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公开(公告)号:CN104488064B
公开(公告)日:2017-09-29
申请号:CN201380031526.X
申请日:2013-06-12
Applicant: 代尔夫特理工大学
Inventor: 彼得·克路特 , 阿里·穆罕默迪·盖达瑞 , 任言
IPC: H01J37/244 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/14 , H01J37/28 , H01J2237/2446 , H01J2237/2448
Abstract: 本发明涉及一种用于检查样品的表面的设备,其中所述设备包含用于产生一次带电粒子束阵列的至少一个带电粒子源、用于将所有的带电粒子束引导到共同相交区的聚焦透镜、用于将所述一次带电粒子束从所述共同相交区向所述样品表面引导并用于将所有的一次带电粒子束在所述样品表面聚焦成独立的点的阵列的透镜系统、和被至少大致地放置在包含所述共同相交区的平面内或附近的位置灵敏二次电子探测器。
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公开(公告)号:CN105810542B
公开(公告)日:2017-09-22
申请号:CN201410834759.X
申请日:2014-12-29
Applicant: 财团法人工业技术研究院
CPC classification number: H01J37/20 , G01N35/1095 , H01J37/28 , H01J2237/18 , H01J2237/2004 , H01J2237/2065
Abstract: 一种电子显微镜,包括载台、第一驱动单元、稳流单元及电子源。载台承载待测物。第一驱动单元驱动第一液体沿第一流动路径流动,其中第一流动路径通过待测物。稳流单元配置于第一流动路径上以对第一液体进行稳流,其中第一液体依序流经稳流单元及载台。电子源提供电子束至待测物。
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公开(公告)号:CN107112182A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580047907.6
申请日:2015-10-21
Applicant: 科学明天有限责任公司
Inventor: 乔蒂·乔蒂阿拉瓦克人 , 萨哈达史·萨哈达史纳亚克 , 大卫·大卫C乔伊
IPC: H01J37/244
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495
Abstract: 使用基于固态装置(SSD)阵列的电子计数器的定量二次电子检测(QSED)能够在诸如半导体、纳米材料和生物样品之类的材料中进行关键尺寸的计量学测量(图3)。使用固态检测器阵列实现二次电子定量检测的方法和装置包括多个固态检测器。阵列使用多个固态检测器对二次电子的数目进行感测,用计数器模式中的时数转换器电路来对二次电子的数目进行计数。
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公开(公告)号:CN107110799A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201480084213.5
申请日:2014-12-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01N23/225
CPC classification number: H01J37/28 , G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N23/2252 , G01N2223/61 , H01J37/145 , H01J37/16 , H01J2237/0216
Abstract: 描述一种用于检查用于显示器制造的大面积基板的设备。所述设备包含:真空腔室;基板支撑件,布置在真空腔室中,其中基板支撑件被配置成用于支撑用于显示器制造的大面积基板;以及第一成像带电粒子束显微镜,被配置成用于产生用于检查由基板支撑件支撑的基板的带电粒子束,其中第一成像带电粒子束显微镜包含物镜的减速场透镜部件。
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公开(公告)号:CN107004554A
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:CN201580044320.X
申请日:2015-06-25
Applicant: FEI埃法有限公司
IPC: H01J37/20 , H01L21/66 , G01R1/06 , G01R31/307 , G01R31/28
CPC classification number: G01Q30/02 , G01R1/06744 , G01R31/26 , G01R31/2831 , G01R31/2891 , H01J37/28 , H01J2237/2008 , H01J2237/208 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L22/14
Abstract: 一种用于在半导体晶圆上执行在线纳米探测的系统。晶圆支架或垂直晶圆定位器附接到晶圆台。SEM柱、光学显微器和多个纳米探针定位器都附接到顶板。纳米探针定位器具有被配置为物理接触晶圆上所选择的点的一个纳米探针。当探针物理接触晶圆时,力(或触摸)传感器测量由探针施加到晶圆的接触力(或力矩)。多个漂移传感器被提供用于在测量期间实时计算探针相对于晶圆的对准漂移。
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公开(公告)号:CN107003249A
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:CN201580059575.3
申请日:2015-11-04
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: H01J37/28 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8854 , G01N2021/8883 , G03F7/70625 , G03F7/7065 , H01J2237/24592
Abstract: 本发明提供用于发现晶片上的缺陷的系统及方法。一种方法包含通过在晶片的第一扫描中将阈值应用于由检测器产生的输出来检测所述晶片上的缺陷,且确定经检测的缺陷的特征的值。所述方法还包含自动对所述特征排名、识别特征裁切线,以将所述缺陷分组成筐,且对于所述筐中的每一者,确定在被应用于所述筐中的每一者中的缺陷的特征的值时将导致所述筐中的每一者中的预定数量的缺陷的一或多个参数。所述方法还包含在所述晶片的第二扫描中将所述一或多个经确定的参数应用于由所述检测器产生的输出以产生缺陷群体,其具有预定缺陷计数,且以所述特征的值多样化。
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公开(公告)号:CN104865276B
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:CN201510087134.6
申请日:2015-02-25
Applicant: FEI 公司
IPC: G01N23/04
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2446 , H01J2237/24465 , H01J2237/2802
Abstract: 一种在扫描透射类型的带电粒子显微镜中检查样本的方法,包括如下步骤:‑提供带电粒子射束,所述射束通过发光器从源被引导以便照射样本;‑提供检测器,用于检测带电粒子穿过样本的通量;‑使得所述射束横跨样本表面进行扫描,并且记录作为扫描位置的函数的检测器输出,从而产生样本的带电粒子图像的累积,该方法还包括如下步骤:‑把检测器体现为包括多个检测分段;‑组合来自检测器的不同分段的信号,以便在每个扫描位置处从检测器产生向量输出,并且编译这个数据以产生向量场;‑通过使所述向量场经受二维积分操作来以数学方式处理所述向量场,由此产生积分向量场图像。
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公开(公告)号:CN106940323A
公开(公告)日:2017-07-11
申请号:CN201610883673.5
申请日:2016-10-10
Applicant: FEI 公司
IPC: G01N23/04
CPC classification number: G01N23/04 , G01N2223/204 , G01N2223/401 , G01N2223/419 , H01J35/08 , H01J37/28 , H01J2235/068 , H01J2235/086 , G01N23/046 , G01N2223/03 , G01N2223/1016
Abstract: 新型X射线成像技术。一种使用X射线成像装置对样品进行成像的方法,包括以下步骤:—在样品保持器上提供样品;—引导来自源的一定通量的X射线通过样品且到X射线照相机上,该方法另外包括以下步骤:—将源具体实施为部件源的集群,相对于样品而言具有受限的角跨度;—使用所述照相机来从所述部件源记录累积合成图像;—以数学方式对所述合成图像解卷积。
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公开(公告)号:CN104681382B
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201410718566.8
申请日:2014-12-02
Applicant: FEI 公司
Inventor: A.A.S.斯鲁伊特曼恩 , E.G.T.博世
CPC classification number: H01J37/244 , G01N23/225 , G01N2223/418 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/153 , H01J2237/221 , H01J2237/2441 , H01J2237/24495 , H01J2237/2804 , H01J2237/2813
Abstract: 具有增强的电子检测的带电粒子显微术。一种研究从带电粒子显微镜中的样本发出的输出电子的通量的方法,该方法包括下列步骤:使用检测器来拦截通量的至少一部分,以便产生样本的至少一部分的像素化图像Ij的集合{Ij},由此,集合{Ij}的基数是M>1;对每个图像Ij中的每个像素pi,确定累积信号强度Sij,因此产生信号强度的相关集合{Sij};使用集合{Sij}计算下列值:每像素位置i的平均信号强度S;每像素位置i的S中的方差σ2S;将这些值S和σ2S用于选自包括如下的组的样本的所述部分的至少一个图:表示作为位置的函数的检测的电子的能量的变化的第一图;表示作为位置的函数的检测的电子的数目的变化的第二图。
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公开(公告)号:CN106920723A
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201710128987.9
申请日:2017-03-06
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
CPC classification number: H01J37/26 , H01J37/21 , H01J37/265 , H01J37/28
Abstract: 本发明公开了一种扫描聚焦系统,其特征在于,所述系统包括:电子源、电子加速结构、聚焦结构、偏转结构、电子减速结构和高压控制结构;其中,所述电子源,用于产生电子束;所述电子加速结构,用于对所述电子源产生的电子束进行加速;所述聚焦结构,用于对加速后的电子束进行聚焦;所述偏转结构,用于对聚焦后的电子束进行偏转扫描;所述电子减速结构,用于产生一减速场,对经偏转扫描后的电子束进行减速;所述高压控制结构,用于控制所述电子源、所述电子加速结构和所述电子减速结构的电压。本发明还公开了一种电子束控制方法。
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