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公开(公告)号：CN117427803B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202310910366.1
申请日：2023-07-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05B12/08
Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板的消耗的同时根据实际向基板喷出处理液的环境适当地调整喷出控制参数的技术。在第一调整工序(S1)中，基于进行模拟涂布时的第一压力波形对喷出控制参数进行调整。在第三调整工序(S3)中，基于按照通过第一调整工序(S1)调整的喷出控制参数进行实际涂布时的第二压力波形，判定是否重新调整喷出控制参数，在重新调整的情况下，基于进行模拟涂布时的第三压力波形重新调整喷出控制参数。在第四调整工序(S4)中，基于按照通过第三调整工序(S3)重新调整的喷出控制参数进行实际涂布时的第四压力波形，判定是否重新调整喷出控制参数，在重新调整的情况下，基于进行实际涂布时的第五压力波形重新调整喷出控制参数。
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公开(公告)号：CN118385100A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410102438.4
申请日：2024-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D3/00
Abstract: 本发明提供一种对发生于形成有涂覆膜的基板的四角附近的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及方法。减压干燥装置(1)用于使涂覆于具有矩形状的基板(9)的上表面的有效区域(AE)的涂覆膜(90)干燥。减压干燥装置(1)包括容纳基板的腔室(10)、从腔室(10)吸引气体使腔室(10)内的压力降低的减压机构(30)、对与基板相对的冷却面(40a)进行冷却的冷却部(40)。冷却部的冷却面(40a)包括与基板(9)的从有效区域(AE)的外缘向内侧离开的内侧部分(PI)相对的内侧区域(AI)、与基板的有效区域(AE)的四角部分(PC)相对的四角区域(AC)。冷却部构成为，使冷却面(40a)的四角区域(AC)的温度低于冷却面的内侧区域(AI)的温度。
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公开(公告)号：CN117619592A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311091614.0
申请日：2023-08-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及泵控制参数的调整方法、计算机程序、记录介质、喷出装置以及涂布装置，将用于从泵向喷嘴送出处理液的泵控制参数进行最优化，以使能够在实际的喷出动作中得到与目标一致的特性。本发明的泵控制参数的调整方法包括：调整工序，临时设定控制参数，从泵送出处理液，获取喷出压力曲线，调整控制参数，以使所获取的喷出压力曲线接近预先设定的目标曲线；基于所调整的控制参数，执行喷出动作，获取喷出压力曲线的工序；设定工序，设定与在调整工序中获取的喷出压力曲线与在喷出动作中获取的喷出压力曲线的差分对应的偏移量；以及再调整工序，再调整控制参数，以使在所获取的喷出压力曲线加上偏移量后的曲线接近目标曲线。
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公开(公告)号：CN114950809B
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202111353549.5
申请日：2021-11-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
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公开(公告)号：CN108855778B
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201810449468.7
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 一种涂敷技术和喷嘴，能够抑制喷嘴清扫处理中的喷嘴和喷嘴抵接构件的摩耗和破损且利用喷嘴在适当范围内涂敷涂敷液。涂敷装置具备：喷嘴，从设置于喷嘴主体部的顶端部的狭缝状的喷出口喷出涂敷液；喷嘴抵接构件，具有能够与顶端部抵接的凹部；驱动部，使喷嘴抵接构件相对于喷嘴从喷出口的延伸方向的一侧向另一侧相对地移动。顶端部具有：喷出口形成部，形成有喷出口；以及倾斜部，从喷出口形成部的一侧端部向延伸方向的一侧且向与喷出涂敷液的方向相反的一侧延伸。驱动部在使喷嘴抵接构件的凹部与倾斜部抵接且使喷嘴抵接构件沿着倾斜部相对地移动到喷出口形成部后，一边使凹部与喷出口形成部抵接一边使喷嘴抵接构件相对于喷出口形成部移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107433240B
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201710320161.2
申请日：2017-05-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/55
Abstract: 本发明提供喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法。根据本发明，能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动之前，喷洒器(61A)事先在倾斜面(26)上喷洒冲洗液(Lb)。因此，刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动时，由喷洒器(61A)事先喷洒的冲洗液(Lb)能够进入狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)与刮除器(61B)之间，发挥润滑剂的作用。结果，能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。
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公开(公告)号：CN115518828B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202210513193.5
申请日：2022-05-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供一种能够长期使用的狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置。本发明包括：块体，具有能够安装于狭缝喷嘴的第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过调整本体部向第二本体部的安装，突出部相对于第二本体部在狭缝喷嘴的第一本体部的相反侧，在相向方向上隔开第二间隙与第二本体部相向；以及间隙调整部，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整开口尺寸，所述扩大动作是通过第二间隙的减少而使第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离来扩大开口尺寸，所述狭小动作是通过第二间隙的增大而使第二本体部在吐出口的附近接近第一本体部来缩窄开口尺寸。
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公开(公告)号：CN118676049A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202311579580.X
申请日：2023-11-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 在本发明的基板处理装置、基板处理系统及它们的支撑销的配置更换方法中，多个支撑销装卸自如地安装于第一板的上表面，并且第一板通过磁力而能够装卸地与设置于腔室内部空间内的第二板结合。通过将第一板向上方提起而将与第二板的结合解除，将第一板从腔室搬出至外部，在腔室外变更安装于第一板的支撑销的配置，将第一板放回至腔室内并与第二板结合，由此实现支撑销的配置更换。能够以优异的作业性进行支撑销的配置更换。
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公开(公告)号：CN117438291A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310870363.X
申请日：2023-07-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供能够抑制基板的消耗的同时对吐出控制参数进行再调整的技术。在步骤S6中，评价通过步骤S5的实际涂布获取的实际涂布压力波形(Wr1)是否与第一理想波形(Wt1)相同。当在步骤S6中评价为实际涂布压力波形(Wr1)与第一理想波形(Wt1)不同的情况下，进行吐出控制参数的再调整。在吐出控制参数的再调整中，进行更新吐出控制参数的步骤S7、通过进行模拟涂布来获取模拟涂布压力波形的步骤S8以及评价模拟涂布压力波形与第二理想波形(Wt2)是否相同的步骤S9。
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公开(公告)号：CN116643491A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202211650928.5
申请日：2022-12-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供即使在使基板相对于喷嘴移动的移动控制存在限制条件的情况下也能够高效地调整移动控制参数的控制参数调整方法。控制参数调整方法包括：喷出数据准备工序(S20)，准备表示喷嘴(71)喷出的处理液的喷出量的时间变化的喷出数据；以及移动控制参数调整工序，在喷出数据准备工序后，对用于控制使基板(S)相对于喷嘴相对地移动的移动机构(5)的移动控制参数进行调整。移动控制参数调整工序包括：移动速度测量工序(S24)，测量根据设定的移动控制参数控制所述移动机构时的移动速度；以及评价值导出工序(S28)，使用喷出数据和施加了移动机构中的移动控制的限制条件的速度数据评价函数，导出移动速度测量工序中得到的速度数据的评价值。
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