CrTiAlN过渡层上沉积金刚石薄膜;本发明以Cr/CrN/CrTiAlN为过渡层,有效阻挡了铁、碳的扩散,提高了形核率,可以在低温度下制备金刚石薄膜,该金刚石薄膜的应力值较小,小于等于1.25GPa,与不锈钢热导率相比,本发明含涂层不锈钢热导率提高3%~11%。

    合成CVD金刚石
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104746038B

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201510083320.2

    申请日:2010-12-15

    Abstract: 本发明涉及合成CVD金刚石以及用于在合成环境中在基底上合成金刚石材料的化学气相沉积(CVD)方法,所述方法包含:提供基底;提供源气体;使所述源气体离解;和允许在基底上的同质外延金刚石合成;其中所述合成环境包含原子浓度为约0.4ppm至约50ppm的氮;并且其中该源气体包含:a)氢的原子分数Hf,其为约0.40至约0.75;b)碳的原子分数Cf,其为约0.15至约0.30;c)氧的原子分数Of,其为约0.13至约0.40;其中Hf+Cf+Of=1;其中碳的原子分数与氧的原子分数之比Cf:Of满足比率:约0.45:1

    一种环状微织构金刚石涂层刀片的制备方法

    公开(公告)号:CN106893998A

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:CN201710046006.6

    申请日:2017-01-22

    CPC classification number: C23C16/27 C23C16/0227 C23C16/0263

    Abstract: 一种环状微织构金刚石涂层刀片的制备方法,包括以下步骤:(1)对刀片进行表面的清洗预处理;(2)在刀片表面获得微织构形貌;(3)对刀片进行酸碱预处理;(4)通过CVD沉积装置对刀片表面进行金刚石涂层,得到所需的微织构化金刚石薄膜涂层。本发明通过对刀片的表面的微织构化处理,达到提高刀片表面的抗粘结性能的目的,使刀片在切削时不仅具有金刚石涂层的高硬度,高耐磨性的优良切削加工性能还具备有微织构的自润滑效果,能够很好的解决刀片在切削时的摩擦润滑状态,减小摩擦,防止粘结,有效降低切削力和切削温度,减小刀片磨损。采用本发明制备出来的金刚石涂层刀片可广泛用于难加工材料的切削加工。

    石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN106567054A

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201610866132.1

    申请日:2016-09-30

    Inventor: 胡晓君 仰宗春

    CPC classification number: C23C16/27

    Abstract: 本发明提供了一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其制备方法为:用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;采用热丝化学气相沉积法,在经过预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜;本发明简单易行、容易操作,制备得到的具有强Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜与石英基体结合力较弱,为剥离获得具有Si‑V发光的纳米金刚石晶粒奠定了良好的基础,这对于实现纳米金刚石在生物标记、单光子源等领域的应用具有十分重要的科学意义和工程价值。

    一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置

    公开(公告)号:CN106498367A

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201610920789.1

    申请日:2016-10-21

    CPC classification number: C23C16/45563 C23C16/27 C23C16/4412

    Abstract: 一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置。属于金刚石薄膜的化学气相沉积技术领域。为了解决真空条件下CVD金刚石薄膜在微刀具上的沉积问题。壳体上下端分别与上盖和底座可拆卸密封连接构成反应室,真空计固定在上盖上,真空计的检测端紧密穿入上盖设置在壳体内,上盖上固定有与壳体内腔相通的管路,针阀固定在上盖的管路上,针阀与管路相通,上盖的观察孔一处固定有观察窗一,上盖上设有多个冷水环槽,壳体的侧壁上的两个观察孔二处各固定有一个观察窗二,电磁阀固定在底座的进气孔处,导气管一端连接于进气箱,另一端与反应室相通,导气管上安装有导气阀门,载物台设置在反应室内并固定在底座上。本发明主要用于对沉积件微刀具表面金刚石薄膜沉积。

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