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    VERTICAL MICROELECTRONIC FIELD EMISSION DEVICES AND METHODS OF MAKING SAME
    181.
    发明公开
    VERTICAL MICROELECTRONIC FIELD EMISSION DEVICES AND METHODS OF MAKING SAME 失效
    垂直微电子场发射器件及其生产工艺。

    公开(公告)号：EP0630518A1

    公开(公告)日：1994-12-28

    申请号：EP93906238.0

    申请日：1993-03-03

    Applicant: MCNC

    Inventor： JONES, Gary, Wayne ,  SUNE, Ching-Tzong

    IPC: H01J1 ,  H01J9 ,  H01J29 ,  H01J31

    CPC classification number: H01J3/021 ,  H01J1/3042 ,  H01J9/025 ,  H01J2201/319

    Abstract: Un émetteur (10) de champ microélectronique vertical comprend une partie supérieure conductrice (15) et une partie inférieure résistive (16) dans une colonne allongée (12) qui s'étend verticalement à partir d'un substrat horizontal (11). Une électrode émettrice (17) peut être formée à la base de la colonne, et une électrode d'extraction (18) peut être formée à proximité du sommet de la colonne. La colonne allongée réduit la capacité parasite de l'émetteur de champ micorélectronique afin de permettre un fonctionnement à grande vitesse, tout en produisant une résistance uniforme de colonne en colonne. L'émetteur de champ peut être formé tout d'abord par la formation de pointes (15) sur la face d'un substrat, puis de tranchées (22) dans le substrat (11) autour des pointes, de manière à former des colonnes (12) sur lesquelles reposent les pointes. Les tranchées sont remplies d'un diélectrique (19) et une couche conductrice (18) est formée sur le diélectrique. Selon une variante, des tranchées peuvent être formées dans la face du substrat (11) de façon à former des colonnes (12). Des pointes (15) sont ensuite produites au sommet des colonnes. Les tranchées sont remplies d'un diélectrique, et la couche conductrice est formée sur le diélectrique pour former les électrodes d'extraction.

    WIRE-ION-PLASMA ELECTRON GUN EMPLOYING AUXILIARY GRID
    185.
    发明授权
    WIRE-ION-PLASMA ELECTRON GUN EMPLOYING AUXILIARY GRID 失效
    线性电子枪使用辅助电缆

    公开(公告)号：EP0185045B1

    公开(公告)日：1989-03-15

    申请号：EP85902737.7

    申请日：1985-04-29

    Applicant: Hughes Aircraft Company

    Inventor： HARVEY, Robin, J. ,  GALLAGHER, Hayden, E. ,  SCHUMACHER, Robert, W.

    IPC: H01J3/02 ,  H01S3/097

    CPC classification number: H01J3/021

    Abstract: An improved Wire-Ion-Plasma Electron-gun (WIP E-gun) (50), having a very rapid electron beam current interruption capability. An auxiliary grid (65) is employed to provide a potential barrier to the reservoir of plasma ions in the ionization chamber (10), thereby containing these ions in the chamber (10) after the wire anode (15) is turned "OFF". The E-gun current fall time is reduced to the time required for the plasma potential to fall in the ionization chamber (10) after the wire anode (15) is turned "OFF". The WIP E-gun current fall time is reduced, from greater than fifteen microseconds for devices not employing the invention, to less than two microseconds.

    PLASMA CATHODE ELECTRON BEAM GENERATING SYSTEM
    186.
    发明公开
    PLASMA CATHODE ELECTRON BEAM GENERATING SYSTEM 失效
    等离子体阴极电子束生成系统

    公开(公告)号：EP0101043A3

    公开(公告)日：1986-12-30

    申请号：EP83107822

    申请日：1983-08-08

    Applicant: HELIONETICS, INC.

    Inventor： LEVATTER, JEFFREY I.

    IPC: H01J37/077 ,  H01J3/02 ,  H01J35/00 ,  H01J35/06 ,  H01S3/0977

    CPC classification number: H01J3/021 ,  H01J35/00 ,  H01S3/09775

    Abstract: A method and apparatus for generating an electron beam using a new and improved plasma cathode system, the electron beam being suitable for use, by way of example, in large area pulsed x-ray devices of the type used for preionization of the discharge volume in certain lasers. The plasma cathode includes an electrically conductive member 12, 17 surrounded by an insulating sleeve 11 with an outer electrically conductive member 13, the first-mentioned mem­ ber 12, 17 and a remote anode 16 being at ground potential, while the outer member 13 is maintained at a high negative potential relative to the first-mentioned member 12, 17 and the anode 16.

    電子放出素子アレイおよびこれを備えた撮像装置
    190.
    发明申请
    電子放出素子アレイおよびこれを備えた撮像装置 审中-公开
    电子发射器阵列和成像装置

    公开(公告)号：WO2013150562A1

    公开(公告)日：2013-10-10

    申请号：PCT/JP2012/002282

    申请日：2012-04-02

    Applicant: パイオニア株式会社 ,  パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社 ,  吉成 正樹 ,  大塚 正志

    Inventor： 吉成　正樹 ,  大塚　正志

    IPC: H01J1/304 ,  H01J31/26

    CPC classification number: H01J3/021 ,  H01J31/127 ,  H01J2203/0208 ,  H01J2203/0248 ,  H01J2203/026

    Abstract: 　本発明は、電子放出層から放出された電子ビームを十分に且つ効率良く絞り込むことができる電子放出素子アレイおよびこれを備えた撮像装置を提供することを課題としている。　上記の課題の解決手段として、電子放出素子アレイは、表面に複数のエミッションサイトを有する電子放出部と、電子放出部の上方に配設した電界機能部と、を備え、電界機能部は、各エミッションサイトに対応して設けられ、複数のエミッションサイトから放出された電子ビームを個々に集束させる個別集束電極層と、複数のエミッションサイトに対応して設けられ、複数のエミッションサイトから放出された電子ビームを一括して集束させる一括集束電極層と、を有している。

    Abstract translation: 本发明解决了提供以下问题：电子发射器阵列，其能够充分且有效地会聚从电子发射层发射的电子束; 以及设置有电子发射器阵列的成像装置。 作为解决上述问题的手段，该电子发射器阵列具有：在表面上具有多个发射部位的电子发射部; 以及布置在电子发射部分上方的电场功能部分。 电场功能部分包括：分离的聚焦电极层，其被布置为对应于各个发射部位，以便分开地会聚从多个发射部位发射的电子束; 以及集中聚焦电极层，其被布置为对应于所述多个发射部位，以便共同地会聚从所述多个发射部位发射的所有电子束。

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