公开(公告)号：CN106653536A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201610584326.2

申请日：2016-07-22

Applicant: 格罗方德半导体公司

Inventor： 王允愈 ,  J·布鲁利

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/04

CPC classification number: G01N23/04 ,  G01N2223/03 ,  G01N2223/607 ,  H01J37/26 ,  H01J37/04 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/1514 ,  H01J2237/2614

Abstract: 本发明公开由暗场电子全像以高解析度产生不失真暗场应变图的方法，具体涉及一种用于测量半导体材料或其它晶体材料的应变的线内暗场全像方法，其使用具有用于使电子射束穿过应变及无应变样本的电子枪的穿透式电子显微镜。于磁倾斜线圈与该样本之间的聚光迷你‑透镜在穿过该对样本之前以一角度增加该射束的偏斜。第一物镜透镜形成各该样本的虚拟影像，而第二物镜透镜将各该样本的该虚拟影像聚焦在中介影像平面，以形成各该样本的中介影像。双棱镜在该样本之间产生形成于该影像平面的干涉图案，接着可观察该干涉图案以判断该应变样本的应变程度，并提供具有最小光学失真的无慧星像差的应变图。

公开(公告)号：CN102414774A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080018886.2

申请日：2010-04-29

Applicant: ATTI国际服务公司

Inventor： 阿尔图什·A·阿布加良 ,  伊莱·莱维

IPC: H01J29/58

CPC classification number: H01J29/62 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/18 ,  H01J35/14 ,  H01J37/063 ,  H01J37/065 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/0656 ,  H01J2237/28

Abstract: 一种系统，在静电区域中将电子束聚焦为电子层流，该电子层流具有电流密度的均匀分布和显著缩小倍率，该系统包括：本体(11)，其限定电场的边界；静电部分中的场形成阴极电极系统(1，2，3，4)、聚焦电极系统(5，6，7，12)和至少一个阳极电极系统(8，9，10)；和第二无电场部分，其包括布置在本体(11)内部的可调屏幕系统(16)。场形成近阴极电极系统(1，2，3，4)包括电连接到平面部分(2)的阴极(1)和电连接到柱形部分(4)的曲线部分(3)。阳极电极系统(8，9，10)包括开口部分、电连接到平面部分(8)的阳极、和电连接到柱形部分(10)的曲线部分(9)，其与阴极电极系统相似或相同，并且与阴极电极系统对称。根据CGMR概念方法计算和创建系统参数。

公开(公告)号：CN100587521C

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200680019662.7

申请日：2006-05-29

Applicant: 电子线技术院株式会社

Inventor： 金浩燮 ,  金秉辰

IPC: G02B3/00

CPC classification number: H01J3/18 ,  H01J3/26 ,  H01J37/12 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/1205

Abstract: 本发明提供一种具有简单结构的微柱。本发明涉及一种包括电子发射源和透镜的电子柱，更具体地涉及一种具有可便于对准和组装电子发射源和透镜的结构的电子柱。根据本发明的具有电子发射源和透镜单元的电子柱的特征在于：所述透镜单元包括两个以上的透镜层，并执行源透镜功能和聚焦功能。此外，所述电子柱的特征在于：所述透镜单元包括一个以上的偏转器型透镜层，从而附加地执行偏转器功能。

公开(公告)号：CN101416269A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780009281.5

申请日：2007-01-22

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 坷若许·沙丹特曼德 ,  彼德·L·凯勒曼

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/0492

Abstract: 本发明是有关于一种带状离子束植入机系统的架构，在一实施例中，架构包括：加速/减速平行化透镜系统，其用于接收扇型带状离子束且用于将扇型带状离子束至少平行化(且或许亦加速或减速)为实质上平行的带状离子束；以及能量过滤系统，其在加速/减速平行化透镜系统的下游且在将由实质上平行的带状离子束植入的工件之前。加速/减速平行化透镜系统包括用于至少平行化(且或许亦加速或减速)扇型带状离子束的透镜以及用于使实质上平行的带状离子束加速或减速的加速/减速透镜。平行化透镜允许高电流带状离子束以可下降至低至约200eV的能量来传送至工件。能量过滤系统提供实质上没有能量污染的实质上平行的带状离子束。

公开(公告)号：CN1820347A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200480019446.3

申请日：2004-05-26

Applicant: 成像科学仪器公司

Inventor： 泰伊·特拉维斯·格里布

IPC: H01J37/285 ,  G01N25/00

CPC classification number: H01J37/285 ,  B82Y15/00 ,  H01J37/05 ,  H01J37/10 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/244

Abstract: 一种原子探针包括处于其本地电极以及其探测器之间的一个或多个中间电极，其中中间电极被充电到某个电势，使得它们过滤假离子并阻止它们到达探测器，和/或调节(聚焦)离子的飞行圆锥体以具有更窄或更宽的角度，从而调节原子探针所提供的图像的放大倍数和视场。优选配置在于同时提供过滤电极和聚焦电极，它们可相对于彼此活动并且可以套管式集成，以便某个范围的过滤和聚焦效应。

公开(公告)号：CN102067271B

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：CN200980122615.9

申请日：2009-04-15

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： M·J-J·威兰 ,  亚历山大·H·V·范维恩

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/10 ,  H01J2237/15

Abstract: 本发明涉及一种使用多个子束对目标(11)进行曝光的带电粒子多子束光刻系统。该系统具有波束产生器、子束阻断器(6)和子束投影器。该波束产生器配置成产生多个带电粒子子束。该子束阻断器(6)配置成图案化子束。该子束投影器配置成将图案化的子束投射到目标表面(11)。该系统还包含偏转装置。该偏转装置具有多个存储单元。每个存储单元设置有存储件且连接到偏转器的开关电极。

公开(公告)号：CN103456588A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201310211268.5

申请日：2013-05-31

Applicant: FEI公司

Inventor： T.米勒 ,  S.克罗格 ,  S.张 ,  M.马佐斯 ,  A.格劳佩拉

IPC: H01J37/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/026 ,  H01J37/10 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/185 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/18 ,  H01J2237/188 ,  H01J2237/31713 ,  H01J2237/31749

Abstract: 申请人已发现，使用等离子体源的离子束系统中由高能离子与中性气体分子之间的电荷交换性相互作用产生的活跃中性粒子到达样本。这些活跃中性粒子产生了离开束冲击点的二次电子。解决这个问题的方法包括在该等离子源下方的多个差分泵送室以减少使这些离子与气体相互作用的机会。

公开(公告)号：CN102067271A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200980122615.9

申请日：2009-04-15

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 简·J·维兰德 ,  亚历山大·H·V·范维恩

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/10 ,  H01J2237/15

Abstract: 本发明涉及一种使用多个子束对目标(11)进行曝光的带电粒子多子束光刻系统。该系统具有波束产生器、子束阻断器(6)和子束投影器。该波束产生器配置成产生多个带电粒子子束。该子束阻断器(6)配置成图案化子束。该子束投影器配置成将图案化的子束投射到目标表面(11)。该系统还包含偏转装置。该偏转装置具有多个存储单元。每个存储单元设置有存储件且连接到偏转器的开关电极。

公开(公告)号：CN101416269B

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200780009281.5

申请日：2007-01-22

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 坷若许·沙丹特曼德 ,  彼德·L·凯勒曼

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/0492

Abstract: 本发明是有关于一种带状离子束植入机系统的架构，在一实施例中，架构包括：加速/减速平行化透镜系统，其用于接收扇型带状离子束且用于将扇型带状离子束至少平行化(且或许亦加速或减速)为实质上平行的带状离子束；以及能量过滤系统，其在加速/减速平行化透镜系统的下游且在将由实质上平行的带状离子束植入的工件之前。加速/减速平行化透镜系统包括用于至少平行化(且或许亦加速或减速)扇型带状离子束的透镜以及用于使实质上平行的带状离子束加速或减速的加速/减速透镜。平行化透镜允许高电流带状离子束以可下降至低至约200eV的能量来传送至工件。能量过滤系统提供实质上没有能量污染的实质上平行的带状离子束。

公开(公告)号：CN100543920C

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200480014578.7

申请日：2004-05-27

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 彼得·克勒伊特 ,  马尔科·扬-哈科·威兰

IPC: H01J37/30

CPC classification number: H01J37/3007 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/045 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/1501

Abstract: 本发明涉及用于带电粒子束曝光装置的带电粒子光学系统，该系统包括：第一光圈装置，包括至少一个基本上圆形的第一光圈，用于部分屏蔽用来形成至少一个带电粒子小射束的发射的带电粒子束；透镜系统，包括至少一个用来将来自于所述第一光圈的带电粒子小射束进行聚焦的透镜，将其聚焦在该透镜的图像焦平面内或附近；偏转器装置，基本上位于该图像焦平面内，包括至少一个小射束偏转器，该偏转器用来在接收到控制信号后偏转经过的所述带电粒子小射束；以及第二光圈装置，包括至少一个位于第一光圈的共轭平面内的基本上圆形的第二光圈，并且该第二光圈与该第一光圈以及该小射束偏转器对准，用来阻挡由小射束偏转器偏转的带电粒子束，或者让其通过。