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公开(公告)号：KR101990683B1
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：KR1020170089441
申请日：2017-07-14
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
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公开(公告)号：KR101550500B1
公开(公告)日：2015-09-04
申请号：KR1020130132098
申请日：2013-11-01
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: 본발명은대용량의파우더를효율적으로이송하여원자층을증착할수 있는파우더이송형원자층증착장치에관한것이다. 본발명의일실시예에의한파우더이송형원자층증착장치는서로격리되어있는복수의전구체챔버; 상기복수의전구체챔버내에모두관통되고, 다공성물질로이루어진이송부; 및주입된파우더를상기이송부를따라이송하게하기위한펌프를포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR101715223B1
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020150068010
申请日：2015-05-15
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/48
CPC classification number: C23C16/483 , C23C16/04 , C23C16/047 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/45563 , C23C16/46
Abstract: 본발명은, 소스가스및 퍼지가스를공급하여기판표면에원자층박막을증착시키는국부원자층선택박막증착장치에있어서, 반응챔버와, 상기반응챔버내에배치되고, 일면상에기판이배치되는스테이지와, 상기스테이지상부에상기스테이지와상대가동가능하게배치되는컴비네이션노즐부와, 상기기판에원자층박막을형성하기위한프리커서및 산화제를공급하는가스공급부가구비되고, 상기컴비네이션노즐부는, 상기기판의일면을선택적으로국부가열시키는레이저를조사하는레이저코어를구비하고, 상기가스공급부는, 적어도일부가상기레이저코어에근접배치되고상기기판의일면으로상기레이저코어에의하여선택적으로국부가열되는영역에가열된상기기판영역에흡착되는프리커서및 상기프리커서의리간드를제거하는산화제를제공하는것을특징으로하는국부원자층선택박막증착장치를제공한다.
Abstract translation: 本发明提供一种选择性区域原子层沉积装置，其通过供应源气体和净化气体将原子层薄膜沉积在基底上，该装置包括：反应室; 设置在所述反应室内的台，设置在所述台的一个表面上的基板; 组合喷嘴单元，设置在所述平台上方以相对于所述平台移动; 以及气体供给单元，其在基板上供给用于形成原子层薄膜的前体和氧化剂，其中所述组合喷嘴单元具有激光芯，所述激光芯施加激光束以选择性地局部加热所述基板的一个表面，并且所述气体 供给单元设置成使得其至少一部分与激光芯相邻，并且将前体和氧化剂供给到由激光芯选择性局部加热的基板表面上的区域，其中前体被吸附到 底物的加热区域和氧化剂除去前体的配体。
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公开(公告)号：KR101543858B1
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：KR1020130132081
申请日：2013-11-01
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: 본발명은난류를유발하여나노입자상에원자층을균일하게증착할수 있는원자층증착장치에관한것이다. 본발명의일실시예에의한원자층증착장치는수평위치를달리하는복수의퍼지가스유입구가형성된챔버; 상기챔버에존재하는유체를이동시키기위한펌프; 상기챔버와상기펌프사이에위치하여상기유체의유량을조절할수 밸브; 상기복수의퍼지가스유입구로유입되는퍼지가스의유입기간및 유량을조절하는유량조절부; 및상기펌프, 상기밸브, 및상기유량조절부를제어하는제어부를포함할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140108096A
公开(公告)日：2014-09-05
申请号：KR1020130132081
申请日：2013-11-01
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: The present invention relates to an apparatus for depositing an atomic layer. The apparatus can uniformly deposit the atomic layer on nanoparticles by generating turbulence. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for depositing an atomic layer may include a chamber on which a plurality of fuzzy gas inlets, arranged on different horizontal locations, are formed; a pump which transfers fluid existing in the chamber; a water valve which is located between the chamber and the pump and can adjust a flux of the fluid; a flux adjusting part which adjusts influx time and the flux of fuzzy gas entering into the fuzzy gas inlets; and a controlling part which controls the pump, the valve, and the flux adjusting part.
Abstract translation: 本发明涉及沉积原子层的装置。 该装置可以通过产生湍流将原子层均匀地沉积在纳米颗粒上。 根据本发明的一个实施例，用于沉积原子层的装置可以包括：在其上形成布置在不同水平位置上的多个模糊气体入口的腔室; 传送存在于腔室中的流体的泵; 位于腔室和泵之间并可调节流体通量的水阀; 调节进入模糊气体入口的模糊气体的流入时间和通量的通量调节部; 以及控制泵，阀和通量调节部的控制部。
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公开(公告)号：KR1020140107843A
公开(公告)日：2014-09-05
申请号：KR1020130021923
申请日：2013-02-28
Applicant: 현대자동차주식회사 , 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/45576 , C23C16/4417 , C23C16/45544 , C23C16/52
Abstract: The present invention relates to an apparatus for uniform atomic layer deposition (ALD) on powder using multi-directional and sequential supply of a source. According to an embodiment of the present invention, the apparatus may include: a reactor having a plurality of precursor supplying holes formed thereon; and a controlling part which controls the precursor supplying hole to be sequentially opened and closed.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用多向和顺序供应源的粉末上的均匀原子层沉积（ALD）装置。 根据本发明的实施例，该装置可以包括：反应器，其上形成有多个前体供应孔; 以及控制部件，其控制前驱体供给孔依次打开和关闭。
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公开(公告)号：KR102222436B1
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：KR1020190017250
申请日：2019-02-14
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: H01M8/1213 , H01M4/86 , H01M4/90 , H01M4/88 , H01M8/1246 , H01M8/124
Abstract: 본발명의나노다공구조의혼합전도기능층을포함하는고체산화물연료전지및 그제조방법은연료극을지지하는연료극지지체; 상기연료극지지체상에배치된연료극촉매층; 상기연료극촉매층상에배치된프로톤전도성의세라믹전해질층; 상기세라믹전해질층상에배치되고, 프로톤전도체물질과산소환원반응촉매물질이기 설정된중량비율로혼합된혼합전도물질을포함하는나노다공구조의혼합전도기능층; 및상기혼합전도기능층상에배치된공기극층을포함한다.
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公开(公告)号：KR101679903B1
公开(公告)日：2016-11-29
申请号：KR1020130099055
申请日：2013-08-21
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C28/00
Abstract: 제논플래시램프를이용한원자층증착장치및 방법이개시된다. 제논플래시램프를이용한원자층증착장치는제논플래시램프를이용순간적인복사열로어닐링공정을수행함으로써사용자가어닐링공정을원하는표층박막에만어닐링공정을적용할수 있다.
Abstract translation: 在本发明中公开了一种原子层沉积装置和使用氙闪光灯的方法。 使用氙闪光灯的原子层沉积装置可以仅使用用户希望通过使用氙闪光灯进行瞬时辐射热的退火处理来进行退火处理的表面层的薄膜进行退火处理。
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