公开(公告)号：KR101476684B1

公开(公告)日：2014-12-26

申请号：KR1020130054548

申请日：2013-05-14

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이재성 ,  오인환 ,  김기환 ,  하림싸히드

IPC: C01F11/00 ,  C01F11/18 ,  A01N59/06 ,  A01P13/00

Abstract: 본발명의패각분의제조방법은, 패각분쇄물에존재하는유기물성분을제거하여패각가공물을제조하는유기불순물제거단계; 상기패각가공물을산으로처리하여다공화패각분쇄물을제조하는다공화단계; 상기다공화패각분쇄물을염기로처리하여안정화된다공화패각분쇄물을얻는안정화단계; 그리고상기안정화된다공화패각분쇄물을열처리하여패각분의기공의분포를조절하는열처리단계;를포함한다. 상기패각분의제조방법은, 폐기되는패각으로부터다공성의표면구조를가진활성화된패각분을제조하여, 건설현장의흡착제, 담체, 반응체등의소재로활용될수 있으며비점오염을저감하기위한건설소재로이용할수 있다.

公开(公告)号：KR1020020057507A

公开(公告)日：2002-07-11

申请号：KR1020010000571

申请日：2001-01-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  한성 ,  조준식 ,  김기환

IPC: C23C16/54

CPC classification number: C23C18/204 ,  C23C18/1641 ,  C23C18/2066 ,  H05K3/381 ,  H05K2203/072 ,  H05K2203/0723 ,  H05K2203/087 ,  H05K2203/092

Abstract: PURPOSE: A method is provided to improve adhesion force between polymer and metal layer or easily form the metal layer on the polymer having low plating property without a metal seed layer, and simplify treating processes when forming the metal layer on the polymer by electroless or electrolytic plating. CONSTITUTION: The method for improving adhesion force between polymer and metal comprises the processes of partially breaking polymer bonds on the surface of the polymer by irradiating ion beams having an energy onto the polymer as injecting a reactive gas into a vacuum chamber; injecting the reactive gas into the vacuum chamber so that atoms on the surface of the bond broken polymer are reacted with the reactive gas, thereby changing the property of the surface of the polymer into hydrophilic property; and depositing a metal layer on the surface of the polymer changed into the hydrophilic property, wherein an acceleration voltage of the ion beams is 300 to 2000 V, the ion is an ionization gas such as argon, nitrogen, hydrogen, helium, oxygen, ammonia, or a mixture thereof, the reactive gas is oxygen, nitrogen, ammonia, hydrogen, or a mixture thereof, and the deposition of the metal layer is done by an electroless or electrolytic plating.

Abstract translation: 目的：提供一种提高聚合物和金属层之间的粘合力或容易在不具有金属种子层的情况下形成具有低电镀性能的聚合物上的金属层的方法，并且简化在通过无电解或电解法在聚合物上形成金属层时的处理过程 电镀。 构成：提高聚合物和金属之间的粘合力的方法包括通过在聚合物中注入具有能量的离子束将反应性气体注入真空室来部分地破坏聚合物表面上的聚合物键的方法; 将反应性气体注入真空室中，使得断裂的聚合物表面上的原子与反应性气体反应，从而将聚合物表面的性能改变为亲水性; 并且在聚合物表面上沉积金属层变为亲水性，其中离子束的加速电压为300〜2000V，离子为氩，氮，氢，氦，氧，氨等离子化气体 或其混合物，反应性气体是氧，氮，氨，氢或其混合物，并且金属层的沉积通过无电解或电解电镀进行。

公开(公告)号：KR100307806B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980057666

申请日：1998-12-23

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  한성 ,  김기환

IPC: C08J7/00

Abstract: 본 발명은 이온빔을 이용하여 친수성으로 표면개질된 고분자 멤브레인 및 그 표면 개질방법에 관한 것으로, 고분자 멤브레인 표면으로, 반응성 기체를 유입시키면서 2000 eV 이하의 에너지를 가진 이온빔을 조사시킴으로써 상기 이온빔으로 고분자 멤브레인의 표면을 활성화시키면서 활성화된 고분자 멤브레인의 표면과 상기 반응성 기체를 반응시켜 그 표면에 친수성기를 형성시키는 고분자 멤브레인의 표면개질 방법과 그에 의해 표면개질된 고분자 멤브레인을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020000043849A

公开(公告)日：2000-07-15

申请号：KR1019980060278

申请日：1998-12-29

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이준근 ,  최헌진 ,  박태희 ,  김기환 ,  정광택

IPC: C22B19/38

Abstract: PURPOSE: A method is provided to produce oxidized zinc powders by generating a zinc gas with reducing or evaporating a raw material mixed with an oxidized zinc and a zinc in a rotary kiln and by oxidizing again. CONSTITUTION: Cokes is mixed in a raw material mixed with an oxidized zinc, a zinc and other impurities. The prepared raw material is continuously inputted in a rotary kiln heated over 900°C by burning a raw material such as a LPG, a liquefied propane gas and a coal with air. A degree to convert to a zinc gas is decided by measuring a weight reduction of raw material generated due to a progress of reaction. The generated zinc gas is oxidized by contacting with air inside the same rotary kiln. The air is supplied in a regular part inside the rotary kiln through a separated inlet.

Abstract translation: 目的：提供一种通过在回转窑中还原或蒸发与氧化锌和锌混合的原料并再次氧化的锌气体来生产氧化锌粉末的方法。 构成：将焦炭与氧化锌，锌和其他杂质混合的原料混合。 通过用空气燃烧石油气，液化丙烷气和煤等原料，将制备好的原料连续输入加热至900℃以上的回转窑中。 通过测量由于反应进行而产生的原料的重量减少来决定转化为锌气体的程度。 所产生的锌气体与同一回转窑内的空气接触而被氧化。 空气通过分离的入口以规定的部分供给回转窑内。

公开(公告)号：KR1020000039497A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1019980054848

申请日：1998-12-14

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  김기환 ,  한성 ,  석진우

IPC: C08J7/00

Abstract: PURPOSE: A polymer contact lens having an improved hydrophilic property is provided which a part of carbon of the activated surface is reacted with a reactive gas after activating the surface by irradiating less than 2,000 eV ion beam. CONSTITUTION: A surface modifying apparatus comprises a gas inlet part(20) introducing a reactive gas into a vacuum chamber(10), an ion source(30) producing ion beam, a substrate holder(40) and a vacuum pump(50). The polymer contact lens is built in the substrate holder(40) and the reactive gas is introduced into the vacuum chamber(10) through the gas inlet part(20). Ion beam having less than 2,000 eV is irradiated to activate the surface of the polymer contact lens from the ion source(30). The surface of the lens is reacted with the reactive gas to produce a hydrophilic group on the surface.

Abstract translation: 目的：提供具有改善的亲水性的聚合物隐形眼镜，通过照射小于2000eV的离子束，活化表面的一部分碳与活性气体反应，活化表面后。 构成：表面改性装置包括将反应性气体引入真空室（10）的气体入口部分（20），产生离子束的离子源（30），衬底保持器（40）和真空泵（50）。 聚合物隐形眼镜内置在基板支架（40）中，反应气体通过气体入口部分（20）引入真空室（10）。 照射小于2000eV的离子束从离子源（30）活化聚合物隐形眼镜的表面。 透镜的表面与反应性气体反应，以在表面上产生亲水基团。

公开(公告)号：KR1019990047370A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970065740

申请日：1997-12-04

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  주식회사 엘지이아이

Inventor： 고석근 ,  최원국 ,  하삼철 ,  정형진 ,  강병하 ,  김기환 ,  김철환

IPC: C23C14/00

Abstract: 본 발명은, 냉동 공조용 금속 재료 기판의 고유한 성질에는 영향을 주지 않으면서 에이징 특성이 뛰어난 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹이 그 표면에 형성된 냉동 공조용 금속 재료를 제공하기 위하여, 불포화 지방족 탄화수소 단량체(monomer) 가스, 질소 가스, 분위기 가스 및 냉동 공조용 금속 재료의 표면으로부터 증발한 물질로부터 기인하는 양(+) 또는 음(-) 입자 및 라디칼로 이루어지는 플라즈마로부터 형성되는 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹으로, 상기 그룹은 CH, OH, NH, CN, CC 및 COC로 이루어지는 군으로부터 선택되는 둘 이상의 결합에 의해 형성되고, 상기 그룹내의 탄소, 질소 및 산소의 원자수 비율은 탄소 100에 대하여, 10 내지 30의 질소, 10 내지 30의 산소인 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹을 그 표� �에 가지는 냉동, 공조용 금속 재료 및 DC 방전과 HF 방전의 플라즈마를 이용한 상기 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹을 이용한 상기 금속 표면 개질 방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019970008415A

公开(公告)日：1997-02-24

申请号：KR1019950021554

申请日：1995-07-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  김기환

IPC: H01L21/3205

Abstract: 본 발명은 이온 클러스터 빔을 이용한 반도체 소자용 구리박막 제조방법에 관한 것으로, 증착할 구리를 도가니에 채우는 단계와, 기판을 증착위치에 올려 놓은 후, 증착조건의 진공을 유지하는 단계와, 구리가 채워진 도가니를 도가니 필라멘트와 도가니 밤바드먼트를 조절함으로써 클러스터 이온 빔을 형성시키는 단계와, 이온화 필라멘트와 이온화 전압을 조절하여 이온 빔의 일부분을 이온화시키는 단계와, 가속 전압을 조절하여 이온화된 클러스터 이온을 가속시켜 가속된 클러스터이온 빔과 중성 클러스터 이온 빔을 기판에 증착시키는 단계의 순서로 진행하는 구리박막 제조방법을 제공하여 반도체의 필요조건인 스텝 커버리지를 만족할 뿐 아니라 구리박막의 결정성이 우수해지고, 제조한 박막의 박막저항이 구리 본래의저항에 가까운 값을 갖 효과가 있으며, 기판과의 접착력이 우수하여 고품위 반도체 소자용으로 사용시 우수한 특성을 가지도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR100336622B1

公开(公告)日：2002-05-16

申请号：KR1019997011139

申请日：1998-11-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  김기환 ,  하삼철 ,  김철환 ,  최성창

IPC: C23C4/00

CPC classification number: C23C16/30 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D2201/00 ,  B05D2203/30 ,  C23C16/503

Abstract: 본발명은, 챔버내에서표면처리하고자하는금속또는절연재료 (세라믹또는고분자)를, 금속의경우에는양극으로절연재료의경우에는금속양극위에설치하는방법으로양극을위치시키고한쪽편에음극을위치시킨후, 상기챔버내의압력을소정진공상태로유지하고, 소정압력의불포화지방족탄화수소단량체가스또는불소계단량체가스를소정압력의중합불능 (non-polymerizable) 가스와혼합하여챔버내로도입하고, 상기전극에전압을인가하여 DC 방전에의해, 상기불포화지방족탄화수소가스또는불소를포함하는단량체가스와중합불능가스로부터기인하는양(+) 및음(-) 이온및 라디칼로이루어지는플라즈마를얻고, 플라즈마증착에의해상기금속양극표면에혹은금속양극위에설치된절연재료표면에친수성또는소수성을갖는고분자중합막을형성하는 DC 방전플라즈마를이용한금속또는절연재료표면에의고분자중합막합성방법을제공하고, RF 방전플라즈마를이용한금속, 세라믹또는고분자를포함하는재료표면에의고분자중합막합성방법을제공한다.

公开(公告)号：KR100321566B1

公开(公告)日：2002-04-17

申请号：KR1019980060278

申请日：1998-12-29

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이준근 ,  최헌진 ,  박태희 ,  김기환 ,  정광택

IPC: C22B19/38

Abstract: 본 발명은 고순도 산화아연(ZnO) 미분의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는, 본 발명은 산화아연과 아연이 혼합된 원료를 회전로에서 환원 또는 증발시켜 아연 가스를 발생시키고 이를 다시 산화시켜 산화아연 미분을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 산화아연 제조 방법에 따르면, 산화아연의 환원 및(또는) 아연의 증발, 및 이에 의해 생성된 아연 가스의 산화를 단일 반응로 내에서 동시에 수행함으로써 산화아연 미분의 제조에 필요한 설비를 간단하게 하고, 아연 가스의 산화 반응에서 발생하는 반응열을 산화아연의 환원 및 아연의 증발에 재사용함으로써 전체 공정의 열효율을 개선시켜 산화아연 제조 비용을 절감할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010013156A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1019997011139

申请日：1998-11-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  김기환 ,  하삼철 ,  김철환 ,  최성창

IPC: C23C4/00

CPC classification number: C23C16/30 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D2201/00 ,  B05D2203/30 ,  C23C16/503

Abstract: PURPOSE: A method for surface-processing by plasma polymerization of a surface of a metal by using a DC discharge plasma is provided, to form a polymer with hydrophilicity or hydrophobicity on the surface of the metal. CONSTITUTION: The method comprises the steps of: positioning an anode electrode which is substantially of metal to be surface-processed and a cathode electrode in a chamber; maintaining a pressure in the chamber at a predetermined vacuum level; blowing an unsaturated aliphatic hydrocarbon monomer gas or a fluorine-containing monomer gas at a predetermined pressure and a non-polymerizable gas at a predetermined pressure into the chamber; and applying a voltage to the electrodes in order to obtain a DC discharge, whereby to obtain a plasma consisting of positive and negative ions and radicals generated from the unsaturated aliphatic hydrocarbon monomer gas or the fluorine containing monomer gas and the non-polymerizable gas, and then forming a polymer with hydrophilicity or hydrophobicity on the surface of the anode electrode by plasma deposition.

Abstract translation: 目的：提供通过使用DC放电等离子体通过等离子体聚合金属表面进行表面处理的方法，以在金属的表面上形成具有亲水性或疏水性的聚合物。 构成：该方法包括以下步骤：将基本上要被表面处理的金属和阴极电极的阳极电极定位在腔室中; 将腔室中的压力保持在预定的真空度; 将预定压力的不饱和脂族烃单体气体或含氟单体气体以预定压力的不可聚合气体吹入室中; 向电极施加电压以获得DC放电，从而获得由不饱和脂族烃单体气体或含氟单体气体和非聚合气体产生的正离子和负离子和自由基组成的等离子体，以及 然后通过等离子体沉积在阳极电极的表面上形成具有亲水性或疏水性的聚合物。