公开(公告)号：US20040118155A1

公开(公告)日：2004-06-24

申请号：US10326200

申请日：2002-12-20

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Susan L. Schiefelbein ,  Michael H. Wasilewski ,  HuaiLiang Wei

IPC: C03B032/00

CPC classification number: C03B19/09 ,  C03B19/01 ,  C03B19/102 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/54

Abstract: The present invention is directed to a method of making an ultra dry high purity, Cl-free, F doped fused silica glass. Silica powder or soot preforms are used to form a glass under conditions to provide a desired level of F doping while reducing the Cl and nullOH concentrations to trace levels. The method includes providing a glass precursor in the from of a silica powder or soot preform. The powder is heated in a furnace. The powder is exposed to a F-species at a predetermined temperature and time sufficient to melt the powder and form a high purity fused silica glass in the bottom of said furnace.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备超干高纯度无Cl掺杂熔融石英玻璃的方法。 使用二氧化硅粉末或烟灰预制件在条件下形成玻璃以提供期望的F掺杂水平，同时将Cl和OH浓度降低至痕量水平。 该方法包括从二氧化硅粉末或烟炱预制件中提供玻璃前体。 粉末在炉中加热。 粉末在预定温度和时间下暴露于F-物质，足以熔化粉末并在所述炉底部形成高纯度熔融石英玻璃。

公开(公告)号：US06689516B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US09935990

申请日：2001-08-23

Applicant: George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

Inventor： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

IPC: G03P900

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B23/07 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

Abstract: The present invention is a method of making a lithography photomask and photomask blank. The method of making the lithography photomask and photomask blank includes providing a silicon oxyfluoride glass tube having an OH content less than 50 ppm. The method further includes cutting the silicon oxyfluoride glass tube, flattening the silicon oxyfluoride glass tube, and forming the flattened cut silicon oxyfluoride glass tube into a photomask blank having a planar surface. The present invention includes a glass lithography mask preform. The glass lithography mask preform is a longitudinal silicon oxyfluoride glass tube that has an OH content ≦10 ppm, a F wt. % concentration ≧0.5 wt. %.

Abstract translation: 本发明是制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法。 制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法包括提供OH含量低于50ppm的氟氧化硅玻璃管。 该方法还包括切割氟氧化硅玻璃管，使氟氧化硅玻璃管扁平化，并将扁平切割的氟氧化硅玻璃管形成具有平坦表面的光掩模坯料。 本发明包括玻璃光刻掩模预制件。 玻璃光刻掩模预制件是具有OH含量<= 10ppm的纵向硅氧氟化物玻璃管，F wt。 ％浓度> = 0.5wt。 ％。

公开(公告)号：US06682859B2

公开(公告)日：2004-01-27

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: G03F900

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

Abstract translation: 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不具有OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低 氯水平。

公开(公告)号：US06672111B2

公开(公告)日：2004-01-06

申请号：US10034540

申请日：2001-12-21

Applicant: William P. Peters ,  Merrill F. Sproul ,  Daniel R. Sempolinski ,  Michael H. Wasilewski

Inventor： William P. Peters ,  Merrill F. Sproul ,  Daniel R. Sempolinski ,  Michael H. Wasilewski

IPC: C03B1914

CPC classification number: C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/90 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32

Abstract: Methods and apparatus for adding metals such as aluminum to fused silica glass articles are disclosed. The methods and apparatus allow for controlled, low level addition of metals into fused silica glass articles. The fused silica glass articles containing added aluminum exhibit improved internal transmission and decreased absorption change when irradiated with a laser.

Abstract translation: 公开了向熔融石英玻璃制品中添加铝等金属的方法和装置。 所述方法和装置允许将金属控制的低水平添加到熔融石英玻璃制品中。 含有加铝的熔融石英玻璃制品在用激光照射时表现出改善的内部透光性和降低的吸收变化。

公开(公告)号：US06649268B1

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：US09520190

申请日：2000-03-07

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

IPC: C03B804

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: An optical member made of silica glass manufactured by the direct method where a material gas comprising an organosilicon compound is allowed to react in an oxidizing flame, said optical member having a 2×1014 molecules/cm3 or less concentration of formyl radical generated by X-ray irradiation whose dose is 0.01 Mrad or more and 1 Mrad or less.

Abstract translation: 通过直接法制造的由石英玻璃制成的光学构件，其中包含有机硅化合物的材料气体在氧化火焰中反应，所述光学构件具有2×10 14分子/ cm 3或更低浓度的甲酰基 其剂量为0.01Mrad以上且1Mrad以下的X射线照射产生。

公开(公告)号：US06611650B2

公开(公告)日：2003-08-26

申请号：US09925678

申请日：2001-08-09

Applicant: Hiroyuki Hayami ,  Terunobu Iio ,  Toshikazu Gozen ,  Hirokazu Kuzushita ,  Michitsugu Mori ,  Takashi Okamura ,  Shuichi Ohmori

Inventor： Hiroyuki Hayami ,  Terunobu Iio ,  Toshikazu Gozen ,  Hirokazu Kuzushita ,  Michitsugu Mori ,  Takashi Okamura ,  Shuichi Ohmori

IPC: G02B600

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01426 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  G02B6/06

Abstract: A silica optical fiber is provided, which contains a pure-silica core and a cladding layer formed on the pure-silica core, wherein the pure-silica core contains a C element and has a content of elements belonging to the third period-the seventh period of the periodic table, except Si element that constitutes the quartz structure, of not more than 100 ppm. The present invention can provide a silica optical fiber superior in the resistance to high energy electromagnetic waves such as UV light and &ggr;-rays.

公开(公告)号：US20030040423A1

公开(公告)日：2003-02-27

申请号：US10105270

申请日：2002-03-26

Applicant: TOSOH CORPORATION

Inventor： Yoshinori Harada ,  Shuzo Mizutani ,  Shinkichi Hashimoto ,  Masakazu Kudoh ,  Naoki Miura ,  Katsufumi Takahashi ,  Hideki Kiyohara

IPC: C03C003/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: Highly durable silica glass containing 0.01% to 2% by weight of at least one element selected from magnesium, calcium, strontium, barium, yttrium, hafnium and zirconium. The silica glass is produced by melting a powdery material comprising a finely divided silica powder and a finely divided zirconium-containing substance by oxyhydrogen flame or plasma arc to form an accumulated molten material layer, and extending the molten material layer outwardly in radial directions.

Abstract translation: 含有0.01重量％至2重量％的选自镁，钙，锶，钡，钇，铪和锆中的至少一种元素的高耐用二氧化硅玻璃。 二氧化硅玻璃是通过用氢氧焰或等离子体电弧熔化含有细碎的二氧化硅粉末和细碎的含锆物质的粉末状材料制成的，以形成聚集的熔融材料层，并使熔融材料层沿径向向外延伸。

公开(公告)号：US20020162357A1

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：US09848904

申请日：2001-05-04

Inventor： David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

IPC: C03B019/14

CPC classification number: C03B37/01413 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/38

Abstract: A method for making silica includes delivering a silica precursor comprising a perfluorinated group to a conversion site and passing the silica precursor through a conversion flame to produce silica soot.

Abstract translation: 制备二氧化硅的方法包括将包含全氟化基团的二氧化硅前体输送到转化位点并使二氧化硅前体通过转化火焰以产生二氧化硅烟灰。

公开(公告)号：US06442973B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09235409

申请日：1999-01-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1906

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52

Abstract: A method is provided for manufacturing a synthetic silica glass. The method includes the steps of maintaining a silica glass member, which is formed using a flame hydrolysis method and having an OH group concentration of about 500 ppm to about 1300 ppm, at a predetermined holding temperature for a predetermined period of time so as to substantially relax the structure of the silica glass member. The method further includes the step of subsequently cooling the silica glass member to a first predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less, and thereafter, cooling the silica glass member to a second predetermined temperature at a cooling rate of about 1 K/hour or less. The method further includes the step of further cooling the silica glass member to a third predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less.

Abstract translation: 提供了一种制造合成石英玻璃的方法。 该方法包括以下步骤：在预定的保持温度下，使用火焰水解法形成并具有约500ppm至约1300ppm的OH基浓度的二氧化硅玻璃构件， 放松石英玻璃构件的结构。 该方法还包括以约10K /小时以下的冷却速度随后将石英玻璃构件冷却至第一预定温度的步骤，然后以大约的冷却速度将石英玻璃构件冷却至第二预定温度 1 K /小时以下。 该方法还包括以约10K /小时或更低的冷却速度将石英玻璃构件进一步冷却至第三预定温度的步骤。

公开(公告)号：US06374639B2

公开(公告)日：2002-04-23

申请号：US09933749

申请日：2001-08-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1914

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1484 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  G03F7/2004 ,  Y10S65/90

Abstract: A method is provided for manufacturing a silica glass that is substantially free of chlorine. The method includes the step of separately expelling a silicon tetrafluoride gas, a combustion gas, and a combustible gas from a burner made of silica glass, the flow velocity of the silicon tetrafluoride gas being within the range of about 9 slm/cm2 to about 20 slm/cm2. The method further includes the steps of producing minute silica glass particles by reacting the silicon tetrafluoride gas with water produced by a reaction of the combustion gas with the combustible gas, depositing the minute silica glass particles on a target, and producing the silica glass by fusing and vitrifying the minute silica glass particles deposited on the target.

Abstract translation: 提供了一种制造基本上不含氯的石英玻璃的方法。 该方法包括从由石英玻璃制成的燃烧器分别排出四氟化硅气体，燃烧气体和可燃气体的步骤，四氟化硅气体的流速在约9slm / cm 2至约20的范围内 slm / cm2。 该方法还包括以下步骤：通过使四氟化硅气体与通过燃烧气体与可燃气体的反应产生的水反应生成微小的二氧化硅玻璃颗粒，将微小二氧化硅玻璃颗粒沉积在靶材上，并通过熔融制备石英玻璃 并使沉积在靶上的微小二氧化硅玻璃颗粒玻璃化。