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公开(公告)号:CN102762762B
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN201180010394.3
申请日:2011-02-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/30 , H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC classification number: H01J37/305 , C23C14/30 , H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/3132
Abstract: 本发明提供一种在高真空领域中也能够抑制电子束发散、防止蒸发率降低且稳定地成膜的真空处理装置。真空处理装置(蒸镀装置)(1)具有真空蒸镀室(50)、电子枪(20)和电子束聚集机构(150)。所述真空蒸镀室(50)中,设置有容纳蒸发材料(31)的蒸发源以及该蒸发材料(31)被加热并作为蒸镀膜被蒸镀的被处理部件(10)。所述电子枪与所述真空蒸镀室邻接设置,并发射对所述蒸发材料(31)加热的电子束。所述电子束聚集机构(150)设置于所述真空蒸镀室(50)内,对从电子枪(50)射出的所述电子束进行聚集。
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公开(公告)号:CN102759540A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201210135414.6
申请日:2007-02-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/225 , G03B42/00
CPC classification number: G01N23/20 , H01J37/21 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/1532 , H01J2237/1536 , H01J2237/216 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明为扫描型电子显微镜装置以及使用它的摄影方法,在使用SEM用于摄影试样的摄影方案的自动生成中,会有以下情况:(1)当需要检查的地方增多时,摄影方案的生成需要庞大的劳力和时间;(2)生成的摄影方案的正确性、以及生成时间成为问题;(3)由于制作时不能预想的现象,通过制作好的摄影方案的摄影或者处理失败。在本发明中,做成:(1)从CAD数据自动计算用于进行观察的摄影点的个数、坐标、尺寸·形状、摄影顺序、摄影位置变更方法、摄影条件、摄影顺序的一部分或者全部。(2)能够任意设定为生成摄影方案的输入信息、输出信息的组合。(3)伴随对于任意的摄影点中的摄影或者处理的成功与否判定,在判定为失败的场合进行变更摄影点或者摄影顺序来使摄影或者处理成功的救援处理。
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公开(公告)号:CN1971571A
公开(公告)日:2007-05-30
申请号:CN200610144417.0
申请日:2006-11-07
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/28 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G06T7/0006 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/265 , H01J37/3174 , H01J2237/216 , H01J2237/24578 , H01J2237/2487 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明,做成为了:在使用了测长SEM的半导体图形的形状评价装置中,不需要传统上所必需的与半导体制造的各工序相配的数据变换,并统一管理保有数据,这样,就能够容易从保有数据中选择利用于各工序的有效数据,另外,即使在形成图形的形状存在时间变动的情况下,也可以根据时间序列数据进行拍摄方案的修正,能够生成可稳定计测的拍摄方案,在使用测长SEM的半导体图形的形状评价装置中,为了统一管理被存储在数据库301内的多种数据,使多种数据间的坐标系相对应并任意选择多种数据的一部分或全部,再用选择出来的数据生成测长SEM中用来观察半导体图形的拍摄方案。
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公开(公告)号:CN1589490A
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN02822954.1
申请日:2002-10-04
Applicant: 应用材料以色列有限公司
Inventor: 艾舍·珀尔
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/1471 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/1501 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
Abstract: 本发明提供了一种方法,用于自动对准带电颗粒束与孔。从而引入散焦并基于图象移动计算的信号施加到偏转单元。进而提供了用于散光校正的方法。从而在改变到象散校正装置的信号时,对于产生的一组帧估计清晰度。
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公开(公告)号:CN1411025A
公开(公告)日:2003-04-16
申请号:CN02143258.9
申请日:2002-09-25
Applicant: 株式会社东芝
Inventor: 阿部秀昭
IPC: H01J37/00 , G01B15/00 , G01N23/225 , H01L21/66
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/21 , H01J37/3174 , H01J2237/216 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明提供一种不论样品的结构如何,总是稳定地消除包含倍率误差的像畸变的带电束装置。在具有带电束生成源10、聚光透镜12、偏转器14、物镜16的带电束装置1中,具有调整供给物镜16的电流同时输出带电束EB聚焦在样品20的表面上时的物镜16的焦点控制电流I1的焦点位置检测部28、检测样品表面高度的高度检测器51、根据检测的样品20的高度计算用于控制物镜16的电流Io的焦点控制信号运算部24、计算控制电流差ΔI(I1-Io)的焦点控制信号差值运算部32、根据控制电流差ΔI计算带电束EB的倍率变化量ΔMag的倍率变化量运算部34和根据倍率变化量ΔMag生成用于修正供给偏转器14的控制信号的偏转控制信号的偏转控制部36。
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公开(公告)号:CN101572207B
公开(公告)日:2013-05-29
申请号:CN200810132080.0
申请日:2008-07-24
Applicant: 以色列商·应用材料以色列公司
Inventor: 尼珥·玆维
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/221
Abstract: 本发明公开一种带电粒子束的图案无变化聚焦。一种用于聚焦扫描显微镜的方法,该方法包括以一次带电粒子束扫描晶片的参考单元裸片的第一部位,检测从该部位处发射的二次束,以及基于二次束来计算该部位的第一聚焦等级。该方法包括以一次束来扫描晶片的指定单元裸片的第二部位,同时调制一次束的焦深,参考单元裸片和指定的单元裸片具有全等的布局,第二部位与第一部位对应在位置上矢量地对应;以及响应一次束来检测从第二部位处发射的二次束。该方法还包括基于所检测的从第二部位发射的二次束来计算第二部位的第二聚焦等级;以及利用第一和第二聚焦等级来确定第二部位的一次束的准确聚焦。
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公开(公告)号:CN102762762A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201180010394.3
申请日:2011-02-16
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/30 , H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC classification number: H01J37/305 , C23C14/30 , H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/3132
Abstract: 本发明提供一种在高真空领域中也能够抑制电子束发散、防止蒸发率降低且稳定地成膜的真空处理装置。真空处理装置(蒸镀装置)(1)具有真空蒸镀室(50)、电子枪(20)和电子束聚集机构(150)。所述真空蒸镀室(50)中,设置有容纳蒸发材料(31)的蒸发源以及该蒸发材料(31)被加热并作为蒸镀膜被蒸镀的被处理部件(10)。所述电子枪与所述真空蒸镀室邻接设置,并发射对所述蒸发材料(31)加热的电子束。所述电子束聚集机构(150)设置于所述真空蒸镀室(50)内,对从电子枪(50)射出的所述电子束进行聚集。
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公开(公告)号:CN102759539A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201210135356.7
申请日:2007-02-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/225 , G03B42/00
CPC classification number: G01N23/20 , H01J37/21 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/1532 , H01J2237/1536 , H01J2237/216 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明为扫描型电子显微镜装置以及使用它的摄影方法,在使用SEM用于摄影试样的摄影方案的自动生成中,会有以下情况:(1)当需要检查的地方增多时,摄影方案的生成需要庞大的劳力和时间;(2)生成的摄影方案的正确性、以及生成时间成为问题;(3)由于制作时不能预想的现象,通过制作好的摄影方案的摄影或者处理失败。在本发明中,做成:(1)从CAD数据自动计算用于进行观察的摄影点的个数、坐标、尺寸·形状、摄影顺序、摄影位置变更方法、摄影条件、摄影顺序的一部分或者全部。(2)能够任意设定为生成摄影方案的输入信息、输出信息的组合。(3)伴随对于任意的摄影点中的摄影或者处理的成功与否判定,在判定为失败的场合进行变更摄影点或者摄影顺序来使摄影或者处理成功的救援处理。
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公开(公告)号:CN100585786C
公开(公告)日:2010-01-27
申请号:CN200410083277.1
申请日:2004-08-27
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01J37/21 , H01J2237/216
Abstract: 在例如电子显微镜之类的粒子光学设备中,自动地执行聚焦过程是有利的。根据本发明,故意使要被聚焦的电子束像散到一定程度。利用这个像散射束,在物镜的不同设定时形成两幅样本的图像,此后确定每幅图像中的像散模糊方向,例如,借助于二维傅立叶变换(FFT)。如果在从物镜的第一设定到第二设定的变化中通过了最佳焦点,那么像散模糊的方向彼此垂直。通过这两个设定之间的插值(该过程可以是迭代的),现在可以确定最佳焦点。通过在物镜的两个设定时形成两幅图像并且从彼此中减去FFT,就可以消除样本自身中的各向异性。
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公开(公告)号:CN101025402A
公开(公告)日:2007-08-29
申请号:CN200710007073.3
申请日:2007-02-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/225 , G03B42/00
CPC classification number: G01N23/20 , H01J37/21 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/1532 , H01J2237/1536 , H01J2237/216 , H01J2237/2817
Abstract: 在使用SEM用于摄影试样的摄影方案的自动生成中,会有以下情况:(1)当需要检查的地方增多时,摄影方案的生成需要庞大的劳力和时间;(2)生成的摄影方案的正确性、以及生成时间成为问题;(3)由于制作时不能预想的现象,通过制作好的摄影方案的摄影或者处理失败。在本发明中,做成:(1)从CAD数据自动计算用于进行观察的摄影点的个数、坐标、尺寸·形状、摄影顺序、摄影位置变更方法、摄影条件、摄影顺序的一部分或者全部。(2)能够任意设定为生成摄影方案的输入信息、输出信息的组合。(3)伴随对于任意的摄影点中的摄影或者处理的成功与否判定,在判定为失败的场合进行变更摄影点或者摄影顺序来使摄影或者处理成功的救援处理。
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