公开(公告)号：TWI528118B

公开(公告)日：2016-04-01

申请号：TW101102632

申请日：2007-04-04

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 莫瑞斯 威可曼 ,  MAURICE, WIJCKMANS ,  古伯斯 馬汀斯 安尼斯 威廉 ,  CUIJPERS, MARTINUS AGNES WILLEM ,  瓊恩 弗瑞德瑞克 愛迪亞 迪 ,  DE JONG, FREDERIK EDUARD ,  凡 康貝爾 艾德恩 奧古斯汀 馬瑟斯 ,  VAN GOMPEL, EDWIN AUGUSTINUS MATHEUS ,  真森 羅伯特 ,  JANSEN, ROBERT ,  卡斯特 傑拉度 艾瑞納斯 安東尼 馬瑞亞 ,  KUSTERS, GERARDUS ADRIANUS ANTONIUS MARIA ,  卡迪 帝歐朵斯 佩樂斯 馬瑞亞 ,  CADEE, THEODORUS PETRUS MARIA ,  史密茲 馬汀 法蘭斯 派瑞 ,  SMEETS, MARTIN FRANS PIERRE ,  凡 德 謬藍 弗瑞茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  席夢斯 懷慕斯 法蘭西卡斯 喬哈奈 ,  SIMONS, WILHELMUS FRANCISCUS JOHANNES ,  林德斯 馬汀斯 韓瑞卡 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  澳坦斯 賈斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  凡 巴倫 馬堤恩 ,  VAN BAREN, MARTIJN

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70875 ,  F16L55/053 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70783

公开(公告)号：TWI526777B

公开(公告)日：2016-03-21

申请号：TW102126582

申请日：2013-07-25

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 ,  FINDERS, JOZEF MARIA ,  威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  凡 德 海登 愛迪 康那力斯 安東尼司 ,  VAN DER HEIJDEN, EDDY CORNELIS ANTONIUS ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  凡 西取 克利斯丁納 馬汀納斯 ,  VAN HEESCH, CHRISTIANUS MARTINUS ,  布慈 亨利 馬利 喬瑟夫 ,  BOOTS, HENRI MARIE JOSEPH ,  卓吉妮雅 塔瑪拉 ,  DRUZHININA, TAMARA

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5068

公开(公告)号：TW201610604A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：TW104126130

申请日：2015-08-11

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 亞克曼司 喬漢那斯 安東尼司 傑瑞德思 ,  AKKERMANS, JOHANNES ANTONIUS GERARDUS ,  畢瑞恩斯 洛德 安東尼斯 凱薩琳娜 瑪利亞 ,  BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA ,  布羅爾斯 桑迪爾 克里斯丁安 ,  BROERS, SANDER CHRISTIAAN ,  迪 貝斯特 傑洛恩 裘漢斯 西爾多斯 亨利克斯 ,  DE BEST, JEROEN JOHANNES THEODORUS HEND ,  西崙 安卓納斯 瑪莉納斯 沃特 ,  HEEREN, ADRIANUS MARINUS WOUTER ,  林克耐格特 喬治 亞洛伊斯 李奧尼 ,  LEENKNEGT, GEORGE ALOIS LEONIE ,  廉森 波 ,  LENSSEN, BO ,  奢廉斯 亨利克斯 裘漢斯 ,  SCHELLENS, HENDRIKUS JOHANNES ,  凡 登 克力肯 彼德 ,  VAN DER KRIEKEN, PETER ,  凱迪 李歐朵魯斯 佩特魯斯 瑪麗亞 ,  CADEE, THEODORUS PETRUS MARIA ,  凡 伊克 珍 ,  VAN EIJK, JAN ,  凡 黎紗 李查 亨利克斯 雅卓安尼斯 ,  VAN LIESHOUT, RICHARD HENRICUS ADRIANUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G01L1/16 ,  G01P15/0915 ,  G01P15/18 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085

Abstract: 本發明係關於一種感測器，其包含兩個剪切模式壓電換能器，其中每一壓電換能器包含一底部表面及一頂部表面，其中該等壓電換能器之該等頂部表面彼此剛性地連接，且其中該等底部表面經組態以附接至待量測之一物件。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种传感器，其包含两个剪切模式压电换能器，其中每一压电换能器包含一底部表面及一顶部表面，其中该等压电换能器之该等顶部表面彼此刚性地连接，且其中该等底部表面经组态以附接至待量测之一对象。

公开(公告)号：TWI525397B

公开(公告)日：2016-03-11

申请号：TW098106504

申请日：2009-02-27

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 丹 伯夫 艾瑞 傑佛瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J3/28 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

公开(公告)号：TWI525387B

公开(公告)日：2016-03-11

申请号：TW101121960

申请日：2012-06-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 布瑞薩德 歐瑞利 馬力 安德利 ,  BRIZARD, AURELIE MARIE ANDREE ,  凱特拉斯 威赫木斯 賽巴斯汀納 馬寇斯 馬力亞 ,  KETELAARS, WILHELMUS SEBASTIANUS MARCUS MARIA ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  凡 西取 克利斯丁納 馬汀納斯 ,  VAN HEESCH, CHRISTIANUS MARTINUS ,  布慈 亨利 馬利 喬瑟夫 ,  BOOTS, HENRI MARIE JOSEPH ,  恩古言 沙恩 川 ,  NGUYEN, THANH TRUNG ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F299/02 ,  C08F299/04 ,  H01L51/0043

公开(公告)号：TWI524154B

公开(公告)日：2016-03-01

申请号：TW102140163

申请日：2013-11-05

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 ,  TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7069 ,  G03F9/7088

公开(公告)号：TW201608576A

公开(公告)日：2016-03-01

申请号：TW104124119

申请日：2015-07-24

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 塞奈凱里米恩 法漢 ,  SENEKERIMYAN, VAHAN ,  普維斯 麥可A ,  PURVIS, MICHAEL A. ,  丁 捷 ,  DING, JIE

IPC: G21K5/00

CPC classification number: G21K1/067 ,  G01J1/0214 ,  G01J1/0414 ,  G01J1/06 ,  G01J1/42 ,  G01J1/4257 ,  G01J1/429 ,  G01T1/16 ,  G03F7/00 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 一種光源包括一光產生腔室及置設於該光產生腔室中之一集光器。經組配以將一定量的靶材朝向一照射區域推進之一靶材產生器置設於該集光器之一反射性表面前方。多個光偵測器模組置設於該光產生腔室外，其中該等光偵測器模組中之每一者朝向該照射區域定向。多個管置設於一對應光偵測器模組與該照射區域之間。每一管具有朝向該照射區域定向之一中心線，且每一管具有一粗糙化內表面。該粗糙化內表面之表面粗糙度足以使光之切線入射消除而非反射離開該粗糙化內表面。亦描述一種產生光之方法及一種量測光能之方法。

Abstract in simplified Chinese: 一种光源包括一光产生腔室及置设于该光产生腔室中之一集光器。经组配以将一定量的靶材朝向一照射区域推进之一靶材产生器置设于该集光器之一反射性表面前方。多个光侦测器模块置设于该光产生腔室外，其中该等光侦测器模块中之每一者朝向该照射区域定向。多个管置设于一对应光侦测器模块与该照射区域之间。每一管具有朝向该照射区域定向之一中心线，且每一管具有一粗糙化内表面。该粗糙化内表面之表面粗糙度足以使光之切线入射消除而非反射离开该粗糙化内表面。亦描述一种产生光之方法及一种量测光能之方法。

公开(公告)号：TW201606451A

公开(公告)日：2016-02-16

申请号：TW104122207

申请日：2015-07-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 威斯特雷肯 禎 史蒂芬 克里斯丁 ,  WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN ,  馬修 亞利山德洛斯 ,  MATHEW, ALEXANDRIOS ,  瑞登 羅布 喬漢 希鐸 ,  RUTTEN, ROB JOHAN THEODOOR

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70858 ,  G05D23/1934

Abstract: 本發明揭示一種用於包含複數個模組之一微影裝置之調節系統。該調節系統包含：用於該複數個模組之一共同調節介質；運載該調節介質之複數個調節分支，一個調節分支用於一個模組(或模組之一子集)；複數個熱致動器，其各自可操作以局域地變更在該等調節分支中之一者處的該共同調節介質之溫度；及複數個感測器，其各自可操作以感測在該等調節分支中之一者處的該共同調節介質之該溫度。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于包含复数个模块之一微影设备之调节系统。该调节系统包含：用于该复数个模块之一共同调节介质；运载该调节介质之复数个调节分支，一个调节分支用于一个模块(或模块之一子集)；复数个热致动器，其各自可操作以局域地变更在该等调节分支中之一者处的该共同调节介质之温度；及复数个传感器，其各自可操作以传感在该等调节分支中之一者处的该共同调节介质之该温度。

公开(公告)号：TWI519902B

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：TW102117935

申请日：2013-05-21

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 劉曉峰 ,  LIU, XIAOFENG ,  何威爾 羅福C ,  HOWELL, RAFAEL C.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5068 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705

公开(公告)号：TW201603178A

公开(公告)日：2016-01-16

申请号：TW104114310

申请日：2015-05-05

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  度沙 米爾西亞 ,  DUSA, MIRCEA ,  波伊茲 湯瑪士 ,  POIESZ, THOMAS ,  迪 庫魯夫 尼克 伊勞特 ,  DE KRUIJF, NIEK ELOUT ,  豪班 馬提恩 ,  HOUBEN, MARTIJN ,  慕德 裘漢斯 吉拉德斯 馬麗亞 ,  MULDER, JOHANNES GERARDUS MARIA ,  凡 丹 休維爾 馬可 安卓亞那斯 彼得 ,  VAN DEN HEUVEL, MARCO ADRIANUS PETER ,  傑利森 賈斯汀 裘漢斯 赫馬努斯 ,  GERRITZEN, JUSTIN JOHANNES HERMANUS ,  夫威傑 安東尼 亨佐克 ,  VERWEIJ, ANTONIE HENDRIK ,  索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 ,  SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER ,  凡東京 保羅 ,  VAN DONGEN, PAUL

IPC: H01L21/683 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6838

Abstract: 一種基板支撐件，其包括：一基板支撐件位置，其經組態以支撐一基板；及一真空夾持器件，其經組態以將該基板夾持於該基板支撐件位置上，其中該真空夾持器件包括：至少一減壓源，其用以產生一減壓；至少一真空區段，其連接至該至少一減壓源，其中該至少一真空區段經組態以將該基板吸引朝向該基板支撐件位置；及一控制器件，其經組態以控制由該真空夾持器件吸引該基板所運用的沿著該至少一真空區段之一空間壓力量變曲線，其中該控制器件包括用以接收表示待夾持之該基板之形狀資料的基板形狀資料之一基板形狀資料輸入，且其中該控制器件經組態以相依於該基板形狀資料來調適該空間壓力量變曲線。

Abstract in simplified Chinese: 一种基板支撑件，其包括：一基板支撑件位置，其经组态以支撑一基板；及一真空夹持器件，其经组态以将该基板夹持于该基板支撑件位置上，其中该真空夹持器件包括：至少一减压源，其用以产生一减压；至少一真空区段，其连接至该至少一减压源，其中该至少一真空区段经组态以将该基板吸引朝向该基板支撑件位置；及一控制器件，其经组态以控制由该真空夹持器件吸引该基板所运用的沿着该至少一真空区段之一空间压力量变曲线，其中该控制器件包括用以接收表示待夹持之该基板之形状数据的基板形状数据之一基板形状数据输入，且其中该控制器件经组态以相依于该基板形状数据来调适该空间压力量变曲线。