电子显微镜中测量和控制像差

    公开(公告)号:CN110546732B

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN201880026685.3

    申请日:2018-05-10

    Inventor: R·M·特朗普

    Abstract: 公开了一种电子显微镜系统和测量电子显微镜系统的像差的方法。光圈在所述电子显微镜的衍射平面处过滤电子束以穿过具有选定能量和动量的电子。在所述电子显微镜的像平面中的检测器处测量所述通过的电子的图像的位移。所述电子显微镜的像差系数由所述测量的位移和所述通过的电子的所述能量和动量中的至少一个确定。所述测量出的像差可用于改变所述电子显微镜或所述电子显微镜的光学元件的参数,从而控制所述电子显微镜的整体像差。

    多件式电极孔径
    143.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108369887B

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN201780004430.2

    申请日:2017-01-19

    Abstract: 一种用于离子注入系统的光学面板,该光学面板包括一对孔径组件。每对孔径组件各自包括第一孔径构件、第二孔径构件以及孔径固件,其中该孔径固件将第一孔径构件固定至第二孔径构件。孔径尖端可以同样固定至第二孔径构件。第一孔径构件、第二孔径构件、孔径尖端和孔径固件中的一个或多个由耐熔金属、钨、钨镧合金、钨钇合金和/或石墨和碳化硅中的一种或多种制成。孔径组件可以限定离子注入系统中的引出电极组件、接地电极组件或其他电极组件。

    用于调整来自带电粒子源的粒子束的强度的设备

    公开(公告)号:CN109196616B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201780016121.7

    申请日:2017-03-08

    Abstract: 一种用于调整沿着轴线(A0)发射的带电粒子束的强度的设备,该设备包括:4×N个连续的偏转系统(21,22,23,24),其中,N=1或2,偏转系统(21,22,23,24)沿着所述粒子束的轴线(A0)定位;针对每个偏转系统(21,22,23,24),用于施加偏转所述束的力并且用于改变所施加的力的装置;两个准直器(41,42),每个准直器具有槽(61,62),槽具有宽度从中心朝周边增加的开口,两个准直器分别位于第一偏转系统与第二偏转系统之间以及第三偏转系统与第四偏转系统之间;准直器(41)的槽(61,62)的开口面向所述束的发射轴线A0的两侧。

    带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法

    公开(公告)号:CN108604522B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201680081651.5

    申请日:2016-03-28

    Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的,提出一种带电粒子束装置,其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒,该带电粒子束装置具备:向对象物照射光的光源;以及控制装置,该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测,求出维持某个偏转状态的多个偏转信号,并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号,或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。

    带电粒子线装置以及使用其的观察方法、元素分析方法

    公开(公告)号:CN111033675A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201780094064.4

    申请日:2017-08-24

    Abstract: 简便地实现能够进行二次带电粒子的能量辨别的带电粒子线装置。带电粒子线装置,具有:带电粒子源(2);载置样品(15)的样品台(14);向样品(15)照射来自带电粒子源(2)的带电粒子线(5)的物镜(13);使向样品(15)照射带电粒子线(5)而放出的二次带电粒子(16)偏转的偏转器(17);检测由偏转器(17)偏转的二次带电粒子的检测器(18);对样品(15)或者样品台(14)施加正电压(V3)的样品电压控制部(19);以及控制偏转器(17)使二次带电粒子(16)偏转的强度的偏转强度控制部(20)。

    具有开槽外表面的静电元件

    公开(公告)号:CN110431650A

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:CN201880018758.4

    申请日:2018-03-19

    Abstract: 本文提供通过在导电束光学器件上提供沟槽或表面特征来增大导电束光学器件的表面积的方式。在一种方式中,导电束光学器件可为具有沿离子束线设置的多个导电束光学器件的静电过滤器的一部分,其中至少一个导电束光学器件包括形成在外表面中的多个沟槽。在一些方式中,可将电源供应器设置成与所述多个导电束光学器件连通,其中电源供应器被配置成向所述多个导电束光学器件供应电压及电流。所述多个沟槽可沿导电束光学器件的长度设置成螺旋形图案,和/或平行于导电束光学器件的纵轴进行取向。

    用于离子注入的组合静电透镜系统

    公开(公告)号:CN107112181B

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201580070493.9

    申请日:2015-12-28

    Abstract: 本发明提出用于以低能量将离子注入工件内的系统及方法。提供配置成生成离子束的离子源,其中,质量解析磁体被配置成质量解析该离子束。离子束可以是带状射束或经扫描的点状离子束。定位于质量解析磁体下游的质量解析孔径过滤离子束中的不良粒种。组合静电透镜系统被定位于质量分析器的下游,其中,使离子束的路径偏转并且大体上滤除离子束中的污染物,同时使离子束减速并平行化。工件固持与平移系统进一步被定位于组合静电透镜系统的下游并被配置成选择性使工件在一个或多个方向上平移通过离子束,在其中将离子注入工件内。

    用于调整来自带电粒子源的粒子束的强度的设备

    公开(公告)号:CN109196616A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201780016121.7

    申请日:2017-03-08

    Abstract: 一种用于调整沿着轴线(A0)发射的带电粒子束的强度的设备,该设备包括:4×N个连续的偏转系统(21,22,23,24),其中,N=1或2,偏转系统(21,22,23,24)沿着所述粒子束的轴线(A0)定位;针对每个偏转系统(21,22,23,24),用于施加偏转所述束的力并且用于改变所施加的力的装置;两个准直器(41,42),每个准直器具有槽(61,62),槽具有宽度从中心朝周边增加的开口,两个准直器分别位于第一偏转系统与第二偏转系统之间以及第三偏转系统与第四偏转系统之间;准直器(41)的槽(61,62)的开口面向所述束的发射轴线A0的两侧。

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