公开(公告)号：TWI525387B

公开(公告)日：2016-03-11

申请号：TW101121960

申请日：2012-06-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 布瑞薩德 歐瑞利 馬力 安德利 ,  BRIZARD, AURELIE MARIE ANDREE ,  凱特拉斯 威赫木斯 賽巴斯汀納 馬寇斯 馬力亞 ,  KETELAARS, WILHELMUS SEBASTIANUS MARCUS MARIA ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  凡 西取 克利斯丁納 馬汀納斯 ,  VAN HEESCH, CHRISTIANUS MARTINUS ,  布慈 亨利 馬利 喬瑟夫 ,  BOOTS, HENRI MARIE JOSEPH ,  恩古言 沙恩 川 ,  NGUYEN, THANH TRUNG ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F299/02 ,  C08F299/04 ,  H01L51/0043

公开(公告)号：TW201316136A

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：TW101131394

申请日：2012-08-29

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史卡巴羅茲 路奇 ,  SCACCABAROZZI, LUIGI ,  白尼 凡丁 葉弗真葉米希 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  路堤惠斯 柏納度 安東尼斯 喬哈奈 ,  LUTTIKHUIS, BERNARDUS ANTONIUS JOHANNES ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  溫德娟 亨迪力克 珍 ,  WONDERGEM, HENDRIKUS JAN ,  格拉特 沛卓斯 卡絡司 尤漢倪思 ,  GRAAT, PETRUS CAROLUS JOHANNES

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G01B11/16 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916

Abstract: 一種微影圖案化器件變形監視裝置，其包含一輻射源、一成像器件及一處理器。該輻射源經組態以朝向一微影圖案化器件引導具有一預定直徑之複數個輻射光束，使得該複數個輻射光束藉由該圖案化器件反射。該成像偵測器經組態以在該等輻射光束已藉由該圖案化器件反射之後偵測該等輻射光束之空間位置。該處理器經組態以監視該等輻射光束之該等空間位置且藉此判定一圖案化器件變形之存在。該成像偵測器具有小於該等輻射光束之一最小繞射角之一收集角。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影图案化器件变形监视设备，其包含一辐射源、一成像器件及一处理器。该辐射源经组态以朝向一微影图案化器件引导具有一预定直径之复数个辐射光束，使得该复数个辐射光束借由该图案化器件反射。该成像侦测器经组态以在该等辐射光束已借由该图案化器件反射之后侦测该等辐射光束之空间位置。该处理器经组态以监视该等辐射光束之该等空间位置且借此判定一图案化器件变形之存在。该成像侦测器具有小于该等辐射光束之一最小绕射角之一收集角。

公开(公告)号：TWI509348B

公开(公告)日：2015-11-21

申请号：TW102109535

申请日：2013-03-18

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 新 哈米特 ,  SINGH, HARMEET ,  白尼 凡丁 葉弗真葉米希 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 ,  FINDERS, JOZEF MARIA ,  威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/038 ,  G03F7/165 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

公开(公告)号：TWI467636B

公开(公告)日：2015-01-01

申请号：TW101136581

申请日：2012-10-03

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 恩古言 沙恩 川 ,  NGUYEN, THANH TRUNG ,  芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 ,  FINDERS, JOZEF MARIA ,  凱特拉斯 威赫木斯 賽巴斯汀納 馬寇斯 馬力亞 ,  KETELAARS, WILHELMUS SEBASTIANUS MARCUS MARIA ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  凡 德 海登 愛迪 康那力斯 安東尼司 ,  VAN DER HEIJDEN, EDDY CORNELIS ANTONIUS ,  梅森 席洛倪莫斯 尤漢思 克力斯帝昂 ,  MEESSEN, HIERONYMUS JOHANNUS CHRISTIAAN ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  凡 西取 克利斯丁納 馬汀納斯 ,  VAN HEESCH, CHRISTIANUS MARTINUS ,  布瑞薩德 歐瑞利 馬力 安德利 ,  BRIZARD, AURELIE MARIE ANDREE ,  布慈 亨利 馬利 喬瑟夫 ,  BOOTS, HENRI MARIE JOSEPH ,  卓吉妮雅 塔瑪拉 ,  DRUZHININA, TAMARA ,  笛 瑞提 潔西卡 ,  DE RUITER, JESSICA

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: C30B1/12 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337 ,  Y10T117/10

公开(公告)号：TWI497217B

公开(公告)日：2015-08-21

申请号：TW100104476

申请日：2011-02-10

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/312 ,  C09D201/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

公开(公告)号：TW201341949A

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：TW102109535

申请日：2013-03-18

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 新 哈米特 ,  SINGH, HARMEET ,  白尼 凡丁 葉弗真葉米希 ,  BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 ,  FINDERS, JOZEF MARIA ,  威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/038 ,  G03F7/165 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

Abstract: 本發明揭示一種用以在一基板上形成一圖案化模板以引導一可自我組合嵌段共聚物之定向之方法。該方法涉及將一正調性抗蝕劑之一抗蝕劑層提供於該基板上，且藉由光微影而用光化(例如，UV)輻射來過度曝光該抗蝕劑以曝光該抗蝕劑層之一連續區，其中一次解析度未經曝光抗蝕劑部分位於該抗蝕劑與該基板之間的界面處。在該經曝光區之移除之後，保持於該界面處之該抗蝕劑部分提供用於一化學磊晶模板之一基礎。該方法可允許簡單的直接光微影以形成一圖案化化學磊晶模板，且視情況包括一準確共同對準型表面起伏磊晶特徵及/或一基板對準特徵。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用以在一基板上形成一图案化模板以引导一可自我组合嵌段共聚物之定向之方法。该方法涉及将一正调性抗蚀剂之一抗蚀剂层提供于该基板上，且借由光微影而用光化(例如，UV)辐射来过度曝光该抗蚀剂以曝光该抗蚀剂层之一连续区，其中一次分辨率未经曝光抗蚀剂部分位于该抗蚀剂与该基板之间的界面处。在该经曝光区之移除之后，保持于该界面处之该抗蚀剂部分提供用于一化学磊晶模板之一基础。该方法可允许简单的直接光微影以形成一图案化化学磊晶模板，且视情况包括一准确共同对准型表面起伏磊晶特征及/或一基板对准特征。

公开(公告)号：TW201305725A

公开(公告)日：2013-02-01

申请号：TW101121960

申请日：2012-06-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 布瑞薩德 歐瑞利 馬力 安德利 ,  BRIZARD, AURELIE MARIE ANDREE ,  凱特拉斯 威赫木斯 賽巴斯汀納 馬寇斯 馬力亞 ,  KETELAARS, WILHELMUS SEBASTIANUS MARCUS MARIA ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL ,  凡 西取 克利斯丁納 馬汀納斯 ,  VAN HEESCH, CHRISTIANUS MARTINUS ,  布慈 亨利 馬利 喬瑟夫 ,  BOOTS, HENRI MARIE JOSEPH ,  恩古言 沙恩 川 ,  NGUYEN, THANH TRUNG ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F299/02 ,  C08F299/04 ,  H01L51/0043

Abstract: 本發明係關於一種嵌段共聚物(BCP)，其具有第一單體之第一嵌段及第二單體之第二嵌段，該BCP經調適以在低於TOD之溫度下經歷自無序狀態至有序狀態之轉變，該BCP進一步包括具有官能基之橋接部分，以在處於該有序狀態中時且在超過該BCP之玻璃轉變溫度Tg之溫度下在鄰近之第一及第二BCP分子之橋接部分之間提供氫鍵結。本發明係關於一種組合物，其包括：BCP，其包含第一單體之第一嵌段及第二單體之第二嵌段；及交聯化合物，其具有藉由一中心部分聯結之第一末端基及第二末端基，且經配置以藉由在該BCP處於該有序狀態中時在該等末端基與鄰近之第一及第二BCP分子之第二嵌段之該第二單體的一官能基之間提供非共價鍵結而使該等第二嵌段交聯。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种嵌段共聚物(BCP)，其具有第一单体之第一嵌段及第二单体之第二嵌段，该BCP经调适以在低于TOD之温度下经历自无序状态至有序状态之转变，该BCP进一步包括具有官能基之桥接部分，以在处于该有序状态中时且在超过该BCP之玻璃转变温度Tg之温度下在邻近之第一及第二BCP分子之桥接部分之间提供氢键结。本发明系关于一种组合物，其包括：BCP，其包含第一单体之第一嵌段及第二单体之第二嵌段；及交联化合物，其具有借由一中心部分联结之第一末端基及第二末端基，且经配置以借由在该BCP处于该有序状态中时在该等末端基与邻近之第一及第二BCP分子之第二嵌段之该第二单体的一官能基之间提供非共价键结而使该等第二嵌段交联。

公开(公告)号：TWI486705B

公开(公告)日：2015-06-01

申请号：TW100127615

申请日：2011-08-03

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF ,  迪卡蔓 喬漢 夫德克 ,  DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK ,  威斯特 山達 佛芮得瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  彼得斯 愛蜜麗 ,  PEETERS, EMIEL

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: B44C1/227 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0198 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337

公开(公告)号：TWI454688B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：TW100127110

申请日：2011-07-29

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF

IPC: G01N21/88

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/94 ,  G01N2021/95676 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70958

公开(公告)号：TWI396622B

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：TW099130366

申请日：2010-09-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 藍姆司 賈諾 哈曼 ,  LAMMERS, JEROEN HERMAN ,  威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  可路特 史坦曼 伊娃 溫迪拉 ,  KRUIJT-STEGEMAN, YVONNE WENDELA ,  庫爾 羅伊洛夫 ,  KOOLE, ROELOF

IPC: B29C59/02 ,  B05C9/12 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00