Abstract:
According to the present invention, provided is a method for manufacturing an ovonic threshold switching device with an N-doped chalcogenide material and the ovonic threshold switching device manufactured thereby. The method for manufacturing the ovonic threshold switching device with the N-doped chalcogenide material includes the steps of forming an insulation layer on a substrate; forming a first electrode on the insulation layer; forming a chalcogenide material including N, Ge, and Se on the first electrode; and forming a second electrode on the chalcogenide material.
Abstract:
PURPOSE: A Se or S system thin film solar cell and a manufacturing method thereof are provided to improve photoelectric transformation efficiency of a solar battery by controlling preferred orientation of a light absorption layer through the bulk porosity adjustment of a preferred orientation control layer. CONSTITUTION: A back contact electrode(120) is formed on a substrate(110). The back contact electrode is composed of a double layer of a first back contact electrode(121) and a second back contact electrode(122). A preferred orientation control layer(130) is formed on the back contact electrode. A light absorption layer(140) is formed on the preferred orientation control layer. A window layer(150) is formed on the light absorption layer. A transparent electrode layer(160) is formed on the window layer.
Abstract:
PURPOSE: A phase change memory device and a programming method thereof are provided to increase durability by applying a reverse recovery pulse. CONSTITUTION: A phase change memory array(24) comprises a plurality of phase change memory devices. A pulse generator(22) comprises a write current pulse, an erase current pulse, and a reverse recovery current pulse for the phase change memory device of a phase change memory array. The direction of the reverse recovery pulse is opposite to the direction of the write current pulse and the erase current pulse of the phase memory device. The pulse generator includes a bidirectional pulse generator which flows a current in both directions of the phase change memory device.
Abstract:
본 발명은 금속 나노복합체 코팅층 및 이의 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로 나노미터 크기의 금속 입자가 광학적으로 흡수가 적은 기지상 내에 분산되어 있는 금속 나노복합체 광학 코팅층에 관한 것이다. 본 발명의 광학 코팅층은 금속 나노입자가 주변 기지상과 작용하여 표면 플라즈몬 공진 현상을 일으켜 미려한 색상을 나타낼 수 있으므로 표면 장식 코팅에 유용하다. 표면 플라즈마 공진, 나노복합체 코팅, 표면 장식
Abstract:
A super-resolution optical recording medium includes a reflective layer formed on a substrate, a recording layer for recording information thereon, a super-resolution layer made of a chalcogenide semiconductor material, and a first and a second dielectric layers laminated on upper and lower surfaces of the super-resolution layer. The recording layer is made of a material that has a decomposition temperature higher than an information reproduction temperature and does not form bubble recording marks during recording, and the super-resolution layer contains one or more elements selected from the group consisting of nitrogen, oxygen, carbon, and boron.
Abstract:
A non-volatile electrical phase-change memory device and a manufacturing method thereof are provided to make a uniform temperature and phase distribution within a phase-change material layer by reducing contact resistance between phase change material and electrode material. A first interlayer dielectric(21), a bottom electrode layer(22), a second interlayer dielectric(23), a phase-change material layer(24) and a top electrode layer(25) are sequentially formed on a silicon substrate(20). A contact hole(23') penetrates the second interlayer dielectric to connect the phase-change material layer with the bottom electrode layer, and is filled with phase change material or bottom electrode material. An interfacial control layer(23") is formed at an interface between the phase change material and the bottom electrode material.
Abstract:
본 발명은 비휘발성 상변화 메모리 셀에 관한 것으로서, 금속 전극층과 상변화 재료층 사이에 열구속 기능을 갖는 전극접촉 재료로서 전기전도성이 비교적 크나 열전도성은 작으며 열안정성이 우수한 투명전도성 산화물 반도체 재료를 사용한다. 본 발명에 따른 메모리 셀은 비휘발성 상변화 메모리의 데이터 기록 및 소거 동작에 필요한 전력소모의 감소에 효과적으로 적용될 수 있다. 상변화 메모리, 전극 접촉층, 투명전도성 산화물
Abstract:
본 발명은 가시광 영역에서의 우수한 광 투과성 및 우수한 도전성이 필요한 TFT-LCD, PDP, FED, LED, OLED와 같은 평판 디스플레이 및 태양전지에 사용되는 투명한 전극막 또는 전자기파 차폐를 위한 필터에 사용되는 투명 도전성 박막에 관한 것으로, 보다 상세하게는 주성분인 산화아연에 3족의 양이온성 금속 도핑원소와 할로겐족 음이온성 도핑원소가 동시에 도핑되어 있는 것을 특징으로 하는 산화아연계 투명도전성 박막에 관한 것이다. 본 발명의 산화아연계 투명도전성 박막에 의하면 3족 양이온성 금속 원소만으로 도핑되어 있는 산화아연계 투명도전성 박막이나 할로겐족 음이온성 원소만으로 도핑되어 있는 산화아연계 투명도전성 박막보다 높은 이득 지수(Figure of merit, 전기전도도/광흡수계수)를 제공하는 효과를 달성한다. 투명도전산화물, 박막, 평판 디스플레이, 산화아연, 도핑.
Abstract:
본 발명은 거대 3차 비선형 광학 현상에 따르는 비선형 굴절률을 이용하는 도파로형 광소자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 도파로형 광소자는 신호빔이 전파되는 신호빔 도파로와, 펌프빔이 전파되는 펌프빔 도파로로 구성되며, 상기 펌프빔 도파로는 상기 펌프빔이 상기 신호빔 도파로에 커플링이 일어날 수 있도록 근접 배치되고, 상기 신호빔 도파로와 상기 펌프빔 도파로는 이종의 재료로 구성되고, 그리고 상기 신호빔과 상기 펌프빔은 서로 다른 파장 영역을 갖는다. 이러한 구성에 따라, 신호빔 도파로에 펌프빔이 커플링되어 신호빔이 지나가는 도파로 상에서 3차 비선형 현상을 유발시킴으로써, 광소자로서 작동이 되도록 하는 전광(all-optical) 통신 소자의 구현을 가능하게 하며, 소자의 집적화가 가능한 도파로형 광소자를 제공한다.