公开(公告)号：US20110089612A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：US12978837

申请日：2010-12-27

Applicant: YOSHIAKI IKUTA ,  Yasutomi Iwahashi ,  Kenji Okamura

Inventor： YOSHIAKI IKUTA ,  Yasutomi Iwahashi ,  Kenji Okamura

IPC: B29C35/08 ,  B29C59/02

CPC classification number: B29C33/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/0002

Abstract: An object of the present invention is to provide a TiO2-containing quartz glass substrate which, when used as a mold base for nanoimprint lithography, can form a concavity and convexity pattern having a dimensional variation falling within ±10%. The invention relates to a TiO2-containing quartz glass substrate: in which a coefficient of thermal expansion in the range of from 15 to 35° C. is within ±200 ppb/° C.; a TiO2 concentration is from 4 to 9 wt %; and a TiO2 concentration distribution, in a substrate surface on the side where a transfer pattern is to be formed, is within ±1 wt %.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种含TiO 2的石英玻璃基板，其用作纳米压印光刻用的模具基底时，可以形成尺寸变化在±10％以内的凹凸图案。 本发明涉及一种含TiO 2的石英玻璃基板，其中15至35℃范围内的热膨胀系数在±200ppb /℃以内。 TiO 2浓度为4〜9重量％。 并且在要形成转印图案的一侧的基板表面中的TiO 2浓度分布在±1重量％以内。

公开(公告)号：US20100323872A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12869035

申请日：2010-08-26

Applicant: Akio KOIKE ,  Yasutomi IWAHASHI ,  Shinya KIKUGAWA ,  Yuko TACHIBANA

Inventor： Akio KOIKE ,  Yasutomi IWAHASHI ,  Shinya KIKUGAWA ,  Yuko TACHIBANA

IPC: C03C3/04

CPC classification number: C03B19/1453 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO2—SiO2 glass in which when used as an optical member for an exposure tool for EUVL, a thermal expansion coefficient is substantially zero at the time of irradiation with high-EUV energy light, and physical properties of a multilayer can be kept over a long period of time by releasing hydrogen from the glass. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a fictive temperature of 1,100° C. or lower, a hydrogen molecule concentration of 1×1016 molecules/cm3 or more, and a temperature, at which a linear thermal expansion coefficient is 0 ppb/° C., falling within the range of from 40 to 110° C.

Abstract translation: 本发明提供了一种TiO 2 -SiO 2玻璃，其中当用作用于EUVL的曝光工具的光学部件时，在高EUV能量光照射时热膨胀系数基本上为零，并且多层罐的物理性能 通过从玻璃中释放氢气，保持很长一段时间。 本发明涉及一种假想温度为1100℃或更低，氢分子浓度为1×1016分/厘米3或更高的含钛二氧化硅玻璃以及线性热膨胀系数为0的温度 ppb /℃，在40〜110℃的范围内。

公开(公告)号：US20100261597A1

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：US12824923

申请日：2010-06-28

Applicant: Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

Inventor： Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

IPC: C03C3/04

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention is to provide a TiO2—SiO2 glass having suitable thermal expansion properties as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a temperature, at which a coefficient of thermal expansion is 0 ppb/° C., falling within the range of 23±4° C. and a temperature width, in which a coefficient of thermal expansion is 0±5 ppb/° C., of 5° C. or more.

Abstract translation: 本发明提供具有合适的热膨胀性能的TiO 2 -SiO 2玻璃作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及热膨胀系数为0ppb /℃的温度为23±4℃的温度范围的含TiO 2的二氧化硅玻璃，其温度范围为 的热膨胀为0±5ppb /℃，为5℃以上。

公开(公告)号：US07538052B2

公开(公告)日：2009-05-26

申请号：US11957855

申请日：2007-12-17

Applicant: Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

Inventor： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/06 ,  C03B37/018

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54

Abstract: A silica glass containing TiO2, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., a F concentration of at least 100 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C.A process for producing a silica glass containing TiO2, which comprises a step of forming a porous glass body on a target quartz glass particles obtained by flame hydrolysis of glass-forming materials, a step of obtaining a fluorine-containing porous glass body, a step of obtaining a fluorine-containing vitrified glass body, a step of obtaining a fluorine-containing formed glass body and a step of carrying out annealing treatment.

Abstract translation: 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其假想温度为至多1200℃，F浓度为至少100ppm，热膨胀系数为0±200ppb /℃，为0〜100℃。 含有TiO 2的二氧化硅玻璃的制造方法，其包括在通过玻璃形成材料的火焰水解得到的目标石英玻璃粒子上形成多孔玻璃体的工序，得到含氟多孔玻璃体的工序， 获得含氟玻璃化玻璃体，获得含氟成形玻璃体的步骤和进行退火处理的步骤。

公开(公告)号：US20080305941A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12133007

申请日：2008-06-04

Applicant: Shigeru MAIDA ,  Hisatoshi OTSUKA

Inventor： Shigeru MAIDA ,  Hisatoshi OTSUKA

IPC: C03C3/06

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52

Abstract: In the nanoimprint lithography, a titania-doped quartz glass having a CTE of −300 to 300 ppb/° C. between 0° C. and 250° C. and a CTE distribution of up to 100 ppb/° C. at 25° C. is suited for use as nanoimprint molds.

Abstract translation: 在纳米压印光刻中，掺杂二氧化钛的石英玻璃在0℃和250℃之间具有-300至300ppb /℃的CTE，在25℃下的CTE分布高达100ppb /℃ C.适用于纳米压印模具。

公开(公告)号：USRE40586E1

公开(公告)日：2008-11-25

申请号：US11880424

申请日：2007-07-20

Applicant: Kenneth E. Hrdina ,  John E. Maxon ,  Brent R. Mclean

Inventor： Kenneth E. Hrdina ,  John E. Maxon ,  Brent R. Mclean

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/62 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70958

Abstract: Titania-containing silica glass bodies and extreme ultraviolet elements having low levels of striae are disclosed. Methods and apparatus for manufacturing and measuring striae in glass elements and extreme ultraviolet elements are also disclosed.

Abstract translation: 公开了含有二氧化钛的二氧化硅玻璃体和具有低水平条纹的极紫外线元件。 还公开了用于制造和测量玻璃元件和极紫外元件中的条纹的方法和装置。

公开(公告)号：US07419924B2

公开(公告)日：2008-09-02

申请号：US11589875

申请日：2006-10-31

Applicant: Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Yasuyuki Takimoto ,  Shinya Kikugawa

Inventor： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Yasuyuki Takimoto ,  Shinya Kikugawa

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C3/112 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: It is to provide a silica glass containing TiO2, having a wide temperature range wherein the coefficient of thermal expansion is substantially zero.A silica glass containing TiO2, which has a TiO2 concentration of from 3 to 10 mass %, a OH group concentration of at most 600 mass ppm and a Ti3+ concentration of at most 70 mass ppm, characterized by having a fictive temperature of at most 1,200° C., a coefficient of thermal expansion from 0 to 100° C. of 0±150 ppb/° C., and an internal transmittance T400-700 per 1 mm thickness in a wavelength range of from 400 to 700 nm of at least 80%. A process for producing a silica glass containing TiO2, which comprises porous glass body formation step, F-doping step, oxygen treatment step, densification step and vitrification step.

Abstract translation: 提供含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其具有宽的温度范围，其中热膨胀系数基本上为零。 含有TiO 2浓度为3〜10质量％，OH基浓度为600质量ppm以下且Ti 3 +浓度为70质量ppm以下，其特征在于具有至多1200℃的假想温度，0〜100℃的热膨胀系数为0±150ppb /℃。 并且在400至700nm的波长范围内每1mm厚度的内部透射率T 400-700 至少为80％。 一种制备含有TiO 2的二氧化硅玻璃的方法，其包括多孔玻璃体形成步骤，F掺杂步骤，氧处理步骤，致密化步骤和玻璃化步骤。

公开(公告)号：US07410922B2

公开(公告)日：2008-08-12

申请号：US11172872

申请日：2005-07-05

Applicant: Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

Inventor： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: A silica glass containing TiO2, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., an OH group concentration of at most 600 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C.

Abstract translation: 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其具有至多1200℃的假想温度，至多600ppm的OH基浓度和0±200ppb /℃的热膨胀系数 0至100℃

公开(公告)号：US07294595B2

公开(公告)日：2007-11-13

申请号：US11435887

申请日：2006-05-18

Applicant: Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

Inventor： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

IPC: C03C3/06 ,  G01N21/00 ,  C03B19/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/30 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/50 ,  C03C2203/54

Abstract: A silica glass containing from 3 to 10 mass % of TiO2, which has a coefficient of thermal expansion from 0 to 100° C., i.e. CTE0 to 100, of 0±300 ppb/° C. and an internal transmittance per mm in thickness within a wavelength region of from 200 to 700 nm, i.e. T200 to 700, of at most 80%.

Abstract translation: 含有3〜10质量％的TiO 2的二氧化硅玻璃，其热膨胀系数为0〜100℃，即CTE 0〜100℃ 0〜300ppb /℃，在200〜700nm的波长区域内的每mm厚度的内部透射率，即200〜700℃，为80％以下。

公开(公告)号：US07172983B2

公开(公告)日：2007-02-06

申请号：US11087885

申请日：2005-03-23

Applicant: Jochen Alkemper ,  Joerg Schuhmacher ,  Hrabanus Hack ,  Oliver Sohr

Inventor： Jochen Alkemper ,  Joerg Schuhmacher ,  Hrabanus Hack ,  Oliver Sohr

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B25/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/50

Abstract: The invention discloses an SiO2—TiO2 glass, which is preferably made by flame-hydrolysis and which distinguishes itself by increased resistance to radiation, especially in connection with EUV lithography. By purposefully reducing the hydrogen content, clearly improved resistance to radiation and reduced shrinking is achieved.

Abstract translation: 本发明公开了一种SiO 2 -TiO 2 SiO 2玻璃，其优选通过火焰水解制备，并且通过增加的耐辐射性，特别是与EUV光刻相关联来自身区分。 通过有目的地降低氢含量，实现了明显改善的耐辐射性和减少的收缩。