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公开(公告)号：KR100357316B1
公开(公告)日：2002-10-19
申请号：KR1020010051301
申请日：2001-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.
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公开(公告)号：KR100165559B1
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019920015418
申请日：1992-08-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 반도체 웨이퍼를 반송하는 회전반송아암이 밀폐용기내에 배열설치된다. 용기에는 개폐가능한 개구부가 형성되고, 이것을 통하여 반송아암이 용기바깥으로 뻗어나오는 것이 가능하게 되어있다. 반송아암의 선단에는 포크가 배열설치된다. 포크에는 여러 개의 웨이퍼를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈이 형성된다. 용기의 상부에는 포크용 크리너가 배열설치된다. 크리너는 변환아암의 선단에 부착된 세정노즐 및 건조노즐(s)을 구비한다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치 사이에서 선회가 가능하게 되어있다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치와의 사이에서 선회가능하도록 되어 있다. 변환아암 또는 포크를 따라서 세정노즐 및 건조노즐을 이동가능하게 되어 있다. 세정 및 건조시, 포크에 대하여 세정노즐로부터 순수한 물이 분출되며 건조노즐로부터 질소가 분출된다.
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公开(公告)号：KR100338534B1
公开(公告)日：2002-09-27
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1019950012610A
公开(公告)日：1995-05-16
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67034 , F26B21/145
Abstract: 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.
Abstract translation: 安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理 并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部 被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的 的。
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公开(公告)号：KR1019930024108A
公开(公告)日：1993-12-21
申请号：KR1019920007845
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100175072B1
公开(公告)日：1999-04-01
申请号：KR1019920007937
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 세정처리 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을 때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.
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公开(公告)号：KR1019930005156A
公开(公告)日：1993-03-23
申请号：KR1019920015418
申请日：1992-08-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号：KR1019920022412A
公开(公告)日：1992-12-19
申请号：KR1019920007937
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号：KR1020170139453A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：KR1020170069578
申请日：2017-06-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67248 , H01L21/67017 , H01L21/67086 , H01L21/67253
Abstract: 본발명은, 인산수용액의농도를변화시키지않고, 인산수용액의비등상태를일정하게유지하여, 에칭균일성을도모하는것을목적으로한다. 기판액처리장치(1)는액처리부(39)와, 처리액순환라인(42)과, 액처리부(39)의처리조(34)에설치된비등상태검출부(70)를갖는다. 비등상태검출부(70)로부터의신호에기초하여제어부(7)는, 처리액순환라인(42)의공급펌프(51)를제어하고, 공급되는유로내의인산수용액의압력을조정하여인산수용액의비등상태를원하는상태로조정한다.
Abstract translation: 本发明的目的是在不改变磷酸水溶液的浓度的情况下将磷酸水溶液的沸腾状态保持在恒定水平，由此实现蚀刻均匀性。 基板液处理装置1具有设置在液处理部39的处理槽34内的液处理部39，处理液循环管线42和沸腾状态检测部70。 控制部7基于来自沸腾状态检测部70的信号，控制处理液循环线42的供给泵51，调整供给的流路中的磷酸水溶液的压力， 达到所需的状态。
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公开(公告)号：KR1020170038678A
公开(公告)日：2017-04-07
申请号：KR1020160122214
申请日：2016-09-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은기판을처리액으로균일하게처리할수 있는기판액 처리장치를제공한다. 본발명에서는, 복수의기판(8)을배열시킨상태로처리액에침지하여처리하는처리조(34)와, 상기처리조(34)의내부에서상기기판(8)의하방에배치되어, 상기기판(8)의배열방향을따라연장시킨관체(74)에상기처리액을토출하기위한토출구(76)를형성한처리액공급노즐(49)을갖는기판액 처리장치(1)에있어서, 상기토출구(76)는, 상기기판(8)의배열방향과직교하는수평방향으로간격을두고제1 측면(78) 및제2 측면(79)을형성하며, 상기제1 측면(78) 또는/및상기제2 측면(79)의외측단가장자리가, 내측단가장자리를상기관체(74)의중심으로부터반경방향으로연장한위치(B1, D1)보다수평방향을향하여외측으로개방한위치(A1, C1)에마련되어있다.
Abstract translation: 本发明提供能够用处理液均匀地处理基板的基板液处理装置。 本发明的特征在于包括：处理槽34，用于将处理液浸渍在配置有多个基板8的状态下并对处理槽34进行处理; 一种具有处理液供给喷嘴（49）的基板液处理装置（1），在沿着基板（8）的排列方向延伸的管体（74）内形成有用于排出处理液的排出口（76） 排出口76在与基板8的排列方向垂直的水平方向上隔开间隔地形成第一侧面78和第二侧面79，第一侧面78和/ 第二侧面79的外缘位于从管主体74的中心向半径方向延伸的位置B1，D1的位置朝向水平方向外侧开口的位置A1，C1 它提供。
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