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    粒子線照射装置及び粒子線治療装置
    161.
    发明专利
    粒子線照射装置及び粒子線治療装置 有权

    公开(公告)号：JPWO2012023205A1

    公开(公告)日：2013-10-28

    申请号：JP2010543241

    申请日：2010-08-20

    Applicant: 三菱電機株式会社

    Inventor： 雅 片寄 ,  雅 片寄

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: A61N5/1077 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  G21K5/02 ,  H01J3/26

    Abstract: 照射野及び照射位置精度の組み合わせ等の粒子線照射における複数のパラメータの組み合わせを可変にし、多様な照射バリエーションの照射を行うことができる粒子線照射装置を得ることを目的とする。加速器(54)により加速された荷電粒子ビーム(3)を照射対象(11)に照射する粒子線照射装置(58)であって、荷電粒子ビーム(3)を走査する走査電磁石(1、2)と、荷電粒子ビーム(3)のビーム軸方向における走査電磁石(1、2)と照射対象(11)との距離を変更するように走査電磁石(1、2)を移動する走査電磁石移動装置(4)とを備えた。

    Charged particle beam device
    162.
    发明专利
    Charged particle beam device 审中-公开
    充电颗粒光束装置

    公开(公告)号：JP2013118060A

    公开(公告)日：2013-06-13

    申请号：JP2011264124

    申请日：2011-12-01

    Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

    Inventor： ARITA KEIICHI ,  SHINOHARA MASAHITO

    IPC: H01J37/04 ,  H01J37/305

    CPC classification number: H01J37/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G21K5/10 ,  H01J3/26 ,  H01J29/70 ,  H01J37/244 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/3175

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique advantageous in reducing a measurement error due to a positional shift of a knife edge.SOLUTION: A charged particle beam device including an irradiation unit for irradiating a subject with a plurality of charged particles beams includes: a measuring instrument for measuring characteristics of the plurality of charged particle beams; and a control unit. The measuring instrument includes: a plate which has a plurality of knife edges; and a sensor which detects charged particle beams entering through the plate. The control unit scans one charged particle beams selected from the plurality of charged particle beams relative to the measuring instrument so that the one charged particle beam crosses at least two knife edges among the plurality of knife edges, and generates correction information for correcting a measurement error of the measuring instrument due to deformation of the plate based upon output of the sensor during the scanning.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供有利于减少由于刀刃的位置偏移引起的测量误差的技术。 解决方案：包括用于用多个带电粒子束照射对象的照射单元的带电粒子束装置包括：用于测量多个带电粒子束的特性的测量仪器; 和控制单元。 测量仪器包括：具有多个刀刃的板; 以及检测通过板进入的带电粒子束的传感器。 控制单元相对于测量仪器扫描从多个带电粒子束中选出的一个带电粒子束，使得一个带电粒子束与多个刀刃之间的至少两个刀刃交叉，并产生用于校正测量误差的校正信息 由于在扫描期间基于传感器的输出而导致板的变形而导致的测量仪器。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

    Ion beam system and method of manipulating the same
    165.
    发明专利
    Ion beam system and method of manipulating the same 有权
    离子束系统及其操作方法

    公开(公告)号：JP2012079700A

    公开(公告)日：2012-04-19

    申请号：JP2011219560

    申请日：2011-10-03

    Applicant: Carl Zeiss Nts Gmbh ,  カール・ツァイス・エヌティーエス・ゲーエムベーハーCarl Zeiss NTS GmbH

    Inventor： BIBERGER JOSEF ,  PULWEY RALPH ,  ANDREAS ADOLF

    IPC: H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317

    CPC classification number: H01J3/26 ,  H01J3/14 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/31749

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an ion beam in an ion beam system having a scanning deflector to be deflected with high accuracy at a high deflection frequency (high speed) and without expanding the dynamic range of a deflection voltage in both high energy and low energy operation modes.SOLUTION: A deflector 39 is composed of three deflection electrode pairs consisting of first deflection electrodes 51a, 51b and 51c disposed at given intervals in the direction of an optical axis 5 of an ion beam 19 and second deflection electrodes 52a, 52b and 52c opposing the foregoing, and is so designed that different electric potentials can be applied to each deflection electrode from a controller 7 via a switch 61. In a first operation mode (for example, 30 keV ion beam energy), a deflection electric field is generated for all of the deflection electrode pairs, as shown by an arrow 55. In a second operation mode (for example, 1 keV ion beam energy), a deflection electric field is generated for only the deflection electrode pair 51a and 52a.

    Abstract translation: 要解决的问题：为了使具有扫描偏转器的离子束系统中的离子束以高偏转频率（高速）的高精度偏转，并且不使两个高的偏转电压的动态范围扩大 能源和低能量运行模式。 解决方案：偏转器39由三个偏转电极对构成，该偏转电极对由沿离子束19的光轴5的方向以一定间隔设置的第一偏转电极51a，51b和51c以及第二偏转电极52a，52b和 52c与上述相反，并且被设计成可以通过开关61从控制器7向每个偏转电极施加不同的电位。在第一操作模式（例如，30keV离子束能量）中，偏转电场为 对于所有偏转电极对产生，如箭头55所示。在第二操作模式（例如，1keV离子束能量）中，仅为偏转电极对51a和52a产生偏转电场。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

    球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置
    167.
    发明专利
    球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置 有权
    球形屈光度校正装置，球形抛光校正方法和充电颗粒光束装置

    公开(公告)号：JP2015026431A

    公开(公告)日：2015-02-05

    申请号：JP2013153367

    申请日：2013-07-24

    Applicant: 日本電子株式会社 ,  Jeol Ltd

    Inventor： SAWADA HIDEAKI ,  JIMBO YU

    IPC: H01J37/153

    CPC classification number: G02B27/0037 ,  G01N23/20 ,  G02B27/42 ,  G02B27/4205 ,  G21K1/08 ,  H01J3/04 ,  H01J3/12 ,  H01J3/26 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/1534

    Abstract: 【課題】像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正と軸上収差の補正とを個別に行うことができる球面収差補正装置を提供する。【解決手段】球面収差補正装置100は、像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、多段の六極子場を発生させる六極子場発生部110と、前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する八極子場重畳部120と、荷電粒子線を偏向させる偏向部130と、を含む。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够单独校正图像和衍射图案和轴向像差中的至少一个中的圆度的偏差的球面像差校正装置。解决方案：提供了一种用于带电粒子束装置的球面像差校正装置100 用于捕获图像和衍射图案，并且包括：用于产生多级六极场的六极场产生部分110; 用于将校正图像和衍射图案中的至少一个的圆形度的偏差的八极场叠加在多级六极场中的至少一个上的八极场叠加部分120; 以及用于偏转带电粒子束的偏转部分130。

    Da conversion device and electron beam exposure apparatus using the same
    168.
    发明专利
    Da conversion device and electron beam exposure apparatus using the same 有权
    DA转换装置和电子束曝光装置使用它

    公开(公告)号：JP2013223003A

    公开(公告)日：2013-10-28

    申请号：JP2012091762

    申请日：2012-04-13

    Applicant: Advantest Corp ,  株式会社アドバンテスト ,  Hitachi Information & Telecommunication Engineering Ltd ,  株式会社日立情報通信エンジニアリング

    Inventor： SATO TAKAMASA ,  YOSHINO RYOZO ,  TONO ATSUSHI

    IPC: H03M1/66 ,  H03M1/74

    CPC classification number: H03M1/66 ,  H01J3/26 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1504

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high speed and high voltage DA conversion device.SOLUTION: A DA conversion device 10 having a current output type DA converter 11, a low voltage operation type high speed operational amplifier 12 for generating a voltage corresponding to an output current of the DA converter, and a high voltage operation type buffer amplifier 13 connected to an output terminal of the high speed operational amplifier comprises positive and negative floating power supplies 14a, 14b separated from a power system as power supplies for driving the DA converter and the high speed operational amplifier. Midpoint potential portions of the floating power supplies are connected to an output terminal of the buffer amplifier, so that the DA converter and the high speed operational amplifier operate with an output voltage of the buffer amplifier being as a center.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供高速和高压DA转换装置。解决方案：具有电流输出型DA转换器11的DA转换装置10，用于产生对应于 DA转换器的输出电流和连接到高速运算放大器的输出端子的高电压操作型缓冲放大器13包括与电力系统分离的正和负浮动电源14a，14b，作为驱动DA转换器的电源 和高速运算放大器。 浮动电源的中点电位部分连接到缓冲放大器的输出端，使得DA转换器和高速运算放大器以缓冲放大器的输出电压为中心运行。

    Adjustment method of a particle beam therapy system and a particle beam therapy system
    170.
    发明专利
    Adjustment method of a particle beam therapy system and a particle beam therapy system 有权

    公开(公告)号：JP4499829B1

    公开(公告)日：2010-07-07

    申请号：JP2009548256

    申请日：2009-06-09

    Applicant: 三菱電機株式会社

    Inventor： 久 原田 ,  高明 岩田

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: H01J3/22 ,  A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1078 ,  A61N2005/1087 ,  H01J3/26

    Abstract: 照射自由度が高く、正常組織への照射量を低減できる粒子線治療装置を得ることを目的とする。
    供給された荷電粒子ビームB
    ec を治療計画に基づく３次元の照射形状に整形するよう走査出力する走査電磁石２と、走査電磁石２から走査出力された荷電粒子ビームB
    ec が走査電磁石２からアイソセンタＣまでに設定された複数の軌道７ａ，７ｂ，７ｃのうち、選択されたひとつの軌道を経てアイソセンタＣに到達するように荷電粒子ビームB
    ec の軌道を切り替える偏向電磁石４、５と、を備え、走査電磁石からアイソセンタまでの距離を長くとるようにした。
    【選択図】図１

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