公开(公告)号：KR1019940027045A

公开(公告)日：1994-12-10

申请号：KR1019940010903

申请日：1994-05-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H04L7/04

Abstract: 반도체디바이스의 제조장치에 사용되는 통신시스템은, 비반전 정보와 이 비반전정보의 반전정보 한쌍으로서 정보를 송신하는 반전2연송 모우드로 정보를 송신하는 마스터 송신 로직모듈과 마스터 수신 로직모듈을 가지는 마스터측 전송계와, 세정장치의 복수의 유니트에 각각 착설되고, 각각이 슬레이브 송신 로직모듈과 상기 비반전정보 및 상기 반전정보를 받아서, 비반전정보 및 반전정보의 내용이 일치한 때에 정보를 받아들이는 슬레이브 수신 로직모듈을 가지는 복수의 슬레이브측 전송계에 의하여 구성된다.

公开(公告)号：KR100338534B1

公开(公告)日：2002-09-27

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950012610A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B21/145

Abstract: 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.

Abstract translation: 安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理 并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部 被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的 的。

公开(公告)号：KR100357316B1

公开(公告)日：2002-10-19

申请号：KR1020010051301

申请日：2001-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.

公开(公告)号：KR100278380B1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：KR1019940010903

申请日：1994-05-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H04L7/04

Abstract: 반도체 디바이스의 제조장치에 사용되는 통신시스템은, 비반전 정보와 이 비반전정보의 반전정보 한 쌍으로서 정보를 송신하는 반전 2 연속 송신 모드로 정보를 송신하는 마스터 송신 로직모듈과 마스터 수신 로직모듈을 가지는 마스터측 전송계와, 세정장치의 복수의 유니트에 각각 설치되고, 각각이 슬레이브 송신 로직모듈과 상기 비반전정보 및 상기 반전정보를 받아서, 비반전정보 및 반전정보의 내용이 일치한 때에 정보를 받아들이는 슬레이브 수신 로직모듈을 가지는 복수의 슬레이브측 전송계에 의하여 구성된다.

公开(公告)号：KR100347650B1

公开(公告)日：2002-10-25

申请号：KR1019970041360

申请日：1997-08-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리 ,  다구치게이지 ,  기타하라시게노리

IPC: H01L21/304

Abstract: 반도체 웨이퍼(W) 및 순수(1)를 수용하는 세정조(10)와, 이 세정조(10)에 부착되는 복수의 진동판(40a,40b)을 구비하는 초음파세정장치에 있어서, 각 진동판(40a,40b)의 발진기(60a,60b)의 출력의 위상을 동일한 발진원(50)에 의해 제어함으로써, 발진원(50)의 출력의 위상을 맞출 수 있고, 균일한 음압분포를 얻을 수 있다. 이에 따라, 진동판간의 초음파의 간섭을 없애고, 균일한 음압분포에 의해 파티클(particle)의 제거율을 균일하게 하여 세정효율의 향상을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970052713A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019960062257

申请日：1996-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  가미카와유지 ,  모쿠오쇼리 ,  구마가이요시오

IPC: H01L21/304

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 웨이퍼난 LCD용 유리기판과 같은 기판을 세정하고 건조하는 기판세정 건조장치, 기판세정방법 및 기판세정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판에서의 파티클의 부착을 방지하고, 건조얼룩을 억제할 수가 있는 고 생산성으로 소형의 기판세정 건조방법 및 기판세정 건조장치를 제공하고, 공장측의 배출액 라인을 효율좋게 운용할 수가 있고, 처리조내의 처리액을 일정한 상태로 유지할 수가 있는 기판세정방법 및 기판세정장치를 제공하고자 하는 것이다.
3.발명의 해결방법의 요지
본 발명의 기판세정 건조장치는, 복수의 웨이퍼를 유지하는 보오트를 수용할 수 있는 처리부와, 이 처리부의 바닥부에 형성되어 세정처리액을 처리부내 도입한 세정처리액을 처리부내로부터 배출하기 위한 공급배출구와, 복수 종류의 세정액중으로부터 적어도 1종류의 세정액을 선택하여 공급배출구를 통하여 처리부내에 공급하는 처리액 공급기구와, 건조용 증기를 생성하기 위한 히터를 구비한 건조용 증기생성부와, 이 건조용 증기생성부와 처리부에 각각 연이어 통하고 건조용 증기를 처리부내로 안내하는 건조용 증기공급로와, 처리부의 하부에 설치되어 처리부내로부터 세정처리액을 신속하게 배출하기 위한 개구를 갖는 강제 배출액기구와, 이 개구는 개폐가능한 것과, 처리부내의 세정처리액의 비례저항값을 검출하는 비례저항 검출계와, 검 한 비례저항값에 기초하여 처리액 공급기구로부터 처리부내에 처리부내에 처리액의 공급을 제어하는 제어기를 구비하는 것이다.

公开(公告)号：KR1020080082437A

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：KR1020080002694

申请日：2008-01-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  Y10S134/902

Abstract: An apparatus for processing a substrate and a method for processing the same are provided to restrain the temperature variation of a process liquid by using a process bath capable of receiving a plurality of substrates, simultaneously. A process unit(60) maintains a substrate and processes the maintained substrate. A process bath(40) is capable of receiving a plurality of substrates simultaneously. The process bath stores and circulates a process liquid for processing the substrate. The substrate is immersed into the process liquid. Transfer mechanisms(30) transfer one or more substrates simultaneously. The substrate is processed by using at lease one of the process unit and the process bath. A controller controls a substrate process time in the process bath with respect to every substrate transferred to the process bath.

Abstract translation: 提供了一种用于处理基板的装置及其处理方法，以通过使用能够同时接收多个基板的处理槽来抑制处理液体的温度变化。 处理单元（60）维护基板并处理维护的基板。 处理槽（40）能够同时接收多个基板。 处理槽存储并循环用于处理基板的处理液。 将基板浸入工艺液中。 转移机构（30）同时转移一个或多个底物。 通过使用处理单元和处理槽中的至少一个来处理基板。 控制器控制相对于转移到工艺槽中的每个衬底的工艺槽中的衬底处理时间。

公开(公告)号：KR101124087B1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：KR1020080002694

申请日：2008-01-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  Y10S134/902

Abstract: 처리액의 사용량을 저감할 수 있으며 처리액의 온도 변동을 억제할 수 있고, 또한, 단순화된 장치 구성을 갖는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 하나의 기판(W)을 유지하고, 유지한 하나의 기판을 처리하는 처리 유닛과, 복수의 기판(W)을 동시에 수용할 수 있는 처리조로서, 기판을 침지하여 처리하기 위한 처리액을 순환 공급하면서 저류하는 처리조와, 상기 처리조의 기판 수용 가능 수 미만의 수의 기판을 동시에 반송 가능한 반송 장치를 구비한다. 반송 장치는 적어도 상기 처리액이 저류된 상기 처리조에 기판을 반송한다. 상기 처리 유닛과 상기 처리조 중 적어도 어느 하나를 사용하여 기판이 처리된다.

Abstract translation: 提供一种能够减少处理液的使用量并且抑制处理液的温度波动并且具有简化的装置构造的基板处理装置。 该基板处理装置包括：处理单元，用于保持一个基板（W）并处理保持在其中的一个基板;以及处理容器，能够同时容纳多个基板（W） 以及能够同时传送少于基板可容纳数量的处理槽的多个基板的传送装置。 传送设备将基板传送至至少存储处理液的处理槽。 使用处理单元和处理槽中的至少一个处理基板。

公开(公告)号：KR100914761B1

公开(公告)日：2009-08-31

申请号：KR1020030012797

申请日：2003-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67781 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로 세정처리장치(1)는 복수의 웨이퍼(W)가 일정피치(노멀 피치)로 수용되어 있는 후프(F)를 재치하는 후프 반입출부(2)와, 노멀 피치 반분의 피치(하프 피치)로 복수의 웨이퍼(W)를 대략 평행하게 보지가능한 로터(34)와, 후프(F)와 로터(34)간에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송장치(11) 및 웨이퍼 자세변환장치(20a ·20b) 및 웨이퍼 승강기구(40)와, 로터(34)를 회전시키는 모터(31)와 로터(34)를 수용하는 외측 챔버(71a) 및 내측 챔버(71b)와, 웨이퍼(W)에 세정액을 공급하는 세정액토출노즐(53 ·55)을 구비한다. 로터(34)에 1 보지 피치마다 또는 복수보지피치의 임의의 피치로 웨이퍼(W)를 보지하고, 세정처리를 하고, 2개의 용기에 수용되어 있는 기판을 1배치로 처리할 수 있는 기술을 제시한다.