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公开(公告)号：WO2005024893A3
公开(公告)日：2006-08-24
申请号：PCT/IB2004051515
申请日：2004-08-20
Applicant: KONINKL PHILIPS ELECTRONICS NV , FLINK SIMON , KRIJNEN SIMON , CUPPEN SEBASTIANUS N G , SWART GERBRAND J , WAGE WILLEM , VAN DER MEULEN FRANK
Inventor： FLINK SIMON , KRIJNEN SIMON , CUPPEN SEBASTIANUS N G , SWART GERBRAND J , WAGE WILLEM , VAN DER MEULEN FRANK
CPC classification number: C03C4/085 , C03C3/06 , C03C2201/32 , C03C2201/3423 , C03C2201/42 , H01J61/302 , H01J61/34 , H01J61/50 , H01K1/28
Abstract: The invention relates to an electric lamp provided with a light source in a light-transmitting lamp vessel which is closed in a vacuumtight manner, which light source has an envelope of light-transmitting, UV-absorbing quartz glass which comprises silicon oxide, aluminum oxide and cerium oxide, characterized in that the quartz glass of the envelope comprises the aluminum oxide and cerium oxide in a molar ratio of between 0.30 and 0.48. The invention further relates to the quartz glass which is used for said lamp.
Abstract translation: 本发明涉及一种在透光灯容器中设置有光源的电灯，其以真空密封的方式封闭，该光源具有包含氧化硅，氧化铝的透光，紫外线吸收石英玻璃的外壳 和氧化铈，其特征在于，外壳的石英玻璃包含摩尔比在0.30和0.48之间的氧化铝和氧化铈。 本发明还涉及用于所述灯的石英玻璃。
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公开(公告)号：NO791910A
公开(公告)日：1979-12-13
申请号：NO791910
申请日：1979-06-07
Applicant: CORNING GLASS WORKS
Inventor： SCHULTZ PETER CHARLES
CPC classification number: C03C23/0085 , C03B37/01446 , C03B2201/31 , C03B2203/22 , C03C3/06 , C03C23/0095 , C03C2201/10 , C03C2201/28 , C03C2201/31 , C03C2201/32 , C03C2201/40 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , Y10S65/90
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公开(公告)号：KR1020140004708A
公开(公告)日：2014-01-13
申请号：KR1020137020236
申请日：2012-01-06
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Inventor： 노니,더글라스엠
CPC classification number: B32B3/08 , C03C17/002 , C03C17/28 , C03C2201/32
Abstract: 본 발명은 유리로 제조된 생산품 또는 물질 또는 제품에 관한 것으로, 여기서 상기 유리의 엣지는 상기 유리의 두께 내에 함유된 고체 전-형성 중합체 물질의 적용에 의해 보호된다. 상기 보호된 유리 제품은 0.4 내지 20 범위의 성능지수를 가지며, 상기 제품의 엣지(들)는 500 ㎜/sec까지의 충격 속도를 견디는 것이 확인되었다. 따라서, 상기 유리의 두께 내에 함유된 고체 전-형성 중합체 물질은 상기 엣지에 적용되고, 유리의 상부 및 바닥의 가시적 평면, 표면 또는 면들 (큰 표면적)에 돌출되지 않도록 적용된다. 상기 고체 전-형성 중합체 물질인, 상기 유리의 두께 내에 함유된 보호 물질은, 본 발명에서 소위 "범퍼"라 칭할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020070120083A
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：KR1020077004944
申请日：2006-03-30
Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 , 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
Abstract: An ideal quartz glass for a wafer holder for application in an etching environment is characterised both by high purity and also a high dry etching resistance. According to the invention, such a quartz glass may be achieved, whereby the quartz glass is doped with nitrogen, at least in a region near the surface, has an average content of metastable hydroxy groups of less than 30 wt. ppm, the fictive temperature is less than 1250 °C and the viscosity at a temperature of 1200 °C is at least 1013 dPas. A commercial method for production of such a quartz glass comprises the following method steps: fusion of a SiO2 raw material to give a quartz glass blank, whereby the SiO2 raw material or the quartz glass blank is subjected to a dehydration process, heating of the SiO2 raw material or the quartz glass blank to a nitriding temperature in the range between 1050 °C and 1850 °C under an atmosphere containing ammonia, a temperature treatment, by means of which the quartz glass of the quartz glass blank is brought to a fictive temperature of 1250 °C or less and a surface treatment of the quartz glass blank to give the quartz glass holder.
Abstract translation: 用于在蚀刻环境中应用的晶片保持器的理想石英玻璃的特征在于高纯度和高耐干蚀刻性。 根据本发明，可以实现这种石英玻璃，由此至少在靠近表面的区域中石英玻璃掺杂有氮，其平均羟基含量小于30wt。 ppm，假想温度低于1250℃，1200℃温度下的粘度至少为1013 dPas。 生产这种石英玻璃的商业方法包括以下方法步骤：将SiO 2原料熔化以得到石英玻璃坯料，由此使SiO 2原料或石英玻璃坯料进行脱水处理，加热SiO 2 原料或石英玻璃坯料，在含有氨的气氛下，在1050℃至1850℃的范围内的氮化温度进行温度处理，通过该温度处理将石英玻璃坯料的石英玻璃变为假想温度 为1250℃以下，对石英玻璃坯料进行表面处理，得到石英玻璃支架。
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公开(公告)号：KR1020060073953A
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：KR1020067004731
申请日：2004-08-20
Applicant: 코닌클리케 필립스 엔.브이.
Inventor： 플링크,시몬 , 크리즈넨,시몬 , 쿠펜,세바스티아너스,엔.,쥐. , 스와트,제르브랜드,제이. , 웨이지,윌렘 , 밴데르멜렌,프랭크
CPC classification number: C03C4/085 , C03C3/06 , C03C2201/32 , C03C2201/3423 , C03C2201/42 , H01J61/302 , H01J61/34 , H01J61/50 , H01K1/28
Abstract: The invention relates to an electric lamp provided with a light source in a light-transmitting lamp vessel which is closed in a vacuumtight manner, which light source has an envelope of light-transmitting, UV-absorbing quartz glass which comprises silicon oxide, aluminum oxide and cerium oxide, characterized in that the quartz glass of the envelope comprises the aluminum oxide and cerium oxide in a molar ratio of between 0.30 and 0.48. The invention further relates to the quartz glass which is used for said lamp.
Abstract translation: 本发明涉及一种在透光灯容器中设置有光源的电灯，其以真空密封的方式封闭，该光源具有包含氧化硅，氧化铝的透光，紫外线吸收石英玻璃的外壳 和氧化铈，其特征在于，外壳的石英玻璃包含氧化铝和氧化铈，摩尔比为0.30-0.48。 本发明还涉及用于所述灯的石英玻璃。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100364309B1
公开(公告)日：2003-01-24
申请号：KR1019970060864
申请日：1997-11-18
Applicant: 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤
CPC classification number: C03B19/09 , C03B19/1065 , C03C3/06 , C03C12/00 , C03C14/004 , C03C2201/28 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/27 , C03C2214/16 , C03C2214/32
Abstract: A synthetic quartz powder obtained by calcining a powder of silica gel, characterized in that white devitrification spots having sizes of larger than 20 mu m in diameter formed in an ingot obtained by vacuum melting the synthetic quartz powder at a temperature of from 1780 to 1800 DEG C to form an ingot, followed by maintaining the ingot at a temperature of 1630 DEG C for 5 hours, are at most 10 spots/50 g.
Abstract translation: 一种合成石英粉，其是通过煅烧硅胶粉末而获得的，其特征在于，通过在1780-1800℃的温度下真空熔化合成石英粉获得的铸块中形成直径大于20μm的白色反玻璃化斑点 形成晶锭，随后在1630℃的温度下保持晶锭5小时，最多10个点/ 50g。
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公开(公告)号：KR101606225B1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：KR1020117000279
申请日：2009-07-23
Applicant: 가부시키가이샤 니콘
CPC classification number: C03B19/1469 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2201/42 , C03C2201/50 , C03C2203/40 , C03C2203/42 , C03C2203/54 , G03F1/50
Abstract: 포토마스크용광학부재는, 합성석영유리에 TiO를첨가하여이루어지는광학부재이다. TiO는 3.0 내지 6.5 중량% 함유된다. 포토마스크용광학부재의제조방법은, 석영유리잉곳을합성한후, 평판형상의소정형상으로성형하고, 그후, 산화분위기중에서어닐한다. 어닐에의해석영유리잉곳중의 Ti를 Ti로변화시켜 Ti에의한광의흡수를저감시킬수 있다. 파장 365 ㎚의 광에대한투과율이 90 % 이상이므로, 파장 365 ㎚부근에서도실용상충분한투과율을가지며, 또한석영유리보다잘 열팽창되지않는다.
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公开(公告)号：KR1020110033997A
公开(公告)日：2011-04-04
申请号：KR1020117000279
申请日：2009-07-23
Applicant: 가부시키가이샤 니콘
CPC classification number: C03B19/1469 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2201/42 , C03C2201/50 , C03C2203/40 , C03C2203/42 , C03C2203/54 , G03F1/50
Abstract: 포토마스크용 광학 부재는, 합성 석영 유리에 TiO
2 를 첨가하여 이루어지는 광학 부재이다. TiO
2 는 3.0 내지 6.5 중량% 함유된다. 포토마스크용 광학 부재의 제조 방법은, 석영 유리 잉곳을 합성한 후, 평판 형상의 소정 형상으로 성형하고, 그 후, 산화 분위기 중에서 어닐한다. 어닐에 의해 석영 유리 잉곳 중의 Ti
3
＋ 를 Ti
4
＋ 로 변화시켜 Ti
3
＋ 에 의한 광의 흡수를 저감시킬 수 있다. 파장 365 ㎚ 의 광에 대한 투과율이 90 % 이상이므로, 파장 365 ㎚ 부근에서도 실용상 충분한 투과율을 가지며, 또한 석영 유리보다 잘 열팽창되지 않는다.-
公开(公告)号：KR1020040075015A
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：KR1020047009678
申请日：2002-11-25
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Inventor： 셈폴린스키,다니엘,알.
CPC classification number: C03C3/06 , C03C2201/32
Abstract: 본 발명은 적어도 50ppb의 알루미늄을 함유하는 용융 실리카 제품에 관한 것이다. 이러한 함량의 알루미늄을 함유하는 용융 실리카 제품은 보다 낮은 함량의 알루미늄을 함유하는 용융 실리카 제품과 비교하여 향상된 내부 투과도 및 감소된 흡수 변화를 나타낸다.
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公开(公告)号：KR1020030082606A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：KR1020037011151
申请日：2002-02-11
Applicant: 코닝 인코포레이티드
CPC classification number: G03F7/70216 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2207/30 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03B2207/38 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/20 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2203/54 , G03F1/60 , G03F7/70958
Abstract: 본 발명은 190nm 이하의 VUV 파장 영역 내에서 포토리소그래피 적용을 위한 포토마스크 기판용으로 적합한 고순도의 실리콘 옥시플루오라이드 유리에 관한 것이다. 도핑된 유리(20)는 도핑 용기(28) 내에서 실리콘 옥시플루오라이드 유리(22)에 O
2 도핑 분위기(26)를 제공함으로써 제조된다. 본 발명의 실리콘 옥시플루오라이드 유리는 157nm 부근의 파장에서 투과하여 157nm 파장 영역에서의 포토마스크 기판으로서 특히 유용하다. 본 발명의 포토마스크 기판은 도핑된 O
2 분자를 함유하고 진공 자외선(VUV) 파장 영역 내에서 매우 높은 투과도 및 레이저 투과 내구성을 나타내는 "건조상태"의 실리콘 옥시플루오라이드 유리이다. 본 발명의 실리콘 옥시플루오라이드 유리는 불소를 함유하고 OH 함량이 적거나 없는 것 외에, 레이저 노출에 개선된 내구성을 제공하는 간질(intersticial) O
2 분자를 함유한다. 바람직하게 O
2 로 도핑된 실리콘 옥시플루오라이드 유리는 1×10
17 분자/cm
3 미만의 수소분자 및 낮은 염소 수준을 갖는 것을 특징으로 한다.
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