-
公开(公告)号：CN1992161A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200610172775.2
申请日：2006-12-26
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67173 , H01L21/67225 , H01L21/67276 , H01L21/67742 , H01L21/67748
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备。其中，在与液浸曝光兼容的曝光装置中紧接在用于调整图案图像的曝光位置的对准处理之前或之后，将用于对准处理的虚设衬底从曝光装置传输到衬底处理设备。在衬底处理设备中，清洗处理装置清洗并干燥接收到的虚设衬底。将已清洗的虚设衬底从衬底处理设备传输回曝光装置。在曝光装置中使用清洁的虚设衬底执行对准处理，减少了曝光装置中机构如衬底台的污染。当虚设衬底具有斥水性时，在衬底处理设备中进行清洗使虚设衬底的斥水性恢复。
-
公开(公告)号：CN1812050B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200510129565.0
申请日：2005-12-06
Applicant: 株式会社迅动
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70991 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。
-
公开(公告)号：CN101414132B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200810166610.3
申请日：2008-10-15
Applicant: 株式会社迅动
IPC: G03F7/30
CPC classification number: G03F7/30 , B05D1/005 , G03F7/2041 , G03F7/3021 , H01L21/6715
Abstract: 一种显影装置，具有：旋转卡盘，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能够自由旋转；显影液喷嘴，其形成有排成一列的喷出显影液的多个喷出口，并且使各喷出口喷出的显影液以相互分离的状态附着到基板上；水平移动机构，在俯视观察时，其将喷出口的排列方向保持在朝向基板中心的一个方向，同时沿该一个方向移动显影液喷嘴，从而在俯视观察时于基板的大致中心和周边缘之间移动显影液喷嘴；控制部，其控制旋转卡盘和水平移动机构，使显影液分别以螺旋状从各喷出口附着到基板上，从而对基板进行显影。
-
公开(公告)号：CN101388327B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200810149148.6
申请日：2008-09-12
Applicant: 株式会社迅动
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在清洗了基板后，形成冲洗液的液层，覆盖基板的一面。接着，液体供给喷嘴从基板的中心部上方向外侧移动。液体供给喷嘴在从基板的中心部上方移动到规定距离时暂时停止。在此期间内，离心力使液层在薄层区域内切断，从而在液层的中心部形成干燥核斑。然后，液体供给喷嘴再次向外侧移动，从而使没有冲洗液的干燥区域在基板上以干燥核斑为起点扩大。
-
公开(公告)号：CN100592468C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200710006705.4
申请日：2007-02-02
Applicant: 株式会社迅动
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/30 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理装置，具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、抗蚀盖膜用处理区、抗蚀盖膜除去区、清洗/干燥处理区以及接口区。以与基板处理装置的接口区相邻的方式配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行基板的曝光处理。在清洗/干燥处理区的端部清洗单元中，清洗刷与旋转的基板的端部相抵接，来清洗曝光处理前的基板的端部。此时，修正基板的清洗位置。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100536066C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200710101081.4
申请日：2007-04-26
Applicant: 株式会社迅动
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70533 , G03F7/7075 , G03F7/70916 , G03F7/70991
Abstract: 一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。
-
公开(公告)号：CN100535757C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200510129564.6
申请日：2005-12-06
Applicant: 株式会社迅动
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、干燥处理区以及接口区。曝光装置以相邻于接口区的方式配置。干燥处理区具有干燥处理部。接口区具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥处理。
-
公开(公告)号：CN100520594C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200510129566.5
申请日：2005-12-06
Applicant: 株式会社迅动
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。
-
公开(公告)号：CN101158819A
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200710154353.7
申请日：2007-09-26
Applicant: 株式会社迅动
IPC: G03F7/30 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3028 , H01L21/67028 , H01L21/6715 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种消除在基板上的显影液被漂洗液置换时，在基板面内的不同位置产生显影液的浓度差的问题，从而能够防止在抗蚀膜面上发生斑痕状缺陷，而且能够减少显影液的使用量的方法。通过旋转卡盘将基板保持为水平姿势，并通过旋转马达使基板绕着铅直轴周围旋转，同时，从喷嘴吐出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行了显影处理之后，继续使基板旋转，使得在抗蚀膜上的显影液被离心力飞散而被除去，从而在基板表面上观察不到干涉条纹的时刻，从喷嘴吐出纯水向抗蚀膜上供给漂洗液而进行漂洗处理。
-
公开(公告)号：CN101136315A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710148349.X
申请日：2007-08-31
Applicant: 株式会社迅动
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , G03F7/00 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/31058 , G03F7/168 , H01L21/0276 , H01L21/6708 , H01L21/67259 , H01L21/67706
Abstract: 一种基板处理装置，其包括反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、抗蚀覆盖膜用处理区。在各个处理区中，在基板上形成反射防止膜、抗蚀膜和抗蚀覆盖膜。而且，将形成在基板的周缘部上的膜除去。通过将能够对膜进行溶解并除去的除去液供给到旋转的基板的周缘部上，实施形成在基板周缘部上膜的除去处理。在对膜的周缘部进行除去时，对基板的位置进行校正，以使得使基板的中心和旋转轴的中心一致。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
32
records
(took 0.053 seconds)
