JETTABLE INKS FOR SOLAR CELL AND SEMICONDUCTOR FABRICATION
    1.
    发明申请
    JETTABLE INKS FOR SOLAR CELL AND SEMICONDUCTOR FABRICATION 审中-公开
    用于太阳能电池和半导体制造的可交联油墨

    公开(公告)号:WO2015179425A3

    公开(公告)日:2016-03-17

    申请号:PCT/US2015031614

    申请日:2015-05-19

    Applicant: ALPHA METALS

    Abstract: A jettable etchant composition includes 1 to 90 wt% active ingredient, and a remainder containing any combination of the following: 10 to 90 wt% solvent, 0 to 10 wt% reducing agents,

    Abstract translation: 可喷射的蚀刻剂组合物包含1至90重量%的活性成分,其余部分包含以下物质的任意组合:10至90重量%溶剂,0至10重量%还原剂,<1至20重量%酸洗剂,0至5 wt%表面活性剂和0-5wt%消泡剂。 所述组合物还可以包含含有至少一种元素的可溶性化合物,所述元素在溶解时具有比要蚀刻的金属或含有IA族元素的可溶性化合物和可溶性铂族金属更高的标准电极电位。 油墨组合物可以在溶剂体系中包含VA族化合物或IIIA族化合物,所述溶剂体系被配制成以约5至约10皮升的液滴体积喷射在表面上并且实现小于约20Ω/ 激活时表面的α。

    JETTABLE INKS FOR SOLAR CELL AND SEMICONDUCTOR FABRICATION
    2.
    发明申请
    JETTABLE INKS FOR SOLAR CELL AND SEMICONDUCTOR FABRICATION 审中-公开
    用于太阳能电池和半导体制造的喷墨打印机

    公开(公告)号:WO2015179425A9

    公开(公告)日:2016-05-06

    申请号:PCT/US2015031614

    申请日:2015-05-19

    Applicant: ALPHA METALS

    Abstract: A jettable etchant composition includes 1 to 90 wt% active ingredient, and a remainder containing any combination of the following: 10 to 90 wt% solvent, 0 to 10 wt% reducing agents,

    Abstract translation: 可喷射蚀刻剂组合物包含1至90重量%的活性成分,余量包含以下任何组合:10至90重量%的溶剂,0至10重量%的还原剂,1至20重量%的酸洗剂,0至5 wt%表面活性剂和0-5wt%消泡剂。 该组合物还可以包括含有至少一种元素的可溶性化合物,当溶解时,具有比被蚀刻金属更高的标准电极电位或含有IA族元素的可溶性化合物和可溶性铂族金属。 油墨组合物可以在溶剂体系中包括VA化合物或IIIA族化合物,配制成在约5至约10微摩尔的液滴体积的表面上可喷射,并获得小于约20Ω/ 激活后表面的α。

    Método de fabricación de placa de circuitos impresos

    公开(公告)号:ES2612734T3

    公开(公告)日:2017-05-18

    申请号:ES07872304

    申请日:2008-03-18

    Applicant: ALPHA METALS

    Abstract: Un método para producir una placa de circuito impreso que comprende: un sustrato; y al menos un patrón conductor de alta relación de aspecto dispuesto sobre el sustrato, caracterizado por que el patrón conductor de alta relación de aspecto tiene una altura que es al menos cinco veces mayor que la anchura, y por que el método comprende: imprimir un material conductor entre una separación definida de un soporte polimérico sobre el sustrato; imprimir el material de soporte polimérico sobre el soporte polimérico; imprimir material conductor adicional entre la separación definida del soporte polimérico; sinterizar el material conductor; y después de la sinterización, retirar el soporte polimérico para proporcionar el patrón conductor de alta relación de aspecto.

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